「以造」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

４０μｍ以上６５μｍ以下の薄いフィルムを、表面が平滑となるように、かつ、高速で製造する。例文帳に追加

To manufacture a thin film that is 40 μm or more and 65 μm or less thick at high speed in such a way that the surface is smooth. - 特許庁

振動膜１には、５０度以上で且つ８０度以下のテーパ角を持つヒンジ構造１９が設けられている。例文帳に追加

The vibration membrane 1 comprises a hinge structure 19 having a taper angle that is ≥50° and ≤80°. - 特許庁

好ましくは、この蛍光体は合金を原料として製造され、発光ピーク波長が５９０ｎｍ以上、６５０ｎｍ以下である。例文帳に追加

The phosphor is preferably produced by using an alloy as the raw material and the luminescent peak wave length is ≥590 nm but ≤650 nm. - 特許庁

着色されたポリオレフィン製フィルムを、シール温度が２３０℃以上で、かつシール圧が０．１６ＭＰａ以上で成形する包装材の製造方法。例文帳に追加

The seal temperature of wrapping material is not lower than 230 °C and at least 1.6MPa seal pressure. - 特許庁

バルク３４Ａは、筋状構造となっており、短軸方向の平均的な筋状組織サイズが、０．０５μｍ以上１０μｍ以下となっている。例文帳に追加

The bulk 34A has a strip-shaped structure and an average strip-shaped structural size in a short axial direction is 0.05 μm or more and 10 μm or less. - 特許庁

吸湿による発熱エネルギー係数が５以上３０以下である繊維構造物を使用してなることを特徴とするインソール。例文帳に追加

The insole is constituted by using a fiber structure wherein a coefficient of exothermic energy generated by moisture absorption is ≥5 and ≤30. - 特許庁

粒径２００μｍ以上の粗粒そば粉を２５質量％以上含有するそば粉を用いることを特徴とするそば類の製造方法。例文帳に追加

The method for producing buckwheat noodles comprises using buckwheat flour containing 25 mass% of coarse-grained buckwheat flour each grain of which has a grain diameter of ≥200 μm. - 特許庁

また、前記樹脂微粒子のガラス転位温度（Ｔｇ）が１０℃以上、最低造膜温度（ＭＦＴ）が２５℃以上であることが好ましい。例文帳に追加

It is preferred that the resin fine particles have a glass transition temperature (Tg) of ≥10°C and a minimum film-forming temperature (MFT) of ≥25°C. - 特許庁

前記導電性粒子は、配線板の製造工程で加えられる温度以下且つ１００℃以上の固相溶融温度を有する。例文帳に追加

The particles 3 have a solid phase fusing temperature of a temperature, which is applied in a process of manufacturing a wiring board, or lower and 100°C of higher. - 特許庁

簡単な構造で以て、スイッチングガスの供給の制御に応じ３以上の方向へのガス流路の切替えを実現する。例文帳に追加

To switch a gas flow passage in three or more directions according to the control of switching gas supply with a simple structure. - 特許庁

そして、該中間冷却工程が終了後、鍛造体を５００℃以上７００℃以下の第二温度域でＶ系析出物を時効析出させる。例文帳に追加

Then, after completing the intermediate-cooling process, aging precipitation of the V-base precipitation in the forged body is carried out in a second temperature zone from ≥500°C to ≤700°C. - 特許庁

（２）飽和まで吸水した時のＤ硬度が５０度以上６５度以下である素材からなる発泡構造を有するの研磨パッド。例文帳に追加

The polishing pad having an expanded structure consists of a material whose D hardness in water absorption to saturation is 50 degrees or more and 65 degrees or less. - 特許庁

Ｓ含有量が0.1 質量％以下、さらには、塩基度が1.0 以上であるモールドパウダを用いて連続鋳造を行う。例文帳に追加

The continuous casting is performed by using the mold powder with an S content of 0.1 mass % or less, and moreover, with basicity of 1.0 or more. - 特許庁

