「位相シフト」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

透明基板上に位相シフター部を形成するための位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記位相シフター膜の表面反射率の変動幅が、露光光の波長〜７００ｎｍに亘って２０％以内であることを特徴とする。例文帳に追加

In the halftone phase shifting mask blank having a phase shifter film for forming a phase shifter portion on a transparent substrate, the range of variation of surface reflectance of the phase shifter film is <20% over the wavelength range from the wavelength of exposure light to 700 nm. - 特許庁

同一周波数で位相の異なる所定数のクロック信号を、その相間隔を所定の間隔に保持したまま、全体として高精度に高分解能で位相シフトすることができるデジタル位相制御方法及びデジタル位相制御回路を提供する。例文帳に追加

To provide a digital phase control method and a digital phase control circuit which can execute phase shifting with high accuracy and high resolving power as a whole, while keeping phase internal of a prescribed number of clock signals with the same frequency but different phase at a prescribed interval. - 特許庁

位相回転部１は、位相誤差検出部５０６により検出された位相誤差に基づいて、基地局１００から移動局装置２００への下りリンクにおいて発生するドップラーシフトがキャンセルされるようにベースバンド領域で送信シンボルの位相を回転させる。例文帳に追加

A phase rotating section 1 rotates a phase of a transmission symbol in a baseband region to cancel Doppler shift generated on downlink from the base station 100 to the mobile station device 200, based on the phase error detected by the phase error detecting section 506. - 特許庁

開口１２の近傍に位相部材１１を設けて、開口１２と位相部材１１を透過した光に位相差を生じさせることで、近接場光による光スポット径の縦小効果と位相シフトによる超解像効果と両方の相乗効果により極めて小さいスポット径を得る。例文帳に追加

A phase member 11 is disposed in the vicinity of an opening 12, phase difference is generated between beams transmitting through the opening 12 and the phase member 11, and thereby, an extremely small spot diameter is obtained by the synergetic effect between reduction effect of beam spot diameter by means of proximity field light and super resolution effect by means of phase shift. - 特許庁

位相回りによって発生するスプリアスの電力を検出し、検出したスプリアス電力を位相制御部に入力して位相制御部が当該スプリアス電力を低減するような制御情報を移相器に出力し、移相器の位相シフト量を調節する。例文帳に追加

A spurious power generated by a phase shift is detected, the detected spurious power is inputted into a phase control unit, and the phase control unit outputs control information which diminishes the spurious power into a phase shifter so as to adjust the amount of phase shift in the phase shifter. - 特許庁

位相補正部２６は、周波数振幅を参照して、実際に周波数成分が存在する周波数チャンネルである実周波数チャンネルを推定し、その近傍の周波数チャンネルとの間の位相差を維持させる位相補正をピッチシフト後の位相に対して行う。例文帳に追加

A phase correcting unit 26 estimates an actual frequency channel as a frequency channel where a frequency component is actually present and corrects a phase after the pitch shift so as to maintain a phase difference from a nearby frequency channel. - 特許庁

位相回転部１は、位相誤差検出部５０６により検出された位相誤差に基づいて、基地局１００から移動局装置２００への下りリンクにおいて発生するドップラーシフトがキャンセルされるようにベースバンド領域で送信シンボルの位相を回転させる。例文帳に追加

A phase rotator 1 rotates the phase of a transmission symbol in a base band region to cancel a Doppler shift caused on a downlink from the base station device 100 to the mobile station device 200, based upon the phase error detected by the phase error detector 506. - 特許庁

準同期検波部１によりサンプリングされたπ／４シフトＱＰＳＫ変調波の位相サンプリングデータを、遅延差分部３により、ｎ回のサンプリングに要する時間だけ遅延させて、その遅延させた位相サンプリングデータと遅延前の位相サンプリングデータとの位相差を求める。例文帳に追加

The phase sampling data of π/4 shift QPSK modulated wave which is sampled by a semi-synchronous detector 1 is delayed by the time period required for n-times sampling by a delay unit 3 to obtain the phase difference between the sampling data before and after the delay. - 特許庁

また、入力信号の位相について３６０度の整数倍シフトした３６０度シフト信号を出力する３６０度シフト手段と、前記入力信号と前記３６０度シフト信号との和を出力する和出力手段と、を備える。例文帳に追加

