「位相シフト」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

温度センサ１０により検出された温度により、コントローラ１１は、その温度に対応した補正データをメモリ１５から読み出し、シフト量設定部１４に位相シフト量として設定し、位相シフト部１３により書込みクロック生成部５で生成された基準クロックを基にして、位相シフトを行うためのドット書込み用のクロックを生成させる。例文帳に追加

A controller 11 reads the correction data corresponding to the temperature detected by a temperature sensor 10 out of a memory 15, sets the data as a phase shift quantity in a shift quantity setting section 14 and forms a clock for dot writing for the purpose of performing a phase shift on the basis of the reference clock formed in a writing clock forming section 5 by a phase sift section 13. - 特許庁

この方法は、これらのクリティカルな幅のセグメントに整列し、かつこれらクリティカルな幅のセグメントの少なくとも一部の端部を越えて延長する本質的に平行な交互位相シフト領域を生成することと、集積回路レイアウトおよび交互位相シフト領域をバウンダリで取り囲むことと、交互位相シフト領域をこのバウンダリのエッジまで延長することと、その後、これらの交互位相シフト領域に基づいて交互位相シフト・マスクを生成することとを含む。例文帳に追加

The method includes the steps of: creating essentially parallel alternating phase shift regions aligned with the critical width segments and extending beyond ends of at least some of the critical width segments; enclosing the integrated circuit layout and the alternating phase shift regions with a boundary; extending the alternating phase shift regions to an edge of the boundary; and creating the alternating phase shift/mask based on the alternating phase shift regions. - 特許庁

位相シフトマスクの位相シフト層のＣｒＡｌＯＮ膜は短波長を有する露光光に対して相対的に高透過率を示して所定厚さで露光光の位相を１８０°に反転させるので微細なパターンのフォトレジスト膜パターンが形成できる。例文帳に追加

The CrAlON film of the phase shift layer of the phase shift mask exhibits a relatively high transmittance to exposure light having a short wavelength and inverts the phase of the exposure light to 180° at a prescribed thickness and is therefore capable of forming photoresist film patterns of fine patterns. - 特許庁

操作パネル２８は、例えば、表示装置、数字キー、矢印キーなどで構成され、ユーザーが入力信号Ｓｉの位相に対して出力信号Ｓｏの位相をどの程度シフトさせるかを示す位相シフト量を設定するために使用される。例文帳に追加

An operation panel 28 is constituted of such devices as a display, numeric keys and arrow keys and is used by a user to set a phase shift, denoting how much the phase of the output signal So is shifted, with respect to the phase of the input signal Si. - 特許庁

遅延位相ロック部は、基準クロックと、挿入パルスを挿入されたシフトクロックとに基づいて、リング発振器において発振されるシフトクロックの位相を基準クロックの位相に対して遅らせて、遅延クロックを生成する。例文帳に追加

A delay phase lock part generates the delay clock by delaying a phase of the shift clock oscillated in the ring oscillator to a phase of the reference clock based on the reference clock and the shift clock to which the insertion pulse is inserted. - 特許庁

ＣＰＵ１０４の通信速度が速くできる場合、自動位相調整の手順として、垂直同期割込直後に位相シフト量CLK_DLY = nを設定し、次の割込が垂直同期発生したときに位相シフト量CLK_DLY = n+1を設定した後映像検出データVIDEO_DATA(n)を読み込む。例文帳に追加

When a CPU 104 can be increased in communication speed, as an automatic phase adjustment procedure, a phase shift value CLK-DLY=n is set immediately after a vertical synchronous interrupt, and when the next vertical synchronous interrupt is generated, a phase shift value CLK-=n+1 is set, and then video detection data VIDEO-DATA(n) are read. - 特許庁

したがって、位相シフトマスクの作製工程途中でも、追加エッチングによる位相差制御を行なうことが可能になり、位相シフトマスクの作製効率を改善でき、半導体装置の品質の安定化やコストダウンを図ることが可能となる。例文帳に追加

Thereby phase difference control based on the additional etching can be performed also on the way of the phase shifting mask preparing process, the preparation efficiency of the phase shifting mask can be improved, the quality of a semiconductor device can be stabilized, and the cost of the device can be reduced. - 特許庁

