「塗布温度」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

搬送ラインＡには、搬送中のテンプレートＴに対して所定の処理を行う、前洗浄ユニット２１、塗布ユニット２２、加熱ユニット２３、温度調節ユニット２４、リンスユニット２５、離型剤改質ユニット２６、後洗浄ユニット２７がテンプレートＴの搬送方向に順に配置されている。例文帳に追加

On the conveyance line A, a precleaning unit 21, a coating unit 22, a heating unit 23, a temperature control unit 24, a rinse unit 25, a release agent reforming unit 26, and a post cleaning unit 27 which perform prescribed processing for the template T during conveyance, are arranged in this order, in the conveyance direction of the template T. - 特許庁

Ｓｉ含有量が１００〜３０００ｐｐｍ、平均粒径０．５μm以上１００μm以下のであるアルミニウム合金粉末を含む組成物をアルミニウム箔に塗布して皮膜を形成し、５６０℃以上６６０℃以下の温度で焼結し、平均厚み２０μm以上１０００μm以下の箔状多孔質アルミニウム材料。例文帳に追加

The foil-like porous aluminum material with an average thickness of 20 to 1,000 μm is obtained by coating an aluminum foil with a composition including aluminum alloy powder having an Si content of 100 to 3,000 ppm and an average grain size of 0.5 to 100 μm to form a coating film, and sintering the aluminum foil at 560 to 660°C. - 特許庁

本発明は、環境保全型の天然資源を利用し、廃棄処理あるいはリサイクリングが可能でコスト的にも安価であり、可とう性と優れたガスバリア性を有し、湿度劣化や温度依存性が抑制できるコーティング剤を使用して塗布形成した塗膜が、透明で、ガスバリア性を有し、加工適性や保存適性にも優れた積層材料を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a laminated material which comprises a coating film having transparency and a gas barrier property, and excels in suitability for processing and storing, where the coating film is formed by coating a coating agent utilizing environmental conversation type natural resources, enabling waste disposal or recycling, inexpensive, having flexibility and an excellent gas barrier property, and capable of suppressing moisture degradation and temperature dependency. - 特許庁

シャフト１と、該シャフト１の外周に形成された弾性層２と、該弾性層２の外周面に形成された表層３と、を備える導電性ローラにおいて、表層３が、水系塗料を塗布後、乾燥させて形成され、かつ、表層３のガラス転移温度が４５℃以上である導電性ローラである。例文帳に追加

The conductive roller includes a shaft 1, an elastic layer 2 formed on an outer periphery of the shaft 1, and a surface layer 3 formed on an outer peripheral surface of the elastic layer 2, wherein the surface layer 3 is formed by applying a water-based paint and drying it, and glass transition temperature of the surface layer 3 is 45°C or more. - 特許庁

脂肪族ニトリル化合物含有電解液に、正極活物質が塗布された正極を浸漬した後、得られた正極を６０〜９０℃の温度条件下で処理し、正極活物質の表面と脂肪族ニトリル化合物との間に錯物を形成することにより、正極活物質の表面に保護膜を形成する。例文帳に追加

After a positive electrode on which a positive electrode active material is applied is immersed in an electrolyte containing an aliphatic nitrile compound, the resultant positive electrode is treated at a temperature condition between 60 and 90°C to form a complex between the surface of the positive electrode active material and the aliphatic nitrile compound, and thereby, a protection film is formed on the surface of the positive electrode active material. - 特許庁

α位置換アクリレート基を有する繰り返し単位を含み、温度応答性を有するポリマーを含む組成物を基板上に塗布して、塗膜を形成する工程と、前記塗膜にエネルギーを付与して、前記ポリマーを前記基板に直接結合させ、前記基板上に固定化されたポリマー層を形成する工程とを含む、前記基板と前記ポリマー層とを有する細胞培養用支持体の製造方法。例文帳に追加

