「渡露」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

日露戦争の間、英国へ渡り、日本の立場をヨーロッパで説明した。例文帳に追加

He explained the status of Japan in Europe by traveling to England during the Russo-Japanese War.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

日清戦争・日露戦争や第一次世界大戦で世界の列強と渡り合い、勝利した。例文帳に追加

Japan won the Japanese-Sino War, Japanese-Russo War and the First World War, fighting against powerful countries around the world.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

基板の受け渡しに要する時間を短くし、露光時の焼きむらを少なくする。例文帳に追加

To shorten the time required for transferring a substrate and reduce unevenness in exposure. - 特許庁

投影光学系の光学性能を低下させることが無く、長期間に渡り、高精度な露光を行う。例文帳に追加

To perform high precision exposure extending over a long time, without deteriorating optical performance of a projection optical system. - 特許庁

大型基板の受け渡しを容易に行なうことができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure device that easily transfer a large substrate. - 特許庁

基板保持装置、基板受渡し方法とこれを用いた露光装置、及びデバイスの製造方法例文帳に追加

SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, METHOD OF DELIVERING SUBSTRATE, ALIGNER USING SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

歓呼の声が響き渡り、スー族とホーニー族とが招待客に模擬戦を披露し、花火が打ち上げられた。例文帳に追加

Cheers were given, the Sioux and Pawnees performed an imitation Indian battle, fireworks were let off,  - JULES VERNE『80日間世界一周』

領域Ａの内側に在る領域Ｂの第２のレジスト膜３４は多重露光され、露光が深さ方向まで行き渡ることになる。例文帳に追加

The second resist film 34 in the region B inside the region A is thus subjected to multi-exposure by which the exposure light spreads in the depth direction. - 特許庁

また、露光ショット位置情報とは半導体ウエハ上に渡って繰り返された露光ショットの位置を表している。例文帳に追加

The exposure shot position information indicates positions of exposure shots repeated across the semiconductor wafer. - 特許庁

印刷版自動露光装置、印刷版運搬用台車及び印刷版自動露光装置用台車の受け渡し構造例文帳に追加

PRINTING PLATE AUTOMATICALLY EXPOSING DEVICE, TRUCK FOR TRANSPORTING PRINTING PLATE AND DELIVERY STRUCTURE OF TRUCK FOR PRINTING PLATE AUTOMATICALLY EXPOSING DEVICE - 特許庁

露光パターンに応じて個々の半導体光源の点消灯を制御することにより、細部に渡って正確な露光制御が可能とすること。例文帳に追加

To allow accurate exposure control over details by controlling turning-on/off of individual semiconductor light sources in response to an exposure pattern. - 特許庁

チャックに設けた可動部１２は、受け渡し位置では受け渡し手段４０，５０が挿入される空間を開き、露光位置では受け渡し手段４０，５０が挿入される空間を閉じる。例文帳に追加

A movable member 12 arranged in the chuck opens a space into which a transfer means 40 or 50 is inserted, in the transfer position, and closes the space into which the transfer means 40 or 50 is inserted, in the exposure position. - 特許庁

炭化水素液体等の液浸露光用液体を貯蔵した場合に、所望の期間に渡って液浸露光用液体の透過率劣化および微粒子の発生が認められない液浸露光用液体用容器を提供する。例文帳に追加

To provide a container for immersion exposure liquid in which impairment in transmittance of immersion exposure liquid and generation of fine particles are not recognized over a desired period when immersion exposure liquid such as hydrocarbon liquid is stored. - 特許庁

従って、露光面３０に投射される光束９０は露光装置各々の要因による光量分布を反映した投影像となり、メディア１全体に渡り露光装置１０に起因する光量ムラの少ない画像を露光できる。例文帳に追加

Then, the luminous flux 90 projected on the exposure surface 30 is formed to a projected image reflected by the light distribution due to various causes of the exposure device, then, the image is exposed on the whole medium 1 with a small amount of light unevenness caused by the exposure device 10. - 特許庁

これを海上に露出する巌頭に置き、付近に黐ハゴを装置し、これに近づく渡りの鵜を捕まえるのである。例文帳に追加

Putting this on an outcrop and placing torimochi-hago (a trap with birdlime) around it, ujo catches migrating cormorants which come close to it.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

1331年に後醍醐老臣の吉田定房の密告でふたたび討幕計画が露見した元弘の変が起ると、資朝は佐渡で処刑される。例文帳に追加

In 1331, when another anti-shogunate plot, the Genko Incident was betrayed by one of Godaigo's main retainers, Sadafusa YOSHIDA, Suketomo was executed in Sado.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

長男・従理（明治7年10月9日生）は、駐日ロシア公使シャール・ド・スツルヴェに従って7歳で渡露した。例文帳に追加

His first son, Juri (born on October 9, 1874), went to Russia at the age of 7, attending the then Russia Minister to Japan, Karl de STRUVE.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