"A：4月1日以降に製造された「特定容器包装」および同日以降に輸入された商品に付された容器包装に罰則の適用があります。"例文帳に追加

A: The penalty article is applied to the containers and packaging manufactured on and after April 1, or to the containers and packaging accompanied with articles imported on and after April 1. - 経済産業省

他方、卸売業では、製造業と比べると 1,000 人以上の規模の企業の占める割合が低く、反対に 499 人以下の企業のシェアが高い。例文帳に追加

In contrast, when comparing with the manufacturing industry, the ratio of wholesalers with 1,000 or more employees is lower than manufacturers, and conversely enterprises with 499 or less show a high share. - 経済産業省

天皇はこの地に寺院を造ることを決め、承保2年（1075年）に造営を始め、以後長期にわたって多数の建物を造った。例文帳に追加

The Emperor resolved to build a temple on the site and construction work began in 1075 - leading to the long-term construction of numerous buildings.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

また、春日造の一種とみられる隅木入春日造（熊野造）は、熊野信仰の伝播により中世以降、日本全国に広まった。例文帳に追加

Sumigiiri kasuga-zukuri style (kumano-zukuri style) which was regarded as one type of kasuga-zukuri style, also spread throughout Japan after the medieval period due to propagation of Kumano belief.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

一円硬貨1枚を製造するのにかかるコストは1円以上で、造れば造るほど赤字となっているという話は有名である。例文帳に追加

It is well known that the cost to mint a one-yen coin is higher than one yen, and the more they mint, the more money they lose.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

０．１３μｍ以下工程で製造することができる新規な構造のイメージ装置及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an imaging device of a new structure, which can be manufactured through a process of ≤0.13 μm and its manufacturing method. - 特許庁

プラスチック構造体は、パルス幅が１０^-12秒以下のレーザーの照射により、構造が変化した構造変化部を有する。例文帳に追加

This plastic structural body has a structure changed part whose structure has been changed by irradiating a laser having a pulse width of 10^-12 seconds or less. - 特許庁

構造体のアスペクト比ｈ／ｒ（ｒ：構造体の平均半径、ｈ：構造体の平均高さ）は、０．５０を超え１．５０以下である。例文帳に追加

The structures have an aspect ratio h/r ( where r denotes an average radius of the structures and h denotes an average height of the structures) of more than 0.50 and not more than 1.50. - 特許庁

これにより、被転造素材Ｍに歯数１３以下の少数歯スプラインを、ウォームの転造と同時に、転造により形成することができる。例文帳に追加

Thus, the spline having a small number of gears of ≤13 can be form-rolled on the material M simultaneously with the form rolling of the worm. - 特許庁

本発明は、最悪条件以外でも放熱構造を分割した構造とすることにより、効率的に放熱を行う放熱構造を提供する。例文帳に追加

Temperature sensors 9 and 10 with different temperature setting values are mounted on a radiator 1 for conducting heat being generated from a heat generation part to a fin for cooling. - 特許庁

一又は二以上の凹みを備えた鋳造され鍛造される部分の製造方法及びそれを実施する装置例文帳に追加

PRODUCTION METHOD AND EQUIPMENT OF PART HAVING ONE OR TWO OR MORE RECESSES, TO BE CAST AND FORGED - 特許庁

シリコン基板以外の基板で構成されるスタック構造及びスタック構造の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a stack structure constituted of a substrate other than a silicon substrate, and its manufacturing method. - 特許庁

この溶液に炭酸ナトリウムを適量加え、３０〜５０℃で１日以上培養後、生成した沈殿物を洗浄、乾燥し、カルシウムとマグネシウムをそれぞれ２０％以上、１０％以上含有し、かつ、ヒ素と重金属をそれぞれ２ｐｐｍ以下、２０ｐｐｍ以下のドロマイトを製造する。例文帳に追加