The method for producing the support having a substrate and a polymer layer and used for culturing cells comprises the process for coating the substrate with a composition containing a polymer containing repeating units having α position-substituted acrylate groups and having a temperature-responsiveness, thus forming a coating film, and the process for imparting an energy to the coating film to directly bind the polymer to the substrate, thus forming the polymer layer fixed to the substrate. - 特許庁

基板上にマトリクス状に配置された走査線及び信号線と、これらに接続されるＴＦＴと、ＴＦＴに塗布系の層間絶縁膜を介して接続された画素電極とを有する液晶表示装置の製造方法において、層間絶縁膜上へ透明導電膜を成膜する際の基板温度を、１００〜１７０℃とする。例文帳に追加

In the method for manufacturing the liquid crystal display device including a scanning line and a signal line arranged in a matrix shape on a substrate, a TFT (Thin Film Transistor) connected to the lines, and a pixel electrode connected to the TFT through an interlayer insulating film of the application system, a substrate temperature when forming a transparent conductive film on the interlayer insulating film is set at 100-170°C. - 特許庁

入れ子１０１のおも型２０４の間に樹脂断熱層２０５を塗布し、入れ子１０１の製品面側に電気ヒーター２０２を配置し、入れ子１０１のおも型２０４側に冷却回路１０２を配置し、また製品側入れ子表面１０３と電気ヒーター２０２の間もしくは電気ヒーター２０２間に複数の温度センサー２０３を配置して合成樹脂射出成形金型を構成する。例文帳に追加

This synthetic resin injection mold is structured as that: a resin insulating layer 205 is applied between a core 101 and a main mold 204; electric heaters 202 are arranged in the core 101 to the product surface side; cooling circuits 102 are arranged in the core 101 to the main mold 204 side; and a plurality of temperature sensors 203 are arranged between the product side core surface 103 and the electric heater 202 or between electric heaters 202. - 特許庁

ポリイミドを含有するガラス転移温度２００℃以上の樹脂基材上に、少なくとも１層の無機層と少なくとも１層の有機層とを交互に積層し、前記有機層を、水素結合性基を有するポリマーと金属アルコキシドとを含有する液を塗布した後、乾燥することにより形成する。例文帳に追加

At least one inorganic layer and at least one organic layer are alternately laminated on a resin base material with a glass transition temperature of 200°C or above containing a polyimide and the organic layer is formed by coating the resin base material with a liquid containing a polymer having a hydrogen bonding group and a metal alkoxide to dry the coated resin base material. - 特許庁

これら処理ステ−ションは、レジストの塗布処理や現像処理を行う処理ユニットＵと第２の冷却部３と備えた処理ブロックＢ１と、ウエハ搬送手段ＭＡと加熱部と第１の冷却部とを備えた搬送ブロックＢ２とに区画され、処理ブロックＢ１は温度の制御を行う高精度調整雰囲気となっている。例文帳に追加

The processing stations are partitioned into a processing block B1 comprising a processing unit for applying and developing a resist as well as a second cooling part 3, and a transfer block B2 comprising a wafer transfer means MA, heating part, first cooling part, while the process block B1 is in a high-precision adjusted atmosphere for controlling a temperature. - 特許庁

支持体上に、中間層、エチレン性付加重合性基を有する化合物及び活性光線によりラジカルを発生させる化合物を含有する光重合性層を有する感光性平版印刷版材料の製造方法に於いて、該中間層が、塗布形成時に最大版面温度が１０５〜２５０℃で熱処理されて形成されたことを特徴とする感光性平版印刷版材料の製造方法。例文帳に追加

In the method for producing a photosensitive planographic printing plate material having on a support an intermediate layer and a photopolymerizable layer containing a compound having an ethylenic addition- polymerizable group and a compound which generates a radical under an actinic ray, the intermediate layer is formed by carrying out heat treatment at a maximum plate surface temperature of 105-250°C when formed by coating. - 特許庁

