「塗布温度」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

ポリシラザンの塗布膜が形成されたウエハＷに対して、水蒸気雰囲気、減圧雰囲気の下、２００℃の温度で熱処理を行って（予備処理）塗布膜に含まれる溶媒成分を除去する。例文帳に追加

A wafer W wherein a polysilazane coating film is formed is heated at 200°C in a steam atmosphere and a pressure-reduced atmosphere (preliminary treatment) so as to remove a solvent element containing in the coating film. - 特許庁

この塗布液を基板上に塗布、乾燥させた後、必要に応じレーザー光線照射によるトリミングを行い、４００℃以上の温度で焼成、又はレーザー焼成して透明導電膜パターンを形成する。例文帳に追加

After a substrate is coated with the coating liquid before drying, trimming is made by applying laser beams as needed, baking is made at a temperature of 400°C or higher, or laser baking is made, thus forming the transparent conductive film pattern. - 特許庁

製本処理後のヒータの温度制御を的確に行うことにより、省エネルギー、コスト低減、臭気発生の抑制等を図り、且つ、塗布ムラのない塗布を行う製本装置を提供する。例文帳に追加

To provide a bookbinding apparatus which enables energy saving, cost reduction, and odor emission control by controlling a heater temperature properly after bookbinding processing, and conducts paint application without causing paint unevenness. - 特許庁

上流側隣のレジスト塗布ユニットでレジスト液を塗布された基板Ｇは、加熱用浮上ステージ１０６上でそれまでの常温からそれよりも高い温度で加熱される。例文帳に追加

The substrate G to which a resist liquid is applied in a resist application unit adjacent to an upstream side is heated from a normal temperature to a temperature higher than the normal temperature on a heating floating stage 106. - 特許庁

上流側隣のレジスト塗布ユニットでレジスト液を塗布された基板Ｇは、冷却用浮上ステージ１０６上でそれまでの常温からそれよりも低い温度まで冷却される。例文帳に追加

A substrate G coated with resist liquid by an adjacent resist coating unit on the upstream side is cooled from normal temperature till then to a lower temperature on a floating stage 106 for cooling. - 特許庁

多量のオイルを塗布することなく、またはオイルを全く塗布することなく定着し得、低温定着性に優れ且つ耐高温オフセット性に優れた非オフセット温度領域の広いトナーを提供することである。例文帳に追加

To provide toner which can be fixed without being coated with a large amount of oil or without being coated with the oil at all and has excellent low-temperature fixability and high-temperature resistant offset property. - 特許庁

永久レジストは、上記ポジ型感光性組成物を基材上に塗布し、塗布物を露光し、アルカリ現像した後に、１２０〜３５０℃の温度でポストベークして製造される。例文帳に追加

The permanent resist is produced by applying the positive photosensitive composition on a substrate and subjecting the resulting coating to exposure, alkali development and post-bake at 120-350°C. - 特許庁

塗布膜を酸性雰囲気下で加熱した後、昇温用ヒータ１２により、反応管２内を所定の温度に昇温するとともに、半導体ウエハ１０の塗布膜を酸性雰囲気下で加熱する。例文帳に追加

After the coating film is heated under acid atmosphere, temperature in the reaction tube 2 is raised to a specified level by means of the temperature rising heater 12 and the coating film of the semiconductor wafer 10 is heated under acid atmosphere. - 特許庁

基板に発生する温度ムラを軽減することができ、液状体の膜厚ムラの発生を防ぐことができる塗布装置及び塗布方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a coating device capable of reducing temperature irregularity occurring in a substrate, and preventing occurrence of film thickness irregularity of a liquid body; and a coating method. - 特許庁

基材や塗膜の表面に無機質微粒子を含む液などの防汚層形成用の液を塗布して防汚層を形成する方法において、表面温度を６０℃以上として前記液を塗布する。例文帳に追加

In the method for forming the antifouling layer by coating a solution for forming the antifouling layer containing inorganic particles on a substrate or the coating film, the solution is coated at the surface temperature of 60°C or more. - 特許庁

例えばＳＯＧ塗布膜形成装置における、ＳＯＧ液塗布後の加熱を行う熱処理装置において、加熱プレートの温度を短時間で降温させること。例文帳に追加

To lower the temperature of a heating plate for a short time in a heat treating apparatus for heating after applying, e.g. so SOG liquid in an SOG coat forming apparatus. - 特許庁