The dolomite contains ≥20 wt.% of calcium and ≥10 wt.% of magnesium, and has ≤2 ppm of arsenic and ≤20 ppm of a heavy metal. - 特許庁

平均重合度１００以上のセルロースを、超臨界水または亜臨界水と０．０１秒以上５秒以下接触反応させ、その後冷却して、亜臨界水と１秒以上１０分以下接触反応させて加水分解することを特徴とするグルコース及び／又は水溶性セロオリゴ糖の製造方法。例文帳に追加

This method for producing glucose and/or the water-soluble cellooligosaccharide comprises hydrolyzing cellulose ≥100 in mean degree of polymerization by contact reaction with supercritical or subcritical water for 0.01-5 s, cooling and then further contact reaction with subcritical water for 1 s to 10 min. - 特許庁

溶融粘度３３００Ｐａ・ｓ以上のポリフッ化ビニリデン系樹脂を８０重量％以上９９．９重量％以下、ポリビニルピロリドン系樹脂を０．１重量％以上２０重量％以下含有し、三次元網目構造を有することを特徴とするポリフッ化ビニリデン系樹脂製分離膜。例文帳に追加

The separation membrane made of a polyvinylidene fluoride resin is provided which contains 80-99.9 wt.% of the polyvinylidene fluoride resin with a melt viscosity of 3,300 Pa s, 0.1-20 wt.% of the polyvinylpyrrolidone resin, and has three-dimensional network structure. - 特許庁

厚さ１２．５μｍ以上１２５μｍ以下、複屈折が０．１２以上のポリイミドフィルムを２８００℃以下又は３０００℃以下で熱処理することにより、室温に対する７７Ｋにおける電気抵抗比、又は室温に対する４Ｋにおける電気抵抗比が小さい人造のフィルム状グラファイトを得る。例文帳に追加

A polyimide film having a thickness of 12.5 to 125 μm and a birefringence of ≥0.12 is heat-treated at ≤2,800°C or ≤3,000°C, so as to obtain the artificial film-like graphite in which electric resistance ratio in 77K to room temperature or electric resistance ratio in 4K to room temperature is low. - 特許庁

三次元網状気孔構造からなるセラミックス多孔体であって、気孔率が８５％以上９９％以下であり、かつ、気孔径１００μｍ以上２０００μｍ以下の気孔が前記セラミックス多孔体に占める体積が５０％以上であることを特徴とするセラミックス超多孔体を用いる。例文帳に追加

Pores having pore size of 100-2,000 μm accounts for ≥50 vol% of the ceramic porous body. - 特許庁

芳香族ポリアミドからなるフィルムであって、該フィルムが大きさ５ｎｍ以上６００ｎｍ以下のミクロドメイン構造を有し、表面粗さＲａが０．２５ｎｍ以上２５ｎｍ未満であり、かつ面配向係数が０．１６以上０．６０以下であることを特徴とする芳香族ポリアミドフィルム。例文帳に追加

The aromatic polyamide film is composed of an aromatic polyamide, contains a micro-domain structure having a size of ≥5 nm and ≤600 nm and has a surface roughness Ra of ≥0.25 nm and <25 nm and a plane orientation coefficient of ≥0.16 and ≤0.60. - 特許庁

原料生物から一回も溶解工程を経ずに製造された脱アセチル化度６０％以上、１質量％溶液粘度が１．５ｍＰａ・ｓ以上１，０００ｍＰａ・ｓ以下かつ粒径１００μｍ以下の粒子が９０％以上であることを特徴とするキトサン微粒子。例文帳に追加

Fine chitosan particles are characterized by being produced from a living thing without passing through a dissolution process and having a deacetylation degree of ≥60%, 1 mass% solution viscosity of 1.5 to 1,000 mPa s, and a ≤100 μm diameter particle content of ≥90%. - 特許庁