ハロゲン原子とリン原子を有しない合成樹脂エマルジョンに、結晶水を有する無機金属水酸化物と、硫黄・窒素化合物と、アスペクト比１０以上の不燃性粉末との３種類の物質が配合されており、前記硫黄・窒素化合物の分解温度が１７０℃である防炎性樹脂エマルジョンを、ポリエステル繊維をベースとする被加工布帛の裏面に塗布・乾燥させて仕上げる。例文帳に追加

A flame resistant resin emulsion obtained by blending an inorganic metal hydroxide with water of crystallization, a sulfur and nitrogen compound with a decomposition temperature of 170°C or more and a nonflammable power with an aspect ratio of 10 or more with a synthetic resin emulsion which does not contain a halogen atom or a phosphorus atom is coated on the back side of a polyester fiber-based fabric to be treated and dried. - 特許庁

また，導電性酸化物粉を液状媒体に分散させた分散液またはペースト中に５０ｎｍ以下の金属粒子を分散配合し，この分散液またはペーストを基板に塗布し，次いで４００℃以下の温度で熱処理して該分散液またはペースト中の粒子を焼結する導電膜または配線の製法である。例文帳に追加

Alternatively, metal particles each having a diameter not greater than 50 nm are dispersed and mixed in a dispersion liquid or paste prepared by dispersing conductive oxide powder in a liquid medium; the dispersion liquid or paste is applied to a substrate; and then the particles in the dispersion liquid or paste are sintered by heat-treating it at a temperature below 400°C. - 特許庁

（イ）硬化前の融点が４０℃以下の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、ガラス転移温度が６０〜３００℃の範囲にある熱可塑性有機化合物、及び前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物と熱可塑性有機化合物との混合物を透明の状態に溶解することができる有機溶剤から成る塗工液を塗布した層。例文帳に追加

The layer (1) is coated with a coating solution comprising an active energy ray curable resin composition with a melting point before curing of 40°C or below, a thermoplastic organic compound with a glass transition temperature of 60-300°C, and an organic solvent which can dissolve a mixture of the resin composition and the organic compound into a transparent solution. - 特許庁

ポリフタルアミド樹脂等の高融点樹脂の非接触式熱板溶着において、接合部に老化防止剤を塗布することにより、融点を超えた温度における樹脂の熱分解を制御することで、強度バラツキの小さい高信頼性のある内部容器を実現し、断熱容器を安定して提供する。例文帳に追加

To provide stably a heat insulating container achieving an internal container which has a small variation of strength and is highly reliable by applying an anti-oxidant on a bonding point in a non-contacting hot plate welding of a resin with a high melting point such as polyphthalamide resin to control thermal decomposition of the resin at a higher temperature than the melting point. - 特許庁

このＳＲＯ導電性薄膜形成用組成物を耐熱性基板に塗布し、空気中、酸化雰囲気中又は含水蒸気雰囲気中で加熱する工程を所望の厚さの膜が得られるまで繰り返し、少なくとも最終工程における加熱中或いは加熱後に膜を結晶化温度以上で焼成するＳＲＯ導電性薄膜の形成方法。例文帳に追加

This composition is applied to a heat-resistant substrate, and the process to heat in the air, oxidating atmosphere, or in an atmosphere containing water vapor is repeated until the desired thickness is obtained, and the film is subjected to baking process at the crystallizing temp. or higher, at least during or after heating at the final stage. - 特許庁

乳化安定性向上を目的とした固形、半固形の油分の配合により、油っぽく、べたつく使用感になりやすい油中水型乳化化粧料であっても、良好な乳化状態を有し、温度や経時による変化が少なく、塗布時の使用感もみずみずしくのびが良い化粧料を提供すること。例文帳に追加

To provide a cosmetic having a good emulsion state, hardly being changed by temperature and with time, and having fresh sense of use on application and good spreadability even as a water-in-oil type emulsion cosmetic which tends to be oily and to cause sticky sense of use by formulating solid or semi-solid oil component targeting improvement of emulsion stability. - 特許庁

