「位相シフト」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

位相遅れ要素３３の時定数は、シフト位置情報などを基に時定数設定部３４が設定する。例文帳に追加

The time constant of the phase lag element 33 is set by a time constant setting section 34, based on the information about shift position and the like. - 特許庁

全波整流回路２４０（駆動振幅制御部の一部）は、位相シフトされた信号を２値化して切り替え制御信号２７を生成する。例文帳に追加

A full-wave rectification circuit 240 (a part of driving amplitude control section) generates a switching control signal 27 by binarizing a phase-shifted signal. - 特許庁

簡便に所望の透過率を得ることができ、薬品耐性が良い位相シフトマスクブランクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a phase shift mask blank easily realizing desired transmittance and having favorable chemical resistance. - 特許庁

位相シフト法による形状測定方法及び形状測定装置、並びに複素振幅計測方法及び複素振幅計測装置例文帳に追加

SHAPE MEASURING METHOD AND SHAPE MEASURING DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD, COMPLEX AMPLITUDE MEASURING METHOD, AND COMPLEX AMPLITUDE MEASURING DEVICE - 特許庁

位相特性が−１８０度から１８０度の範囲に収まるようシフト処理をし、第３の周波数特性を算出する。例文帳に追加

Shift processing is performed so that a phase characteristic falls into the range from -180 degrees to 180 degrees, to thereby calculate the third frequency characteristic. - 特許庁

第２の光からの光の第１部分と第２部分との間の所定の位相シフトを生じさせる第２の電圧が計算される。例文帳に追加

A second voltage which produces a predetermined phase shift between the first part and the second part of the light from the second light source is computed. - 特許庁

解析ユニットは、基板を走査して得られた画像データを利用して、位相シフト法により被検査面の高さを検査する。例文帳に追加

An analysis unit uses the image data obtained by scanning the board to inspect the height of the surface to be inspected by a phase shift method. - 特許庁

増幅信号の位相シフトを抑えることができる電界効果トランジスタ及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a field-effect transistor that can suppress the phase shift of an amplifying signal, and to provide its manufacturing method. - 特許庁

前記第１動き履歴データ中の時刻情報を所定の時間間隔ΔＴだけ位相をずらし、第１シフトデータを生成する。例文帳に追加

Time information in the first motion record data is shifted by the phase of a specified time interval ΔT to create first shift data. - 特許庁

分光装置１７において、ポンプ光Ｐに対する、位相変調された第２プローブ光Ｓｂの周波数のシフト量を測定した。例文帳に追加

A shift amount of a frequency of the phase modulated second probe light Sb to the pump light P is measured at the spectroscopic device 17. - 特許庁

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。例文帳に追加

To form a fine pattern without using an auxiliary pattern method and a phase shift mask or the like, and to easily inspect the fault of the mask. - 特許庁

これにより、ハーフトーン型位相シフトマスクの製造時において、遮光膜の除去前後における膜応力差が低減される。例文帳に追加

As a result, the difference in the film stress before and after the removal of the light shielding film is reduced in manufacturing the halftone type phase shift mask. - 特許庁

そして、被写体像の明るさが適正な明るさで維持されるように、ロータリーシャッタの回転位相をシフト制御する。例文帳に追加

The phase of rotation of the rotary shutter is shifted/controlled so that the lightness of the image of the subject is appropriately retained. - 特許庁

位相シフト干渉縞取得部４００は、無干渉光束生成手段３００からの無干渉光束を３以上の光束に分割する。例文帳に追加

The acquisition part 400 divides the non-interference light beam from the generation means 300 into three or more light beams. - 特許庁

時間間引きフィルタ２２は、垂直位相シフトフィルタ２１の出力に基づいて、生徒画像としての５０Ｈｚインターレース画像を生成する。例文帳に追加

A time thinning filter 22 generates a 50 Hz interlace picture as a student picture based on the output of the filter 21. - 特許庁

第１の光源からの光の第１部分と第２部分との間の所定の位相シフトを生じさせる第１の電圧が計算される。例文帳に追加

A first voltage which produces a predetermined phase shift between the first part and the second part of the light from the first light source is computed. - 特許庁