Also, there are provided: a 360 degrees shift means for outputting a 360 degrees shift signal, which is shifted by integer multiples of 360 degrees with respect to the phase of the input signal; and a sum output means for outputting the sum of the input signal and the 360 degrees shift signal. - 特許庁

入力信号の位相について１８０度の奇数倍シフトした１８０度シフト信号を出力する１８０度奇数倍シフト手段と、前記入力信号と前記１８０度シフト信号との差を出力する差分出力手段と、を備える。例文帳に追加

The method is provided with: a 180 degrees odd numbers shift means for outputting a 180 degrees shift signal, which is shifted by odd number times of 180 degrees with respect to the phase of an input signal; and a difference output means for outputting the difference between the input signal and the 180 degrees shift signal. - 特許庁

位相シフター膜５を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランク１において、前記位相シフター膜５は、主に露光光の位相を制御する位相調整層４と、透明基板２と位相調整層４との間に形成され主に露光光の透過率を制御する機能を有すると透過率調整層３とを有し、前記透過率調整層３の膜厚が、９０オングストローム以下であることを特徴とする。例文帳に追加

In the halftone phase shifting mask blank 1 having a phase shifter film 5, the phase shifter film 5 has a phase adjusting layer 4 which chiefly controls the phase of exposure light and a transmittance adjusting layer 3 formed between a transparent substrate 2 and the phase adjusting layer 4 and having a function to chiefly control the transmittance of exposure light, and the thickness of the transmittance adjusting layer 3 is ≤90 Å. - 特許庁

ローカル信号の位相シフト量を調節して負帰還増幅器を安定化させる、カーテシアンループ方式の負帰還増幅器において、高精度の位相差検出回路やパルス回路から構成される位相制御回路を使用せずに位相回りを検出してローカル信号の位相を調整することが可能な、負帰還増幅器の位相制御方法を提供する。例文帳に追加

To provide a negative feedback amplifier phase controlling method which is capable of detecting a phase shift and adjusting the phase of local signals without using a phase control circuit composed of a high-accuracy phase difference detection circuit and a pulse circuit in a negative feedback amplifier of Cartesian loop system in which the amplifier is set stable by adjusting the phase shift of local signals. - 特許庁

干渉縞の２次元画像を取得する干渉計を用いて、位相シフトして取得された複数枚の干渉縞画像を使った干渉縞解析における位相接続方法において、新たに位相接続処理を行なう対象画素に対する位相接続判定を、既に画像内で位相接続されている関連画素の位相情報のみを用いて行なう。例文帳に追加

In a phase unwrapping method in interference fringe analysis using a plurality of interference fringe images acquired by phase shifts through the use of an interferometer for acquiring two-dimensional images of interference fringes, phase unwrapping to target pixels to which phase unwrapping is to be newly performed is determined only by using phase information of related pixels to which phase unwrapping is already performed in images. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクの黒欠陥修正において、スループットを低下させずに、ガラス基板や他のハーフトーンパターンに損傷を与えず、修正痕を残さずに、微細パターンの修正を精度良く行うことができる位相シフトマスクの修正方法および修正された位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a method for correcting a phase-shift mask, wherein the method can accurately correct a micropattern without degrading throughput, damaging glass substrates and other half-tone patterns, or leaving correction traces, when correcting black defects in a half-tone phase-shift mask, and to provide a corrected phase-shift mask. - 特許庁

また、入力光を２つの分岐部分で分波し、一方の光波にのみ位相シフトを与え、位相シフトを与えない他方の光波と合波させ、入力光に変調が加わった出力光を得るマッハツェンダ変調器において、前記２つの分岐部分のうち、位相シフトを与えるコアとして上記有機導波路を使用することを特徴とする。例文帳に追加

Further, in a Mach-Zehnder modulator in which input light is subjected to wave division in two branching parts, a phase shift is given only to one of the optical waves, the phase-shifted optical wave is multiplexed with the other that is not phase-shifted, and output light whose input light is modulated, the organic waveguide is used as a core that gives a phase shift out of the two branched parts. - 特許庁