変形可能な本体（１）に対するひずみゲージ（１３）の接着のために、溶液状の無機−有機混成ポリマーからなる接着剤化合物が変形可能な本体（１）に塗布され、その後に、ひずみゲージ（１３）が混成ポリマー層上に置かれ、続いて、接着剤層（１６）が８０℃乃至１３０℃の温度で硬化される。例文帳に追加

For the bonding of the strain gauge (13) to the deformable body (1), an adhesive compound having an inorganic-organic hybrid polymer in solution is applied to the deformable body (1), whereupon the strain gauge (13) is placed on the hybrid polymer layer, and the adhesive layer (16) is subsequently hardened at 80 to 130°C. - 特許庁

圧電振動ジャイロ用の圧電振動子において、安定分散した金属ナノ粒子の導電性ペーストを調整用の付加質量として利用したものであって、前記導電性ペーストをインクジェットプリンタのノズルより吐出し、これを圧電振動子の表面の所定位置に塗布して所定温度にて焼結し、所望の振動特性を得るようにした。例文帳に追加

The electrically conductive paste is discharged from a nozzle for an inkjet printer, is coated on a predetermined position on the surface of the piezoelectric vibrator, and is sintered at a predetermined temperature, thereby achieving desired vibration characteristics. - 特許庁

基板上に、Ｃ−Ｈ結合を含まないフッ素化ポリアミド酸を塗布し焼成を行うフッ素化ポリイミド膜製造工程を、２回以上繰り返すことにより、フッ素化ポリイミド多層膜を製造する方法において、該焼成を、最高温度３８０℃未満で行うと共に、焼成時間を１時間以上とすることを特徴とするフッ素化ポリイミド多層膜の製造方法である。例文帳に追加

The method of forming the fluorinated polyimide multilayer film is implemented by repeating two or more times a process of applying fluorinated polyamide acid containing no C-H bond onto a substrate and firing the fluorinated polyamide acid, wherein the firing is carried out at the maximum temperature of <380°C for ≥1 hr. - 特許庁

缶用金属帯の缶外面相当側にインナーワックスを含有する塗料を塗布し乾燥した金属帯の缶内面相当側に熱可塑性樹脂をラミネートするに際し、ラミネート工程及びそれ以降の後処理工程における金属帯の最高到達温度を３５０℃以下とする成形性に優れた塗装缶用ラミネート金属帯の製造方法。例文帳に追加

In this method for manufacturing a laminated metal strip for a coating can excellent in moldability, the coating containing inner wax is applied to the metal strip for the can on the side corresponding to the outer surface of the can thereof and a thermoplastic resin is laminated to the metal strip coated with the coating to be dried on the side corresponding to the inner surface of the can thereof. - 特許庁

該グリーンシートを積層して厚さを調整し、これを素材として真空熱圧焼結プロセスにより焼結し、これを積層して焼結するプロセスを繰り返し、さらにセラミック基板で挟持して、仮焼、高温度焼結して高密度化し、表面にスクリーン印刷等により、電解質層、電極層を塗布して焼結することにより高度整合性電極用基板とする。例文帳に追加

The substrate for high integrity electrode is provided by adjusting the thickness by laminating the green sheets, carrying out sintering by a vacuum heat pressure sintering process with the above as material, this laminating and repeating sintering, further by a ceramics substrate the lamination holding, making high density by calcining and sintering at high temperature, and coating an electrolyte layer and an electrode layer by screen printing on the surface and sintering. - 特許庁

金属基材にフッ素ゴムを架橋接着させるにあたり、該基材にシランカップリング剤、シランカップリング剤の加水分解物または部分縮合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の溶液を塗布し、乾燥後、該基材を温度２００〜３００℃で焼成した後、フッ素ゴム組成物を架橋接着させるフッ素ゴムの架橋接着方法。例文帳に追加

The method for crosslinking adhesion of a fluororubber to a metal substrate includes coating of the substrate with at least one of solutions of materials selected from the group consisting of silane coupling agents and hydrolyzed products and partially condensed products of the silane coupling agent, drying of the solution, baking of the substrate at 200-300°C and crosslinking adhesion of the fluororubber composition. - 特許庁