空間光変調器を用いた分散補償器であって、所望の位相シフト関数を再現可能なものを提供すること。例文帳に追加

To provide a dispersion compensator using a spatial light modulator which can reproduce a desired phase shift function. - 特許庁

高温領域における光出力の低下を低減可能な位相シフト分布帰還型半導体レーザを提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift distribution feedback type semiconductor laser can reduce a drop of optical output in a high-temperature region. - 特許庁

Ｍ系列発生回路１０００と、位相シフト回路１００７と、部分系列制御回路１０１６とが設けられている。例文帳に追加

The device is provided with an M sequence generating circuit 1000, a phase shift circuit 1007 and a partial sequence control circuit 1016. - 特許庁

交番位相シフト・マスク・リソグラフィのマスク・パターンを生成する方法および装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for generating a mask pattern for alternating phase-shift mask lithography. - 特許庁

位相シフトマスクのマスクパターンを、遮光パターンと、露光光を透過する第１、第２の透過パターンとから構成する。例文帳に追加

The mask pattern of a phase shift mask has a light shielding pattern and first and second transmitting patterns which transmit exposure light. - 特許庁

測定装置１８は、作製されたハーフトーン位相シフトマスク１０の透過率を測定して制御装置２０へ出力する。例文帳に追加

A measuring instrument 18 measures the transmittance of the manufactured halftone phase shift mask 10 and outputs the transmittance to a controller 20. - 特許庁

上記スパッタリングターゲットを用いてハーフトーン型位相シフトマスク、及びブランクを製造すること。例文帳に追加

The above sputtering target is used to produce a halftone phase shift mask and a blank. - 特許庁

シャドーイング効果が小さく、且つ位相シフト露光が可能で、十分な遮光枠性能を持つ反射型マスクを提供する。例文帳に追加

To provide a reflection-type mask which has a reduced shadowing effect and is capable of phase shift exposure with sufficient shading frame performance. - 特許庁

超音波がシート部材、例えば紙を通るとき、超音波信号に位相シフトと振幅の減少の双方が起こる。例文帳に追加

When an ultrasonic wave passes through a sheet member, for example, paper, both a phase shift and a reduction in amplitude occur in the ultrasonic wave signal. - 特許庁

この位相シフトマスクを使用する半導体素子の製造方法は、基板にフォトレジスト層を形成する工程と、位相シフトマスクを用いてこのフォトレジスト層を露光する工程と、このフォトレジスト層を現像する工程とを含む。例文帳に追加

The method for manufacturing the semiconductor element using this phase shift mask includes the steps of: forming a photoresist layer on the substrate; exposing the photoresist layer to light with the use of the phase shift mask; and developing the photoresist layer. - 特許庁

透明基板上にハーフトーン位相シフト層と実質的な遮光膜とが積層されているハーフトーン位相シフトフォトマスク形成用のブランクスであって、前記実質的な遮光膜が、タンタルを主成分とする１層を含む、単層または多層膜からなる。例文帳に追加

The substantially shading film comprises a monolayer or multilayer film including one tantalum-base layer. - 特許庁

一態様において、回折光学素子は、この回折光学素子が有効波長範囲内の赤外線光を位相シフトできるように、それぞれの厚さが選択された複数のアモルファスシリコン位相シフト層(14-20)を含む多層構造体(10)を形成することにより作られる。例文帳に追加

The diffraction optical element is prepared by forming a multilayered structure (10) containing a plurality of amorphous silicon phase shift layers (14 to 20) which have thicknesses selected so that the diffraction optical element can shift the phases of infrared light being within an effective wavelength region. - 特許庁

透明基板１０１上のハーフトーン位相シフト層が、タンタル、シリコン、及び、酸素を主成分とする１層１０３と、タンタルを主成分とし実質的にシリコンを含まない１層１０２とを少なくとも含む多層膜で構成されているハーフトーン位相シフトフォトマスク及びブランクス１０４。例文帳に追加