掘り込み型の位相シフトマスクにおいて、掘り込み部からの透過光と非掘り込み部からの透過光の強度を略一致させて、投影露光時のパターンのサイズ変動や位置ずれを、比較的容易に、かつ従来の掘り込み型位相シフトマスクと同程度の製造誤差で抑えることができる位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a phase shifting mask capable of relatively easily suppressing size variation and dislocation of a pattern in projection exposure with an error in production nearly equal to that in the case of a conventional bored phase shifting mask by making the intensity of transmitted light from bored regions and that from unbored regions nearly equal to each other in a bored phase shifting mask. - 特許庁

位相シフトマスク（１）を照明する照明光学系（２）を備え、位相シフトマスクの位相シフト部に対応する点において光強度の最も小さい逆ピークパターンの光強度分布を有する光を非晶質半導体膜（４）に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。例文帳に追加

The crystallization apparatus producing a crystalline semiconductor film is equipped with a lighting optical system (2) which illuminates a phase-shifting mask (1), and irradiates an amorphous semiconductor film (4) with light having a light intensity distribution of an inverted peak pattern showing that it is reduced to a minimum intensity at a point corresponding to the phase-shifting part of the phase-shifting mask (1). - 特許庁

ディジタルホログラフィ像再生において、チルト位相シフトホログラフィ法により４つの位相シフト量で得られた観測ホログラム画像を入力し、次に、ある位相シフト量について４画素おきに得られているホログラム画像において、観測データが欠落している画素の画像データを、物体光と参照光の干渉縞の光強度を表す波動光学の式に基づいて推定する。例文帳に追加

In digital holography image reproduction, an observed hologram image obtained in four phase-shift amounts by a tilt phase shift holography method is input and then image data of pixels whose observed data are lacked are estimated based on an equation of wave optics expressing optical intensity of the interference fringe of object light and reference light, in a hologram image obtained each four pixels for a phase shift amount. - 特許庁

そのうち、コンタクトホール上方の一部の位相シフトマスクはいずれのパターンにも被覆されず、アクティブ領域内の各トランジスタ上方と抗静電放電保護回路上方の一部の位相シフトマスクは低透光率パターンを具え、位相シフトマスクのその他の部分は高透光率パターンを具えている。例文帳に追加

A portion of the phase shift mask above the contact holes is covered with one of patterns, a portion of the phase shift mask above respective transistors and the anti-electrostatic-discharge protecting circuit in the active area has a low light transmissivity pattern, and other parts of the phase shift mask have a high light transmissivity pattern. - 特許庁

有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光パターン表面の反射率を外周部の遮光パターン表面の反射率より低くすることにより、検査工程での有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光層膜残りの検出を可能にしたハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which a residual light shielding layer film on a translucent phase shift pattern in an effective region can be detected in an inspection process by decreasing the reflectance of the surface of the light shielding pattern on the translucent phase shift pattern in the effective region than the reflectance of the surface of the light shielding pattern in the peripheral part. - 特許庁

位相シフトマスク１０を用いた投影写像によって所望パターンを得るように構成された露光装置において、その投影写像の際に、前記位相シフトマスク１０上に形成されたパターンの構成辺の方向と平行になるように、その位相シフトマスク１０に対する照明光の偏光方向を選択する偏光状態選択ユニット２０を設ける。例文帳に追加

In an aligner arranged to obtain a desired pattern by projection mapping using a phase shift mask 10, a polarization condition selecting unit 20 for selecting the polarization direction of illumination light with respect to the phase shift mask 10 is provided in parallel with the direction of the compositional side of a pattern formed on the phase shift mask 10 at the time of projection mapping. - 特許庁

本発明の画素クロック生成装置は、複数の連続したクロック信号から構成するデータ領域中のクロック信号の数を決定するデータ領域設定値に基づいてデータ領域を設定するデータ領域設定手段と、データ領域設定手段によって設定されたデータ領域毎に位相シフトを行う位相シフトデータを設定する位相シフトデータ設定手段とを有する。例文帳に追加

This pixel clock generating apparatus comprises a data region setting means for setting a data region based on a data region set value for determining a number of clock signals in the data region consisting of a plurality of continuous clock signals and a phase shift data setting means for setting phase shift data for executing the phase shift by each data region set by the data region setting means. - 特許庁

石英ガラス基板等からなる透明基板１１上にジルコニウムと、ジルコニウム以外の金属と、シリコンとを含んだ金属シリサイド化合物薄膜からなる半透明膜層２１を形成したハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス１０をパターニング処理して、透明領域２３と位相シフトパターン２１ａとからなる半透明領域２４とを有するハーフトーン型位相シフトマスク１００を得る。例文帳に追加