ディスクに紫外線硬化樹脂を塗布し、スピンコートする際、外周部にハロゲンランプを部分的に照射し、その熱によりディスクの表面温度を部分的に変え樹脂の粘性を低くすることにより樹脂膜厚分布を均一にした後紫外線硬化することを特徴とするスピンコーティング方法及びその方法で製造された光ディスク。例文帳に追加

In the spin coating method, when coating an ultraviolet curing resin on a disk and performing spin coating, by partially irradiating the outer peripheral part with a halogen lamp, partially changing the surface temperature of the disk by the heat and lowering the viscosity of the resin, resin thickness distribution is uniformized and then ultraviolet curing is performed. - 特許庁

型枠に流し込んだ硬化完了前の無機質系水硬性基材の表面に、軟化温度が１０℃〜２５０℃の樹脂粒子を水媒体中に分散させた水分散粉体塗料を塗布し、該無機質系水硬性基材を養生・硬化させ且つ塗膜を硬化させる、塗装無機質建材の製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing the coated inorganic building material comprises the steps of coating a powdery coating water-dispersion prepared by dispersing resin particles having a softening temperature of 10-250°C in water medium onto a surface of an inorganic base hydraulic substrate that has been cast into a form and not yet been hardened completely and curing and hardening the inorganic base hydraulic substrate and simultaneously hardening a coating film. - 特許庁

耐熱性シートの少なくとも片面に接着処理剤及び溶媒から成る接着処理溶液を塗布し、次いで、接着処理溶液中の溶媒を急激に蒸発させて、固形成分中に連泡状態の空孔或いは／及び亀裂を生じさせ、しかも接着処理剤が成型化する温度に加熱することを特徴とする。例文帳に追加

The character is to coat at least one surface of a heat-resistant sheet with an adhesion treating solution composed of an adhesion treating agent and a solvent, then rapidly evaporate the solvent in the adhesion treating solution, form holes or/and cracks in a continuous cell state in a solid component and heat the adhesion treating agent at a temperature for causing molding thereof. - 特許庁

ポリカーボネート板の表面温度が１４５℃以上となるよう加熱しながら、該板に紫外線を、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２〜１０００ｍＪ／ｃｍ^２、最大強度１００ｍＷ／ｃｍ^２〜７５０ｍＷ／ｃｍ^２の範囲で照射し、次いで４０％ＲＨ以下の湿度環境でハードコート塗料を４〜１０μｍの厚みとなるよう塗布し、乾燥、硬化させる。例文帳に追加

The surface of the polycarbonate plate is heated to ≥145°C and simultaneously irradiated with ultraviolet ray of 100-1,000mJ/cm^2 accumulated quantity of light and 100-750mW/cm^2 maximum intensity and next, coated with a hard coat coating material to have 4-10μm thickness under 40% RH humidity atmosphere and dried to harden the coating material. - 特許庁

基板を設置する設置台と、前記基板上に塗布された液体を基板上方から熱エネルギーを照射させる事により前記液体を乾燥させ機能膜を成膜させる乾燥装置において、前記熱エネルギーが前記基板中央部より基板周辺部のほうが低いことと該基板を均一な温度にするための冷却手段を設けたことを特徴とする乾燥装置。例文帳に追加

The dryer in which a liquid applied on the substrate set on a setting table is dried by being irradiated with heat energy from above the substrate to make the functional film, is characterized in that the intensity of heat energy is lower in the peripheral part of the substrate than in the middle part of the substrate, and a cooling means for making the temperature of the substrate uniform is provided. - 特許庁

害虫対策用のプリント配線板に用いる忌避薬剤を含有する電子部品材料では樹脂内に多量の忌避材料を混ぜるため、塗布形成時に非常ににじみが発生しやすく品質の維持が困難でさらに、通常より高い紫外線積算光量、温度、時間が必要となるため、忌避薬剤が徐々に消出し忌避効果が低減する。例文帳に追加