The blanks 104 and the halftone phase shift photomask have a halftone phase shift layer on a transparent substrate 101 and the phase shift layer comprises a multilayer film including at least a layer 103 consisting essentially of tantalum, silicon and oxygen and a layer 102, based on tantalum and not substantially containing silicon. - 特許庁

低コストで切削加工の容易、かつ精度の向上した凸形状から凹形状の金駒により射出成形した凸形状の位相シフト素子を凹形状の位相シフト素子に代えて対物レンズに用いて、波長補正することが可能となる。例文帳に追加

The projecting phase shift element injection-molded by a recessed metal mold from a projecting shape easily cut at low costs with enhanced accuracy is used for an objective lens instead of a recessed phase shift element to correct wavelength. - 特許庁

そして、各組に属するホールと対応するホール用透光部１２及び２２を有する第１のハーフトーン型位相シフトマスク１０及び第２のハーフトーン型位相シフトマスク２０を用いて同一のレジスト膜に対してパターン露光を２回行なう。例文帳に追加

An identical resist film is pattern-exposed twice with the first half tone phase shift mask 10 and the second half tone phase shift mask 20 each having translucent sections 12 and 22 for the holes corresponding to the holes belonging to each group. - 特許庁

この回路は、可変位相シフト回路の入力に接続された入力信号Ｓｉｎを入力する同期入力ｉｎ１と、位相シフト回路の出力に接続された、出力信号Ｓｏｕｔを出力する少なくとも１個の出力ｏｕｔ１とを有する同期発振器ＯＳを含む。例文帳に追加

The circuit includes a synchronous oscillator OS having a synchronous input in1 connected to the input of the variable phase shift circuit for inputting the input signal Sin and at least one output out1 connected to the output of the phase shift circuit for outputting the output signal Sout. - 特許庁

光の回折や散乱により未露光領域においてコーナーが丸みを帯びる問題、いわゆるコーナーラウンド問題(corner round problem)を解消するための３つの異なる位相シフト領域を有する位相シフトマスクおよびその製造方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a phase shift mask having three different phase shift regions for eliminating the problem that corners have roundness in unexposed regions by diffraction and scattering of light, i.e., a corner round problem and a method for manufacturing the same. - 特許庁

耐薬品性、耐光性が良好で、レジスト膜に対して電子線描画してパターニングする際にも、チャージアップせずに正確なパターン描画ができるハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a halftone phase shift mask blank and a halftone phase shift mask having proper chemical resistance and light resistance and ensuring accurate pattern drawing without a charge-up phenomenon on patterning a resist film by electron beam lithography. - 特許庁

媒体は、３つの波が媒体中コヒーレンス長進めば、値がπである伝搬位相シフトを３つの波間に引き起こし、および３つの波が媒体中を周期的距離を進むごとに値０ ｍｏｄｕｌｏ ２πで補償される伝搬位相シフトを３つの波間に引き起こす。例文帳に追加

The medium induces between three waves a propagation phase-shift that has a value π if the three waves travel a coherence length in the medium and that is compensated at the value 0 modulo 2π each time that the three waves travel a periodic distance in the medium. - 特許庁

そして、位相シフタ２１〜２ｎは、上記シフト量だけ水平同期信号および垂直同期信号の位相をシフトさせ、これと駆動クロックに基づいて同期信号生成部３１〜３ｎが、上記映像機器Ｖ１〜Ｖｎに与える同期信号をそれぞれ生成するようにしたものである。例文帳に追加

The phase shifters 21 to 2n shift a horizontal synchronizing signal and a vertical synchronizing signal by the shift quantities and synchronous signal generation parts 31 to 3n generate synchronizing signals to be supplied to the video apparatuses V1 to Vn according to the synchronizing signals and a driving clock. - 特許庁

タップ重心検出回路４０は、適応イコライザ１６のタップの重心の変化を検出し、その結果に応じて位相シフト回路４２において位相誤差を微少量だけ適宜シフトさせ、競合による等化特性劣化を防ぐ。例文帳に追加

A tap centroid detecting circuit 40 detects a change in the tap centroid of the adaptive equalizer 16 and corresponding to the result, a phase error is appropriately shifted just a little by the phase shift circuit 42 so that equalization characteristic degradation caused by competition can be prevented. - 特許庁