The halftone phase shift mask 100 having a transparent region 23 and a semitransparent region 24 comprising a phase shift pattern 21a is obtained by pattering a halftone phase shift mask blank 10 prepared by forming a semitransparent layer 21 comprising a metal silicide compound thin film containing zirconium, metal except for zirconium, and silicon, on a transparent substrate 11 consisting of a quartz glass substrate or the like. - 特許庁

ウェハ上のハーフピッチ６５ｎｍ以下のフォトリソグラフィにおいて、１枚のマスク上にバイナリパターン領域と、複数の位相シフトパターン領域とを有し、寸法精度、位置合わせ精度に優れた高品質の位相シフトマスクの製造方法とその製造方法による位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a phase shift mask which has a binary pattern region and a plurality of phase shift pattern regions on one mask and also has superior size precision and positioning precision and high quality using photolithography of ≤65 nm in half pitch on a wafer, and the phase shift mask obtained by the manufacturing method. - 特許庁

透明基板１０１上に少なくともクロムとフッ素とを含むハーフトーン位相シフト膜１０２のパターンを有するハーフトーン位相シフトフォトマスク１０８において、ハーフトーン位相シフト膜１０２により熱処理を施した膜をパターニングすることにより、露光用エキシマレーザー照射における光学特性変化を低減した。例文帳に追加

In this half-tone phase-shifting photomask 108 having a pattern of a half-tone phase-shifting film 102 which includes at least chromium and fluorine on a transparent substrate 101, the optical characteristic variation due to the excimer laser irradiation for exposure is reduced by patterning the film which is subjected to heat treatment with the half-tone phase-shifting film 102. - 特許庁

アルカリなどの薬品耐性に優れたＺｒＳｉを用いたハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクであって、検査波長域の透過性が高くならず、検査時にガラス基板とのコントラストが不足することのないハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク、製造方法、パターン転写方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a halftone phase shift mask blank and a halftone phase shift mask using ZrSi having superior resistance against chemicals such as alkali, suppressing increase in transmittance in the inspection wavelength region and having sufficient contrast with respect to glass substrate at inspection, and to provide a method of manufacturing the mask and a method of transferring a pattern. - 特許庁

この方法は、低透過率位相シフト・マスク（パターン）と非位相シフト・マスク（パターン）の一方を利用してマスク上に少なくとも１つのクリティカルでないフィーチャを形成するステップと、高透過率位相シフト・マスク（パターン）を利用してマスク上に少なくとも１つのクリティカルなフィーチャを形成するステップとを含む。例文帳に追加

The method includes a step for forming at least one non-critical feature on a mask by utilizing one of a low transmittance phase shift mask (pattern) and a non-phase shift mask (pattern) and a step for forming at least one critical feature on the mask by utilizing a high transmittance phase shift mask (pattern). - 特許庁

また、光源２と対物レンズ８との間には、入射する光ビームの収束発散状態を変化して球面収差の補正を行う液体レンズ６と、入射する光ビームの位相を調整できる位相シフト領域が複数設けられて、該位相シフト領域の位相調整により球面収差の補正を行う液晶素子７と、が配置される。例文帳に追加

Further, it has a liquid lens 6 between the light source 2 and the objective lens 8 to correct the spherical aberration by changing the converging and diffusing state of the incoming light beam, and a liquid crystal element 7 to correct the spherical aberration by adjusting the phase in the phase shifting areas provided to adjust the phase of the incoming light beam. - 特許庁

位相シフトキーイング(PSK)変調は,データ伝送用の商用アプリケーションで広範に使用され,高周波および衛星通信に現れる．例文帳に追加

PSK (phase shift keying) modulation is widely used in commercial applications for data transmissions and occurs on HF and satellite.  - コンピューター用語辞典

二）　位相シフト膜を有する多層マスク（第一号に該当しない記憶素子を製造するために設計したものを除く。例文帳に追加

2. Multilayer masks with a phase shift layer (excluding those designed to manufacture storage elements that do not fall under item (i))  - 日本法令外国語訳データベースシステム