To prevent gradually quench repellents and decrease in repelling effect since blotting is very likely to occur, maintenance of quality is made difficult, and ultraviolet accumulated light quantity, temperature and time which are higher than those in normal cases become necessary at applying/forming, since a large amount of repelling materials are mixed in an electronic component material that contains repellents used in printed wiring boards for harmful insect countermeasure. - 特許庁

少なくとも通電により発熱する加熱体と、前記通電加熱体の温度を検出する手段と、前記加熱体の一部を覆い走行する耐熱性フィルムと、前記耐熱性フィルムを介して前記通電加熱体に圧接する加圧部材とで加熱装置を構成し、前記耐熱性フィルムの内面に粉末粒子を塗布することを特徴とする。例文帳に追加

A heating device comprises a heating body generating heat by at least power supply, a means for detecting a temperature of the heating body, a heat-resistant film running while partially covering the heating body, and a pressure member to be pressed to the heating body via the heat-resistant film, and powder particles are applied to the inside surface of the heat-resistant film. - 特許庁

表面に炭素微粒子を存在させたことを特徴とするＡｌ基材料であり、炭素微粒子を分散させた溶液をＡｌ基材料表面に塗布し、次いで該液体を揮発除去することによって、あるいは有機物をＡｌ基材料表面に付着させ、次いで該有機物の分解温度以上に加熱して該有機物を炭化させることによって製造される。例文帳に追加

This Al based material in which carbon fine particles are present on the surface is produced by coating the surface of an Al based material with a solution in which carbon fine particles are dispersed, next volatilizing and removing the solution or allowing an organic matter to adhere to the surface of the Al based material, then performing heating to the decomposing temperature of the organic matter or higher and carbonizing the organic matter. - 特許庁

透明基材上に直接またはその他の層を介して、保護膜によって被覆されている微粒子とバインダーとを含有する硬化性組成物を塗布し、該塗膜に温度６０〜１５０℃で１〜５分間加熱し、次いで紫外線を１００〜６００ｍＷで、積算光量として３００〜７００ｍＪ／ｃｍ^２照射することを含む、防汚層を有する反射防止積層体の製造方法。例文帳に追加

A method for producing the antireflection laminate having the antifouling layer includes a process in which a curable composition containing particles coated with a protective film is applied directly or via another layer on the transparent substrate, and the paint film is heated at 60-150°C for 1-5 min and irradiated with ultraviolet rays of 100-600 mW in an accumulated quantity of light of 300-700 mJ/cm^2. - 特許庁

塗布膜の形成されたウエハＷを処理するエージングユニット（ＤＡＣ）２１は、載置プレート６１と、載置プレート６１の温度を調節する温調循環装置６６と、チャンバ６２と、チャンバ６２に水蒸気を含むアンモニアガスを供給するガス供給機構７０と、制御装置６０を具備する。例文帳に追加

An aging unit (DAC) 21 for processing a wafer W, where the coating film is formed, is provided with a setting plate 61, a temperature- circulating device 66 for adjusting the temperature of a setting plate 61, a chamber 62, a gas supply mechanism 70 to supply ammonium gas which includes vapor to the chamber 62 and a controller 60. - 特許庁

絶縁電線上に、融着層を設けて成る自己融着性絶縁電線において、該融着層は１０５〜１５０℃の温度範囲中に融点がある結晶性共重合ポリアミド樹脂とアルコール可溶性共重合ポリアミド樹脂とをアルコール系有機溶剤を含む混合有機溶剤に溶解してなる融着塗料を塗布焼き付けしてなる自己融着性絶縁電線によって上記課題を解決しうる。例文帳に追加

In the self-bonding insulated wire having a self-bonding layer on an insulated wire, the self-bonding layer is formed by applying and baking a bonding paint prepared by dissolving a crystalline copolymerized polyamide resin having a melting point in the temperature range from 105 to 150°C and an alcohol-soluble copolymerized polyamide resin into a mixture organic solvent containing an alcohol organic solvent. - 特許庁