フォトレジスト塗布現像装置から露光装置へロードロック装置を介して搬送する際に、ウエハ温度の変化を低減することができるフォトレジスト塗布現像装置を提供する。例文帳に追加

To provide a photoresist coating and developing device reducing a variation of a wafer temperature when transferred from the photoresist coating and developing device to an aligner via a load lock equipment. - 特許庁

電荷移動層用塗布液を調整後、不活性雰囲気下、１０℃から４５℃の温度下で一定時間保持する工程を含むことを特徴とする電荷移動層用塗布液の製造方法。例文帳に追加

This method for producing coating liquid for a charge moving layer includes a stage in which the coating liquid for the charge moving layer is held for a fixed time under the temperature of 10°C to 45°C in inert atmosphere after it is adjusted. - 特許庁

こうして基板Ｗの温度を均一化した後，基板Ｗから温調用液体を除去する温調用液体除去工程を行い，基板Ｗの上面にレジスト液を塗布するレジスト液塗布工程を行った。例文帳に追加

After temperature of the substrate W is equalized as explained above, a temperature adjustment solution removing step is conducted to remove the temperature adjustment solution from the substrate W and a resist solution coating step is conducted to coat the resist solution at the upper surface of the substrate W. - 特許庁

塗布現像処理システム１で行われる塗布現像処理方法であって，ウェハＷにレジスト膜６０を形成し（図８中のＳ１），その後に加熱して（図８中のＳ２）所定温度に冷却する（図８中のＳ３）。例文帳に追加

In the method for coating/developing process performed in the coating/developing process system 1, a resist film 60 is formed on a wafer W (S1 in Fig.8), and then the wafer is heated (S2 in Fig.8) and is cooled to a specified temperature (S3 in Fig.8). - 特許庁

温度変化等により容器内の圧力が上昇した際に、ペン先等から塗布液が漏出することを十分に抑止できる安価な簡易塗布具１を提供する。例文帳に追加

To provide a low-cost simple applicator 1 enough controlling; the leakage of application liquid from the pen tip when pressure in the container is increased by a temperature change or the like. - 特許庁

又、画像形成装置の設置温度及び湿度を検知して、所定環境下の場合に、潤滑剤塗布機構を作動させ、搬送ベルト３又は中間転写体４の表面に潤滑剤３２を塗布する。例文帳に追加

Besides, the installation temperature and humidity of the image forming apparatus are detected, and in the case the apparatus is installed under a prescribed environment, the lubricant applying mechanism is actuated so as to apply the lubricant 32 on the surface of the carrying belt 3 or the intermediate transfer body 4. - 特許庁

光ファイバ３０は塗布ライン１０に沿って配置されており、測定装置３２はこの光ファイバ３０にパルス光を入射することによって、塗布ライン１０上の温度を複数の測定点で測定する。例文帳に追加

The optical fiber 30 is arranged along the coating line 10 and the measurement device 32 measures the temperature on the coating line 10 at a plurality of measurement points by making a pulse light incident to this optical fiber 30. - 特許庁

前記硬化処理装置（キュアユニット３）において、第１の処理室Ｓ１の加熱プレート３２に塗布液が塗布されたウエハＷを載置して、第１の温度に加熱することによりベーク処理を行う。例文帳に追加

In the above cure unit(a cure unit 3), the wafer W on which the application liquid is applied is put on a heat plate 32 in a first processing chamber S1 and bake processing is conducted by heating the wafer at a first temperature. - 特許庁

１００〜１４０℃の塗布温度で塗布性が良好で、長いオープンタイムを有し、初期接着強さに優れる反応性ホットメルト接着剤組成物とそれを用いた接着方法を提供する。例文帳に追加

To provide a moisture-curing type reactive hot-melt adhesive composition having good coating properties at 100-140°C coating temperature, a long open time and excellent initial adhesive strength and to provide a method for bonding using the composition. - 特許庁

強磁性を示し、アニール処理を施す際の温度を上げることなく効率良く製造することが可能な磁性粒子塗布物の製造方法および該製造方法により製造される磁性粒子塗布物を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a magnetic particle coated material capable of efficiently manufacturing without rising the temperature at the time when the anneal treatment is applied, while showing the ferromagnetism, and also to provide the magnetic particle coated material to be manufactured by this manufacturing method. - 特許庁