位相シフトレチクルの遮光膜と位相シフタ−との精度の良い重ね合わせ位置精度の評価が可能で、仮に重ね合わせ位置精度が良くない場合には、重ね合わせ描画のやり直しができる位相シフトレチクルの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a phase shift reticle by which an overlap positional precision between a light shielding film of the phase shift reticle and a phase shifter can be evaluated highly precisely, and a overlap plotting is conducted again when the overlapped positional precision is judged to be insufficient. - 特許庁

光学機能面のうち、中央領域より外側に位置する周辺領域に回折構造を有し、中央領域には、輪帯状で、かつ屈折面の位相シフト構造が設けられ、位相シフト構造を通過した短い波長の光束が、２πの略整数倍の位相差を生じる。例文帳に追加

The optical element has a diffraction structure in the peripheral region existing on the side outer than the central region among the optical function surfaces and the central region is provided with a phase shift structure a refractive surface of a ring band shape and the luminous flux of the short wavelength past the phase shift structure produces a phase difference of approximately integer times 2 π. - 特許庁

少なくとも２つの検査照明光８を位相シフトマスクの位相が等しい第１、第２の光透過部を透過させ、反射板３で再度光透過部を透過させ、それらの反射光９の光強度を比較して、その強度差により位相シフトマスクの欠陥検査を行う。例文帳に追加

The defect inspection method comprises steps of: transmitting at least two inspection light beams 8 for illumination through first and second light transmitting parts having the same phase of the phase shift mask; again transmitting the light beams through the light transmitting parts by a reflection plate 3; and comparing the intensities of the reflection light beams 9 to inspect the defect of the phase shift mask. - 特許庁

位相シフトマスクにおける位相差を生じさせる性能の検査工程や製造工程を簡易なものとしながらも高精度な検査や品質管理を可能とすることで、位相シフトマスクの製造工程や検査工程のスループットの向上および低コスト化を達成する。例文帳に追加

To achieve the improvement in the throughput of a manufacturing process step and inspecting process step for a phase shift mask and the lower cost thereof by making inspection and quality control of high accuracy possible while simplifying the inspecting process step and manufacturing process step for performance to give rise to a phase difference in the phase shift mask. - 特許庁

所定の位相角及び透過率を有し、耐薬品性、耐光性、及び内部応力などの膜特性に優れた光半透過膜又は光半透過部を有する位相シフトマスクブランクの製造方法又は位相シフトマスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a phase shift mask blank having a light semi-transmission film or a light semi-transmission area with a specified phase angle and transmittance and excellent film characteristics such as good chemical resistance, good light resistance and reduced inner stress, and to provide a method for manufacturing a phase shift mask. - 特許庁

本発明に係る位相シフトマスクブランク１１では、透明基板１２よりも屈折率の大きな位相シフト膜１３により所望の位相差を得るための膜厚を透明基板１２の掘り込み量よりも小さくし、パターン倒れを抑制することが可能となる。例文帳に追加

In a phase shift mask blank 11, film thickness for obtaining a desired phase difference with a phase shift film 13 of which the refraction index is greater than that of a transparent substrate 12 is made smaller than the amount of engraving the transparent substrate 12, thereby suppressing pattern falling. - 特許庁

本発明の位相シフトマスクは、位相シフト部に隣接する部分に、位相差２ｎπ（ｎ＝０，１，２，３・・・）となる半透明膜を設け、隣接する領域を透過する光の透過率を低くすることにより、この領域からの漏れ光をカットする。例文帳に追加

This phase shift mask is provided with a translucent film having a phase difference 2nπ (n=0, 1, 2, 3, ...) at a part adjacent to a phase shift part, and transmissivity to light transmitted through the adjacent region is made low to cut leak light from the region. - 特許庁

誤差検出回路２４で、カットオフ周波数の信号が供給されたときに従属ローパスフィルタ２１で生じる位相シフト量に相当する値と、位相特性上、カットオフ周波数のときに従属ローパスフィルタ２１で生じるべき位相シフト量に相当する基準値とを比較する。例文帳に追加

An error detection circuit 24 compares a value equivalent to the phase shift caused from the subordinate low pass filter 21 when it receives the signal with the cut-off frequency with a reference value equivalent to the phase shift to be caused in the subordinate low pass filter 21 at the cut-off frequency depending on the phase characteristic. - 特許庁

光源の発生する光パルスを分波し遅延させつつ位相をシフトさせて合波することで、１つおきの光パルスの位相が同じで、その間に入る光パルスの位相がそれに対してπシフトされたものとなる光パルスを生成する。例文帳に追加