１０ギガヘルツにおける比誘電率が３.5以下又は誘電正接が０.0０６以下であり、融点が２４０℃以上、比重が１.5以下、さらには相対結晶化度が５０％以上であるシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を主とする材料からなる電子部品。例文帳に追加

An electric part comprises materials mainly composed of styrene based polymer having a syndiotactic structure, wherein the dielectric constant is not more than 3.5 or the dielectric loss tangent is not more than 0.006 at 10 GHz, the melting point is not lower than 240°C, the specific gravity is not more than 1.5, and the relative degree of crystallization is not less than 50%. - 特許庁

所定の成分組成になる鋼スラブを素材とし、２回以上の冷延を利用して方向性電磁鋼板を製造するに際し、最終冷間圧延を除くいずれかの冷間圧延に先立って、５００℃以上７５０℃以下の温度範囲で、１０分以上４８０時間以下の熱処理を行う。例文帳に追加

In the production of the oriented electromagnetic steel plate by using as a raw material a steel slab having a predetermined component composition and using cold rolling two or more times, heat processing for between 10 minutes and 480 hours at a temperature range of 500°C to 750°C is performed before one of the cold rollings, except the final cold rolling. - 特許庁

また、前述の水和硬化性組成物 100重量部に、水５重量部以上、 40 重量部以下を加えて混練・成形した後、 0.5 Kg/cm^2 以上の水蒸気分圧下で、 80 ℃以上、 300℃以下の温度に加熱することにより得られる、成形硬化物及びその製造方法である。例文帳に追加

The compacted hardened product is obtained by adding water of 5 to 40 pts.wt. to 100 pts.wt. of the hydration hardenable composition, kneading and compacting them, and thereafter heating the compact at 80 to 300°C under the water vapor partial pressure of ≥0.5 kg/cm^2. - 特許庁

平均粒径が０．１μｍ以上０．６μｍ以下であり、最大粒径が５μｍ以下であり、多面体形状の粒子からなるジルコニア粉末を成形し、常圧で１２００℃以上１４００℃以下の温度で保持して焼結することを特徴とするジルコニア焼結体の製造方法。例文帳に追加

The method for producing the zirconia sintered compact is characterized by forming a zirconia powder having an average particle diameter of 0.1-0.6 μm and the maximum particle diameter of ≤5 μm, and comprising particles each having a polyhedron shape, and sintering the obtained formed body under normal pressure while keeping the temperature in the range of 1,200-1,400°C. - 特許庁

（ｉ）全細孔総容積が０．３ｍｌ／ｇ以下、（ii）Ｎａ分が４５０ｐｐｍ以下、又は（iii）全細孔総容積が０．４ｍｌ／ｇ以下又は顆粒硬度が１５％以下であり且つＮａ分が１０００ｐｐｍ以下であるソルビン酸カリウム造粒物。例文帳に追加

This granulated material of potassium sorbate has (i) ≤0.3 ml/g total volume of the whole pores, (ii) ≤450 ppm Na content or (iii) ≤0.4 ml/g total volume of the whole pores or ≤15% granule hardness and ≤1,000 ppm Na content. - 特許庁

軟化点が１３００℃以上１７００℃以下のシリカガラスからなり、平均粒子径が５０μｍ以上２０００μｍ以下、かつ、粒子の平均円形度が０．９以上である非破砕の合成シリカ粒子を主原料として、火炎溶融法により融着させて、気泡含有シリカガラスを製造する。例文帳に追加

The bubble-containing silica glass is manufactured by using non-crushed synthetic silica particles composed of silica glass having ≥1,300°C to ≤1,700°C softening point, ≥50 μm to ≤2000 μm average particle diameter and ≥0.9 average particle circularity as a main raw material and fusing the raw material by a flame melting method. - 特許庁

キチンを３０％以上の濃塩酸を用いて、反応温度５℃以上３０℃以下にて加水分解する加水分解工程を有し、製造するキチン分解物の種類に応じて前記加水分解工程における反応時間を１時間以上１２０時間以下の範囲で設定する。例文帳に追加