基板掘り込みタイプのレベンソン型位相シフトフォトマスクを作製のための、描画装置用フォトマスクデータの補正方法であって、位相シフトマスク製造プロセスの製造余裕度を向上させることができ、且つ、線状パタンの実際の幅と長さを考慮した方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method which can improve the degree of production margin in a phase shift mask manufacturing process and takes the actual width and length of a linear pattern into consideration as a correcting method for photomask data for a drawing device for manufacturing a substrate digging type Levenson phase shift photomask. - 特許庁

本発明は、フォトレジストに転写されたパターンの寸法が、露光回数が多くなっても変化しない位相シフトマスク、その製造方法、および、その位相シフトマスクを使用した半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a phase shift mask that prevents the dimension of a pattern transferred to a photoresist from changing even if the exposure frequency increases, a method of manufacturing the phase shift mask, and a method of manufacturing a semiconductor device using the phase shift mask. - 特許庁

露光光を透過する基板２と、基板２上に設けられ、露光光に対する透過率が基板２よりも低く、露光光の位相をシフトさせる半透明膜３と、半透明膜の表面を覆い、露光光を透過する保護膜５と、を備えたことを特徴とする位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

The phase shift mask includes: a substrate 2 for transmitting exposure light; a semitransparent film 3 that is disposed on the substrate 2, has a transmittance to exposure light lower than that of the substrate 2, and shifts the phase of the exposure light; and a protective film 5 that covers the surface of the semitransparent film and transmits the exposure light. - 特許庁

位相シフト層上の遮光層の有無による反射率の差に起因して認識されるパターンを当該マスクの識別マークとする構造のハーフトーン型位相シフトマスクであって、識別マークを遮光層のパターンと同時に形成する製造方法により作製する。例文帳に追加

The halftone phase shift mask has a structure where a pattern recognized by a difference in the reflectance depending on the presence or absence of a light shielding layer on a phase shift layer is used as an identification mark of the mask, and the mask is manufactured by the manufacturing method for simultaneously forming the identification mark with other patterns of the light shielding layers. - 特許庁

補助パターンとしての寸法的な制限を緩和しつつ、メインピークの強度低下やサイドピークの発生を抑制して、より高い精度でのパターン転写を可能とする位相シフトマスクおよび該位相シフトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask which suppresses decrease in the intensity of the main peak or generation of a side peak and makes pattern transfer with high accuracy possible while relaxing the dimensional limitation as an auxiliary pattern, and to provide a method for forming a pattern by using the above phase shift mask. - 特許庁

位相シフト干渉縞同時計測装置において、入射光強度や撮像装置の撮像時間の違いにより干渉縞画像の強度が変化する場合に、測定時の干渉縞画像を補正することにより、位相シフト干渉縞同時計測装置の大幅な高精度化を図ることにある。例文帳に追加

To significantly enhance the precision of a phase shift interference fringe simultaneous measuring apparatus by correcting an interference fringe image in measurement when the intensity of the interference fringe image is changed by the difference in incident light intensity or imaging time of an imaging device in the phase shift interference fringe simultaneous measuring apparatus. - 特許庁

この様にバイアス設定を選ぶことで、後段の増幅回路で生じるゲインコンプレッション及び正の位相シフトを、初段の増幅回路のゲインエクスパンジョン及び負の位相シフトで相殺することにより、増幅器全体の歪み特性を改善する効果が得られる。例文帳に追加

The entire distortion characteristic of the multi-stage amplifier can be enhanced by canceling a gain compression and a positive phase shift caused in the post-stage amplifier circuit with a gain expansion and a negative phase shift caused in the 1st stage amplifier circuit through the selection of the bias voltages as above. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクであってこれに形成されたパターンの寸法が光源光の波長程度の大きさであっても、空中像が像面に関して対称となるようなハーフトーン型位相シフトマスク及びこれを用いた露光方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a halftone phase shift mask which gives a symmetric spatial image with respect to an image plane even when the dimension of a pattern formed on the mask is in the size of around wavelengths of light from a light source, and to provide an exposure method using the mask. - 特許庁