Light pulses generated by a light source are shifted in phase while demultiplexed and delayed, and then multiplexed to generate light pulses which are alternately in phase with each other while a light pulse between them is shifted by π in phase. - 特許庁

レベンソン型位相シフトマスクの掘込み部をエッチングによって形成する際に、透過光の位相差を０度とする開口部（開口部Ａ）となる部分を保護する保護膜にピンホールが存在しても、開口部Ａにディボット（欠陥）が形成されないレベンソン型位相シフトマスクを提供すること。例文帳に追加

To provide a Levenson type phase shift mask having no divot (defect) in an opening (opening A) where the phase difference of transmitted light is to be 0°, even when a pinhole is present in a protective film protecting the opening A in the process of engraving the Levenson phase shift mask by etching. - 特許庁

また、コントローラ１６は、像面パタンの位相を、投影パタンの位相に対して相対的にシフトさせ、位相がシフトされるごとにCCDセンサ３１により画像を撮像させ、それらの画像の輝度情報に基づいて被検物１３の形状を算出する。例文帳に追加

Furthermore, a controller 16 shifts a phase of the image plane pattern relatively to a phase of the projection pattern, brings the CCD sensor 31 to photograph images at each operation of shifting the phase, and computes a shape of the object 13, based on brightness information of those images. - 特許庁

投影光学系２２の物体面に、透過する照明光の位相を変化させる位相シフト部が設けられたテストパターンＰＡ１〜ＰＡ４を有する位相シフトレチクルＲｐｓを、照明光学系１１からの照明光の光軸に対してほぼ直交するように配置する。例文帳に追加

Phase shift reticles Rps having test patterns PA1 to PA4 including a phase shifter for changing a phase of a transmitted illumination light are disposed on a surface of an object of the projection optical system 22 so as to be substantially perpendicular to an optical axis of the light from an illumination optical system 11. - 特許庁

位相差判定部１３は、位相差に基づき、所定のＫビット単位で送信タイミングをシフトさせるための第１の調整部、１ビット単位でタイミングをシフトさせるための第２の調整部、および１／ｎビット単位でタイミングをシフトさせるための第３の調整部を有する。例文帳に追加

The phase difference decision section 13 has a 1st adjustment section that shifts transmission timing in the unit of prescribed K-bits on the basis of the phase difference, a 2nd adjustment section that shifts the timing in the unit of one bit and a 3rd adjustment section that shifts the timing in the unit of 1/n bit. - 特許庁

透明基板上に前記ハーフトーン位相シフター部を形成するためのハーフトーン位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、ハーフトーン位相シフター膜５が、珪素、酸素、及び窒素とから実質的になる材料からなる上層４と、タンタル及びハフニウムとから実質的になる材料からなる下層３とからなることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク１。例文帳に追加

In a halftone phase shifting mask blank 1 having on a transparent substrate a halftone phase shifter film for forming a halftone phase shifter portion, the halftone phase shifter film 5 comprises an upper layer 4 comprising a material consisting essentially of silicon, oxygen and nitrogen and a lower layer 3 comprising a material consisting essentially of tantalum and hafnium. - 特許庁

位相差検出部４０が映像機器Ｖ１〜Ｖｎから出力された映像信号間の位相差を検出し、これに基づいて制御部５０が映像機器Ｖ１〜Ｖｎから出力された映像信号間で位相差が極小となるように、上記位相シフタ２１〜２ｎにそれぞれ与えるべきシフト量を演算し、この演算によって決定したシフト量をそれぞれ位相シフタ２１〜２ｎに出力する。例文帳に追加

A phase difference detection part 40 detects phase differences between video signals outputted from video apparatuses V1 to Vn and a control part 50 computes shift quantities to be supplied to phase shifters 21 to 2n to minimize the phase differences between the video signals outputted from the video apparatuses V1 to Vn, and outputs the determined shift quantities to the phase shifters 21 to 2n. - 特許庁

また、各位相シフタ２００が、発振信号を所定位相量づつ位相遅延させていき、加算器４０が総てのピッチシフタによるピッチシフト信号を加算する。例文帳に追加

Moreover, each phase shifter 200 delays a phase of an oscillation signal by a predetermined phase amount, and an adder 40 adds pitch shift signals by all the pitch shifters. - 特許庁