基板の少なくとも一つの面上に、スルホン酸基及び／またはカルボキシル基を有する酸性基置換の水溶性アニリン系導電性ポリマー（ａ）、及び溶媒（ｂ）からなる導電性組成物を塗布し透明導電性高分子膜を形成した後、１５０℃から２８０℃の温度範囲にて１０分を越えて３０分を超えない範囲で加熱処理を行うことを特徴とする耐水性導電体の形成方法。例文帳に追加

This process comprises: applying a conductive composition comprising an acidic-group-substituted water-soluble aniline conductive polymer having sulfo groups and/or carboxyl groups and a solvent to the surface of at least one of substrates to form a transparent conductive polymer film thereon; and heat-treating the polymer film at 150-280°C for above 10 to below 30 min. - 特許庁

ゾルゲル法により形成されたところの、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、及びハフニウムより成る群から選択される少なくとも一種の元素の無機化合物を含有するゾル液を、基材上に塗布し、２００℃を超えない温度に加熱処理しながら、大きくとも１００ｍＪ／ｃｍ^2の紫外線を照射することを特徴とするハードコート膜形成方法。例文帳に追加

In the method for forming a hard coat film, a sol liquid containing an inorganic compound of at least one kind of element selected from the group of silicon, aluminum, zirconium and hafnium prepared by a sol-gel method is applied on a base material and heat treated at a temperature no exceeding 200°C and irradiated with UV rays of at most 100 mJ/cm2 energy. - 特許庁

表面酸化膜層を有する銅微粒子の分散液を利用して、微細なパターン描画後、比較的に低い温度下において、塗布膜中に含まれる銅微粒子または酸化銅微粒子に還元処理を施し、生成する銅微粒子を焼成して、優れた導電性を示す銅微粒子焼結体型の微細形状導電体を形成する方法の提供。例文帳に追加

To provide a forming method of a fine shape conductor of a copper-based particulate sintering compact exhibiting a superior conductivity, which is formed by utilizing a dispersion liquid of the copper particulates having a surface oxide film layer, wherein after fine pattern drawing, the copper particulates or copper oxide particulates contained in the coated films are reduction treated under a comparatively low temperature, and the copper particulates formed are calcinated. - 特許庁

塗布作業性に優れかつ十分な低応力性を有する樹脂組成物および該樹脂組成物を半導体用ダイアタッチペーストまたは放熱部材接着用材料として使用することで、高温リフロー処理、温度サイクル試験でも剥離の生じない高信頼性の半導体装置を提供することである。例文帳に追加

To provide a resin composition having the excellent coating operativity and a sufficient low stress property and a highly reliable semiconductor device without generation of exfoliation even in a high temperature reflow treatment and a heat cycle test by use of the resin composition as a semiconductor die attach paste or a heat releasing member bonding material. - 特許庁

重合性基を有し、そして重合の高い反応性、液晶相の広い温度範囲、大きならせんねじれ力、良好な混和性など性質を有する化合物、この化合物を含有し、そして良好な塗布性などを有する組成物、この組成物の重合によって得られ、そして良好な光学異方性、良好な機械的強度などの特性を有する重合体を提供する。例文帳に追加

To provide a compound having a polymerizable group and properties such as high reactivity of polymerization, a wide temperature range of a liquid crystal phase, great helical twisting force and good miscibility, a composition comprising the compound and having good coating properties, etc., and a polymer obtained by polymerizing the composition and having characteristics such as good optical anisotropy or good mechanical strengths. - 特許庁

２００℃以上の沸点をもつ有機溶剤を主溶媒としたＰＤＰ隔壁用ガラスペーストを所定厚さに塗布したプラズマディスプレイパネルのワーク１５を、コンベア搬送式多段乾燥装置１３により約１６０℃に高温乾燥するプラズマディスプレイパネルのペースト乾燥方法において、前記ワーク１５を高温乾燥する前に、室温から所定温度に保持して予備昇温することを特徴とする。例文帳に追加