装置(100)は、入力波形信号(10)と同じデューティサイクルで、入力波形信号(10)から位相のシフトされた出力波形信号(40)を生成する。例文帳に追加

The apparatus (100) produces an output waveform signal (40) shifted in phase from the input waveform signal (10) with the same duty cycle as the input waveform signal (10). - 特許庁

印刷可能交互位相シフト・フィーチャを除去するためのフェムト秒レーザ融除によるテーパ付きイオン埋込み例文帳に追加

TAPERED ION EMBEDMENT BY FEMTO-SECOND LASER ABLATION FOR REMOVING PRINTABLE ALTERNATE PHASE SHIFT FEATURE - 特許庁

所定の位相変化は入力光波長に無関係に与えられ、周波数シフト量を変えても回折角が一定な光変調器を提供する。例文帳に追加

To provide an optical modulator which is given a prescribed phase change regardless of input light wavelength and is constant in diffraction angle even if a frequency shift quantity is changed. - 特許庁

レンズ・ホルダ１１３には貫通孔が形成され、窒素ガスが対物レンズ内部から位相シフト・マスク１０２に向かって吹きだされる。例文帳に追加

Through-holes are formed in each of lens holders 113 and a nitrogen gas blows from the inside of the objective lens toward the phase shift mask 102. - 特許庁

操作中、システムは、位相シフトマスクを通して半導体ウェハの表面上のフォトレジスト層を露光する。例文帳に追加

During operation, the system exposes a photoresist layer on the surface of a semiconductor wafer through a phase shifting mask. - 特許庁

さらに、光導波路に沿って吸収型の回折格子１０が設けられ、この回折格子に位相シフト領域１１を設けた構造とする。例文帳に追加

Further, an absorbing diffraction grating 10 is provided along an optical waveguide, and a phase shift structure 11 is provided on the diffraction grating. - 特許庁

半導体装置の製造方法において、高い精度で位相シフトを行なわせて高い解像度での露光を可能とする。例文帳に追加

To achieve exposure with high resolution by performing phase shift with high accuracy in a method for manufacturing a semiconductor device. - 特許庁

窒素は、鏡筒１１２と外側フレーム１１５との間の開口から位相シフト・マスク１０２に向かって吹きだされる。例文帳に追加

The nitrogen flows from the opening between the lens barrel 112 and the outer frame 115 toward the phase shift mask 102. - 特許庁

位相シフトマスクに形成されたストライプ状の凹凸は線状レーザー光の長軸方向と垂直に近い角度をなすように形成されている。例文帳に追加

The uneveness in stripe formed on the phase shift mask has an angle almost vertical to the major axis direction of the linear laser beam. - 特許庁

電極による波長調整用の信号供給で、回折格子の一部の屈折率が変化するため位相シフト効果を得ることができる。例文帳に追加

Phase shift effect is obtained, since the refractive index in the one part of the diffraction grating varies, by supplying the wavelength-regulating signal from the electrode. - 特許庁

低歪みのアナログ検波器、アナログπ／２位相シフト器を使用せずに、復調することができる復調回路を提供することを目的とするものである。例文帳に追加

To provide a demodulation circuit that demodulates a signal, without using a low distortion analog detector and an analog π/2 phase shifter. - 特許庁

透明基板上に形成されたパターン化フィルムスタックを含む位相シフトフォトマスク及びフォトマスクを製造する方法が開示されている。例文帳に追加

To disclose a phase shifting photomask comprising a patterned film stack formed on a transparent substrate, and a method of fabricating the photomask. - 特許庁

アモルファス誘電体膜１０２及び金属膜１０３をパターン化することにより、ハーフトーン型位相シフトマスクを製造する。例文帳に追加

The halftone type phase shift mask is manufactured by patterning the amorphous dielectric film 102 and the metallic film 103. - 特許庁

位相シフトキーイング（ＰＳＫ）を用いて、レーザの出力を変調して、電子データを光学的にコード化して、光信号を生成する。例文帳に追加

The output of a laser is modulated to optically encode electronic data using phase shift keying (PSK) to generate an optical signal. - 特許庁

位相シフト部を有する回折格子の形状評価を高い精度でおこなうことができる回折格子の形状評価方法を提供する。例文帳に追加

To provide a shape evaluation method of a diffraction grating capable of evaluating with high accuracy the shape of the diffraction grating that has a phase shift part. - 特許庁