There is provided the production method comprising a hydrolysis step of hydrolyzing chitin at a reaction temperature of ≥5°C and ≤30°C by using concentrated hydrochloric acid of ≥30%, wherein the reaction time of the hydrolysis step is set in a range of ≥1 h and ≤120 h according to the kind of chitin decomposition products to be produced. - 特許庁

本発明の機械構造鋼管用熱熱延鋼板は、鋼の表層部において、ミクロ組織の80％以上がベイナイトであり、ビッカース硬さＨｖが210以上300以下であり、ベイナイトの長軸長さの平均値が5μｍ以下であり、平均粒界炭化物粒径が0.5μｍ以下である。例文帳に追加

In the hot-rolled steel plate for a steel tube for machine structural purposes, in the surface layer part of the steel, ≥80% of the microstructure is composed of bainite, Vickers hardness Hv is 210 to 300, the average value of the major axis length of the bainite is ≤5 μm, and the average boundary carbide particle diameter is ≤0.5 μm. - 特許庁

ポリビニルアルコール系樹脂又はその成形物を原料とした炭素質物質を製造する際に、酸化性雰囲気下において、該原料を原料の融解温度以下の温度から３３０℃以上３７０℃以下の温度まで昇温して熱処理する３３０℃以上３７０℃以下の温度にて熱処理する例文帳に追加

When producing a carbonaceous material using a polyvinyl alcohol resin or a molding thereof as a starting material, in an oxidizing atmosphere, the starting material is heated from a temperature below the melting temperature of the starting material to 330-370°C and heat-treated at 330-370°C. - 特許庁

０．５原子％以上４０原子％以下の水素とＧａとチッ素元素とを含有する微結晶化合物を構造内に５０％以上有し、微結晶の大きさが０．１μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする。例文帳に追加

This microcrystalline compound optical semiconductor includes a microcrystalline compound of 50% or more in its structure, which contains hydrogen, Ga, and a nitrogen element in a range from 0.5 atom% or more to 40 atom% or less, and the size of microcrystal is 0.1 μm or larger to 100 μm or smaller. - 特許庁

色材吸光度が５万以下、色材濃度が４％以上、２０％以下であり、有機溶媒量が２５％以上、６０％以下である捺染用インクジェットインクを、濾過した後に加熱処理を施すことを特徴とする捺染用インクジェットインクの製造方法。例文帳に追加

In the method of manufacturing the inkjet ink for printing, the inkjet ink for printing having color material absorbance of ≤50,000, color material concentration of 4-20% and an organic solvent content of 25-60% is filtered and subsequently subjected to a heat-treatment. - 特許庁

ＬａＡｌＯ３の粉末を４０℃／分以上の昇温速度で１６００℃以上１８００℃以下の焼結温度に加熱した後、前記焼結温度に３分以上４５分以下の時間保持して焼結する焼結工程をＬａＡｌＯ３セラミックスの製造方法。例文帳に追加

The method for producing LaAlO3 ceramics has a sintering step wherein after heating powder of LaAlO3 to the sintering temperature of 1,600°C to 1,800°C at a rate of temperature increase of 40°C/min or more, the powder is sintered by maintaining for 3 min to 45 min at the sintering temperature. - 特許庁

５員環及び／又は６員環の芳香環が６以上、２０以下結合してなり、且つ、下記式（１）で表わされる部分構造を有し、移動度が１．０×１０^-3ｃｍ^2／Ｖｓ以上であり、固体状態でのイオン化ポテンシャルが、４．８ｅＶ以上、５．６ｅＶ以下である化合物を用いる。例文帳に追加

The organic semiconductor material uses such compound as 6-20 aromatic rings of 5-member ring and/or 6-member ring are coupled, having a partial structure represented by a formula (1), with mobility being 1.0×10^-3 cm^2/Vs or higher and ionizing potential being 4.8-5.6 eV in solid state. - 特許庁