塗布工程および乾燥工程を有する塗膜シートの製造方法において、塗布直後の塗工面内の温度分布を所定値以内で乾燥することを特徴とする。例文帳に追加

In this method for manufacturing a coating film sheet having a coating process and a drying process, a coating surface immediately after coating is dried so that the temperature distribution in the coating surface becomes a predetermined value or below. - 特許庁

インクの塗布後に花びら12の表面を磨き処理することにより、インクの塗布むらを少なくし、温度に応じて自然に色を変化させ、艶を出して色彩を鮮明にできる。例文帳に追加

The polishing treatment of the surfaces of the petals 12 after the ink coating treatment enables the reduction in the coating irregularity of the ink, the natural change of the colors in response to the temperature, and the development of a gloss to give the brilliant colors. - 特許庁

乾燥装置１６で塗布層の乾燥を促進後、前室１８ａと、前室１８ａより高い温度に調整された後室１８ｂとを有する加熱装置１８で塗布層を乾燥すると同時に熱硬化させる。例文帳に追加

Drying of a coating layer is facilitated by a dryer 16 and, thereafter, the coating layer is dried and, at the same time, is thermally cured by a heater 18 having a front chamber 18a and a rear chamber 18b which is adjusted to a temperature higher than that of the front chamber 18a. - 特許庁

塗速増大の際にも、設備の増設を行わず、極端に低い温度の空気を用いないでも十分に塗布物を冷却凝固させ乾燥させることにより、塗布面の良好な感光材料の製造方法を提供することにある。例文帳に追加

To provide the silver halide photographic sensitive material having a good coated surface by cooling the coated material sufficiently to coagulate it and dehydrating it without increasing an equipment and without using an extremely cold air even in the case of increasing a coating speed. - 特許庁

なお、塗布手段１０および追加塗布手段１０、ならびに基板４８を載置するテーブルには、液晶の温度調節手段が設けられていることが望ましい。例文帳に追加

Preferably, a temperature adjustment means for the liquid crystal is installed on a table on which the application means 10, the additional application means 10, and a substrate 48 are placed. - 特許庁

スピン塗布される感光剤の温度を３０℃以上まで上昇させて塗布することにより、露光後熱処理が遅延されたり高濃度のアミンが存在する雰囲気においても良好なパターンを形成する。例文帳に追加

The temperature of a sensitizer, which is spin-coated is made to increase until a temperature higher than 30°C for coating the sensitizer, whereby a satisfactory pattern is formed even in an atmosphere, where a post- exposure heat treatment is delayed and high-concentration amine exists. - 特許庁

接着材の塗布範囲および塗布量を制御できるので、被測温部材の表面積を維持しつつ熱容量を低減でき、もって、熱電対の温度測定特性を向上でき、熱電対間の個体差を抑制できる。例文帳に追加

The coating range and coating quantity of the adhesive can be controlled, so while the surface area of the temperature-measured member is maintained, the heat capacity is reducible. - 特許庁

温度変化等に起因して材料の粘度変化が生じても吐出開始時に設定圧力で材料を吐出、塗布することのできる材料塗布装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a material applying apparatus capable of discharging and applying a material at a pressure set in the start-up of the discharge even when the viscosity of the material is changed with the change of temperature or the like. - 特許庁

塗工液の液温が環境温度の影響を受けて、その粘度が変化し、浸漬法のよる円筒状導電性基体の塗布付着量に大きく影響を及ぼすようなことが無く、安定した塗布膜を形成することを目的とする例文帳に追加

To form a stable coating film without greatly influencing coating stuck quantity by a dipping method on a cylindrical electrically conductive base body due to change of viscosity of a coating liquid due to change of coating liquid temperature caused by influence of ambient temperature. - 特許庁

連続走行するウエブＷに塗布された塗布液を乾燥させる乾燥装置１２で、乾燥ゾーン内でウエブＷと接触するパスロールを、ウエブ温度を調整する加熱ロール３２にする。例文帳に追加

In the drying device 12 to dry liquid coated on a continuously traveling web W, a pass roll in contact with the web W in a drying zone is a heating roll 32 to adjust the web temperature. - 特許庁