切替器５１が選択パラレルクロックＰＣＬＫを切り替える際、フェーズシフタ５３は、位相比較器５５で検出された位相差だけ選択パラレルクロックＰＣＬＫの位相をシフトさせる。例文帳に追加

When the switcher 51 switches the selection parallel clock PCLK, the phase shifter 53 shifts the phase of the selection parallel clock PCLK just by the phase difference detected by the phase comparator 55. - 特許庁

石英基板を彫り込んだクロムレスの透過型位相シフタあるいはエッジ強調型位相シフタが混在して含む位相シフトマスクを制御性よく、高精度、高品質に製造する。例文帳に追加

To manufacture a phase shift mask with high controllability, high accuracy and high quality, which contains a mixture of a chromeless transmissive phase shifter by engraving a quartz substrate or an edge enhanced phase shifter. - 特許庁

位相シフトキーイング（ＰＳＫ）変調により信号を変調するシステムは、１つ以上の分数位相変調器を含む１つ以上の位相変調器を含む。例文帳に追加

A system operable to modulate a signal according to phase-shift keying (PSK) modulation includes one or more phase modulators that comprise one or more fractional phase modulators. - 特許庁

高周波信号Ｓに従って駆動される位相変調器３は、光パルスＰに対して時間に比例する位相変化を与えるため、光パルスＰは、位相変調器３を通過する毎にそのスペクトルがシフトする。例文帳に追加

A phase modulator 3 driven in accordance with the high frequency signal S gives the phase change proportional to the time of the optical pulse P, so that the optical pulse P has the spectrums shifted every time when passing the phase modulator 3. - 特許庁

彫り込み型レベンソン型位相シフトマスク等における位相シフター加工工程中にレジストパターンを剥離することなく位相差加工量を直接計測する。例文帳に追加

To directly measure the phase difference working amount of a phase shifter without stripping a resist pattern in the working process of the phase shifter of an engraved Levenson type phase shifting mask, etc. - 特許庁

ＭＲＳ装置における代謝物質に係るスペクトルデータが、０次の位相シフトにより位相の折り返しが生じている場合であっても、自動位相補正処理を失敗しないように行うことを目的としたものである。例文帳に追加

To carry out an automatic phase correcting process without failures even if spectrum data related to metabolic substances in an MRS apparatus includes the folding of a phase due to a zero-degree phase shift. - 特許庁

現行の厳しい光学特性（位相差、透過率）のばらつきのスペックに対し、光学特性（位相差、透過率）のばらつきを更に低減できる位相シフトマスクブランク等を提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask blank and the like capable of further reducing variation of optical characteristics (phase difference, transmittance) to a current severe specification for variation of optical characteristics (phase difference, transmittance). - 特許庁

センサ信号の伝達用搬送波の周波数が変動する場合においても、位相シフト量が変動することを防止することが可能である位相調整回路および位相調整方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a phase adjustment circuit and a phase adjustment method by which variation of a phase shift amount is prevented even when frequency of carrier waves for transmitting a sensor signal is varied. - 特許庁

本発明は、周期的パルス列の周波数（Ｆｃｌｋ）を分割し、前の位相に関して出力信号の相対的位相を正確に設定する位相シフトシステムを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a phase shift system which accurately sets the relative phase of an output signal as to the last phase by dividing the frequency (Fclk) of a periodic pulse train. - 特許庁

ただし、ハーフトーン型位相シフトマスクの基準領域に対する振幅位相変調領域の位相変調量は、{３６０°×ｎ＋（１８２°〜２０３°）}（ｎは整数）である。例文帳に追加

The phase modulation in the amplitude phase modulation region is {360°×n+(182° to 203°)}, wherein n is an integer, with respect to the reference region of the halftone phase shift mask. - 特許庁

位相シフト法で求めた画素の相対位相φが０＜φ＜＋πのときには前記第１の空間コードパターンを使用し、−π＜φ＜０のときには前記第２の空間コードパターンを使用することによって、位相接続を行う。例文帳に追加

The phase connection is performed by using the first spatial code pattern when a relative phase ϕ of a pixel obtained by the phase shift method satisfies 0<ϕ<+π and by using the second spatial code pattern when it satisfies -π<ϕ<0. - 特許庁