In this method, prescribed thickness of glass paste for PDP partition dissolved in organic solvent having a boiling point of not less than 200°C is applied to the work 15 of plasma display panel, and heated at about 160°C to dry it in a conveyer type multistage drier 13 after the work is heated up from room temperature to predetermined temperature and kept at the latter temperature in advance. - 特許庁

芯材及び表面材の少なくとも一方に湿気硬化型ホットメルト接着剤組成物を塗布し、次いで、湿気硬化型ホットメルト接着剤組成物層を６０℃以下の温度で加熱活性化させた状態で芯材と表面材とを重ね合わせ、常温でプレスして貼り合わせることを特徴とする複合パネルの製造方法。例文帳に追加

A composite panel is produced by applying a humidity curable hot melt adhesive compsn. to at least one of a core material and a surface material and subsequently superposing the core material and the surface material one upon another in such a state that the humidity curable hot melt adhesive compsn. layer is heated and activated at 60°C or lower to press both materials at ordinary temp. - 特許庁

有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程、該反応生成物に前記無機層状化合物を添加し分散させる工程、該無機層状化合物含有反応生成物を基板表面に塗布し、２００℃以下の温度でガラス化させる工程を有するフィルムの製造方法である。例文帳に追加

This method for film production has a process for hydrolyzing an organometallic compound and carrying out condensation through dehydration to give a reaction product, a process for dispersing the inorganic laminar compound into the reaction product and a process for applying the reaction product containing the inorganic laminar compound to the surface of a substrate and vitrifying the reaction product at ≤200°C. - 特許庁

離解性と強サイズ性を有する紙支持体の両面にまず水の浸透を防止するための耐水層を設け、次に印刷層を順次設けるという構造が必要であり、耐水層に関して、防水性と離解性を両立させるためには、−１０〜５０℃のガラス転移温度であるスチレン−ブタジエン共重合体ラテックスから構成され、その塗布量が重要であることを発見した。例文帳に追加

This water resistant printing paper requiring a structure installing water resistant layers to inhibit water penetration on both sides of a paper support having the defibrability and a strong sizing property and then installing printing layers, the water resistant layers have to be composed of a styrene-butadiene copolymer latex having a glass transition temperature of -10 to 50°C and the application quantity of the water resistant layer is important. - 特許庁

支持体上に、（Ａ）側鎖に尿素結合を有するアルカリ性水溶液可溶性樹脂、（Ｂ）赤外線吸収剤を含有する記録層を設けてなる平版印刷版原版の製造方法であって、支持体上に記録層を塗布、乾燥した後、温度６０℃以上、湿度８０％以上の環境下で５時間以上エージング処理することを特徴とする。例文帳に追加

In the method for manufacturing the lithographic printing original plate by disposing on a support a recording layer containing (A) a resin having a urea bond in a side chain and soluble in an alkaline aqueous solution and (B) an infrared absorbent, the recording layer applied and dried on the support is aged in an environment at ≥60°C and ≥80% humidity for ≥5 h. - 特許庁

加水分解可能な有機金属化合物を、水と有機溶媒とからなる反応液中において、ホウ素イオンの存在下でハロゲンイオンを触媒とし、ｐＨを４．５〜５．０に調整しながら加水分解、脱水縮合させて得られたガラスコーティング剤を、キャビネット表面に塗布し、２００℃以下の温度でガラス化させたガラスコーティング層を形成する。例文帳に追加

The glass coating layer is formed by applying, to a surface of a cabinet, a glass coating agent obtained by hydrolyzing, dehydrating and condensing a hydrolyzable organic metal compound in a reaction liquid comprising water and an organic solvent by using halogen ions as catalyst in the presence of boron ions while adjusting pH to 4.5-5.0, and by vitrifying it below 200°C. - 特許庁