簡便な構成で、乾燥工程における円筒状塗布物の長手方向の温度ムラを抑制し、品種による設備の切替えのない円筒状塗布物の乾燥装置及び乾燥方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and method for drying a cylindrical coating material, wherein the temperature unevenness in a longitudinal direction is suppressed in a process of drying the cylindrical coating material with a simple configuration, and the switching of equipment is not needed in different varieties. - 特許庁

本発明の製造方法においては、負極活物質スラリーが負極芯体に塗布された塗布極板を、温度５５〜７０℃および相対湿度３０％以下の雰囲気中で乾燥する。例文帳に追加

In the manufacturing method of the present invention, a coated electrode plate including a negative electrode core body on which a negative electrode active material slurry is coated is dried in an atmosphere of temperature 55 to 70°C and relative humidity 30% or less. - 特許庁

セラミックは塗布時および使用時にAgイオンを温度、紫外線および粉末中に存在する他の成分から保護する。例文帳に追加

The ceramic protects Ag ion from temperature, UV lays, and other ingredients existing in the powder. - 特許庁

その際、３００〜９００℃の熱処理温度での塗布熱分解法により、前記β−ＴＣＰとハイドロキシアパタイトを被覆することが望ましい。例文帳に追加

The beta-TCP and hydroxyapatite are preferably coated by a coating thermodecomposition method at a heat treatment temperature from 300 to 900°C. - 特許庁

次に、前記被接合物をシリカ転化し難い温度で乾燥し、塗布したポリシラザン希釈液から有機溶媒のみを除去する（ステップＳ１４）。例文帳に追加

And then, the item to be joined is dried at a temperature which hardly causes silica inversion to remove the organic solvent only from the coated polysilazane dilution (step S14). - 特許庁

温度変形防止膜４は例えば変性アクリル紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、その後紫外線照射により硬化させる。例文帳に追加

The temperature deformation preventing film 4 is formed by applying a modacrylic UV curing resin, for example, by a spin coating method and then curing the resin by UV irradiation. - 特許庁

その後、塗布され金属粒子７の融点より高い温度で加熱して、第１の導体層６上に第２の金属層７を積層形成する。例文帳に追加

The second metal grains 7 are laminated and formed on the first conductor layer 6 by heating at a temperature higher than the melting point of the coated metal grains 7. - 特許庁

保水層４０２は、溶剤で溶かされた樹脂混合カーボンをスプレー塗布した後、所定の温度下で乾燥されて形成される。例文帳に追加

The water-holding layer 402 is formed by spraying a mixture of resin dissolved in a solvent with carbon, then drying up it at a prescribed temperature. - 特許庁

犠牲ナノ粒子が分解する一方、構造ナノ粒子が分解しない温度の熱処理を塗布膜に施して、多孔質膜を形成する。例文帳に追加

The coating film is then heat treated at such a temperature as decomposing the sacrifice nanoparticles but not decomposing the structure nanoparticles thus forming a porous film. - 特許庁

オイル塗布装置を必要とせず、透明性に優れ、且つ広い定着温度域をもち耐オフセット性に優れたトナーを得ること。例文帳に追加

To provide a toner requiring no oil applying device, excellent in transparency, having a wide fixing temperature area and excellent in offset resistance. - 特許庁

ワークを樹脂の軟化温度以上まで加熱した後、フラックスが混合した懸濁液をワークに塗布し、その後、加熱乾燥させれてろう付けする。例文帳に追加

After heating a work above the softening temperature of a resin, flux mixed emulsion is painted on the work, which is then heated, dried and brazed. - 特許庁

線香束１の先端部１１に、線香１０より着火温度の低い着火剤２を塗布または含浸して構成する。例文帳に追加

This bundle of the incensed sticks is constituted by applying or dipping an ignition agent 2 having a lower ignition temperature than that of the incense sticks 10. - 特許庁

低いキュア温度と短いキュア時間で低誘電率材料を得ることができる絶縁膜形成用塗布組成物の提供。例文帳に追加

To provide an insulating coating composition which can obtain a low dielectric constant film at a low curing temperature in a short period of time. - 特許庁

比較的低い温度で接着剤を塗布し、さらに後の時点で第二の連続シート素材と結合可能なフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a film coated with an adhesive at a relatively low temperature and bondable to a 2nd continuous sheet material after the application of the adhesive. - 特許庁