プロジェクタ１から、各々π／４だけ位相のずれた正弦波パターンを３枚照射し、位相シフト法の原理によって、各反射画像から画素毎に相対位相ψｒを求める。例文帳に追加

Three sheets of sinusoidal patterns whose phases are shifted from each other by π/4 individually are projected from a projector 1, and a relative phase ψr is found for each pixel from each reflected image by the principle of a phase shift method. - 特許庁

位相制御部１０は入力の位置検出信号Ｐ０から位相を所定量だけシフトした位相信号Ｐ１を生成し、回転方向切替信号ＦＲに応じて出力する。例文帳に追加

The phase controller 10 generates a phase signal P1 whose phase is shifted from that of the inputted position detection signal P0, and outputs it, according to a rotational signal switching signal FR. - 特許庁

位相変調部１０４は、各一次変調部１０３−１〜１０３−ｎから出力されたシンボルの位相を、直前のシンボルの位相から、符号化部１０１から出力された符号化データに基づくシフト量だけ回転させる。例文帳に追加

The phase modulator 104 rotates the phase of symbols output from the primary modulators 103-1 to 103-n from the phase of a preceding symbol just by a shift amount based on the encoded data output from the encoder 101. - 特許庁

さらに、位相シフト干渉縞取得部４００は、分割された各無干渉光束に含まれる物体光と参照光とを分割された光束ごとに異なる位相で干渉させて異なる位相の干渉縞を得る。例文帳に追加

Then, the acquisition part 400 causes the body beam and the reference beam included in respective non-interference light beams obtained by the division, to interfere with each other with phases varying according to light beams obtained by the division, thereby obtaining interference fringes of different phases. - 特許庁

複数のセンサ１１により検出された各正弦波アナログ信号を位相シフト演算回路１２によりモータ１５の逆起電力とモータ１５の相電流とが同位相となるように位相調整する。例文帳に追加

A phase shift calculation circuit 12 adjusts the phase of the sine wave analog signal detected by the plurality of sensors 11 so that the counter electromotive force of a motor 15 is in the same phase as the phase current of the motor 15. - 特許庁

ＤＳＰ１に与えられた各デジタル信号は位相が互いにずれているので、まず、デジタル位相シフトフィルタ１２ａ，１２ｂに入力され、位相が合わせられた状態にされる。例文帳に追加

Since the phases of the digital signals A, B give to the DSP1 are deviated from each other, they are first input to digital phase shift filters 12a, 12b, where the phases are matched. - 特許庁

位相シフト回路（４２）は、一次信号に応答して、一次信号と同期し、一次信号と位相がずれ、好ましくは１８０度位相がずれ、または一次信号に対して反転された出力として、キャンセル信号を生成する。例文帳に追加

A phase shift circuit (42) generates a cancel signal as an output in response to, synchronously with the primary signal, shifted in phase from that of the primary signal, preferably 180-degrees or inverted from the primary signal. - 特許庁

液晶表示装置の光漏れや色シフトなどの原因となる位相差欠陥の発生を抑制することのできる位相差制御素子とその製造方法、およびかかる位相差制御素子を備える液晶表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide a retardation control element with which occurrence of a retardation defect causing light leakage, color shift etc. of a liquid crystal display device is suppressed and method for manufacturing the same, and the liquid crystal display device equipped with the retardation control element. - 特許庁

多値位相変調方式に対応した位相変調お部よび位相シフト部の各動作を簡略な構成により安定化することのできる小型で低コストの光送信装置を提供する。例文帳に追加

To provide a compact and low-cost optical transmitter capable of stabilizing respective operations of phase modulator portion and phase shifter portions corresponding to a multiphase modulation system. - 特許庁

第１の導波路２０には、動作時には水平偏波モード成分の位相を第１の方向にπずらし、非動作時には動作時には光の位相をずらさない位相シフト手段２２，２４と、偏波モードコンバータ２６が設けられている。例文帳に追加

A first waveguide 20 includes: phase shift means 22 and 24 for shifting a phase of a horizontal polarization mode component by π in a first direction when operating and not shifting the phase of light when not operating; and a polarization mode converter 26. - 特許庁

位相差検出部（２４）を備えて二信号間（信号入力Ｉｎ１、Ｉｎ２）の位相差ＤＰを検出し、この検出位相差をオフセット値によりシフトして出力する。例文帳に追加

A phase difference detection circuit comprises a phase difference detection unit (24), detects a phase difference DP between two signals (signal inputs In1 and In2), shifts the detected phase difference by an offset value, and outputs the resultant detected phase difference. - 特許庁