また、日露戦争においては、アメリカ合衆国に渡り日本の戦争遂行を有利にすべく外交交渉・外交工作を行った。例文帳に追加

Moreover, during the Russo-Japanese War, he went to the United States of America to conduct diplomatic negotiations and enact strategies to bring an end to the war that would favor Japan.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

本発明は、長期に渡る金属材料の暴露試験を必要とすることなく金属材料の寿命を診断することを目的とする。例文帳に追加

To diagnose the life of a metal material without requiring an exposure test of a metal material over a long period of time. - 特許庁

スペーサは、第１および第２基板の間に位置しているとともにスペーサの全周に渡って露出した絶縁部３１を有している。例文帳に追加

The spacers are located between the first and the second substrates and have insulating portions 31 exposed on the whole circumference of the spacer. - 特許庁

これにより、ランドの露出部に鉛フリーはんだ８を行き渡らせてランドの酸化を防ぐことができる。例文帳に追加

Consequently, oxidization of the lands can be prevented, by making lead-free soldering 8 spread over to the exposed sections of the lands. - 特許庁

基板とフォトマスクとを、全面領域に渡って特異点なく連続した所望の湾曲状に変形させ、露光する。例文帳に追加

To expose a substrate and a photomask while deforming both into a desired continuous curved shape having no singular point over the entire region. - 特許庁

ＶＯＣ分解機能、消臭機能及び結露防止機能を長期間に渡って発揮する建材を提供する。例文帳に追加

To provide a building material exerting a VOC decomposing function, a deodorizing function and a dew condensation preventing function over a long period. - 特許庁

また、露光装置は、粗動ステージＷＣＳ１との間で、微動ステージＷＦＳ１の受け渡しが可能なリレーステージＤＲＳＴを備えている。例文帳に追加

Further, the exposure apparatus includes a relay stage DRST that can deliver the fine movement stage WFS1 to/from the coarse movement stage WCS1. - 特許庁

これを、−９％の露光量から＋６に渡って実行し、さらに２０％階調の画像についても同様に行う。例文帳に追加

This is executed over a range from -9% of exposure value to +6% of exposure value, and is executed also as to an image of 20% gradation by the same manner. - 特許庁

基板の受け渡し位置のより広い範囲の変動に対応するロードロック室およびこのロードロック室を備えた露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a load lock chamber adaptive to a wider variation in a range of a delivery and receipt position of a substrate, and to provide an exposure device provided with the load lock chamber. - 特許庁

塗布現像処理システム１のインタフェイス部４と露光処理装置６との間に，気密に閉鎖可能な受け渡し部５を設ける。例文帳に追加

A hermetically closed passing part 5 is provided between an interface 4 and an exposure unit 6 of the coating developing system 1. - 特許庁

装置を複雑化することなく、アライメントステーションと露光ステーションの間で基板の受け渡しを可能とする。例文帳に追加

To make it easy to deliver a substrate between an alignment station and an exposure station without complicating the structure of a device. - 特許庁

感光体の帯電電位が所望の定常値に達するまでの過渡期間に感光体を一様露光する。例文帳に追加

A photoreceptor body is uniformly exposed in a transition period until the charging potential of the photoreceptor body reaches a desired stationary value. - 特許庁

光を照射すべき領域の全域に渡って均一な照射を行なうことができる露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure apparatus which can uniformly irradiate all over the region to be irradiated with light. - 特許庁

前記筒状部材５１には、露光されたペーパーＰがロール状に一旦、収納され、下流側の搬送ユニット１２へ渡されるようになっている。例文帳に追加

The exposed paper P is temporarily stored on the cylindrical member 51 in a rolled state, and is then conveyed to a conveying unit 12 of the downstream side. - 特許庁

感光材料を露光部に受渡した後のチャッカーを迅速に受取り位置まで戻す搬送装置を構成する。例文帳に追加

To provide a carrying device for quickly returning a chucker to a receiving position, after delivering a photosensitive material to an exposure part. - 特許庁

また、電池２９は、細長の単４型のものが使用され、露光ユニット１３の下方からフイルムロール室２０の下方に渡って配置される。例文帳に追加

Besides, a slender AAA type battery is used as a battery 29, and the battery 29 is arranged along under the exposure unit 13 and the film roll chamber 20. - 特許庁

基板の平面精度を、全面に渡って効率的に確認できる機能を備えた露光装置を実現する。例文帳に追加

To realize an exposure device having the function capable of effectively checking flatness accuracy of a substrate over the whole surface. - 特許庁

可動カバー７を開放することによって、前方ローラ２に掛け渡された研磨ベルト４の露出部分の面積を増大する。例文帳に追加

By releasing the movable cover 7, a surface of an exposed part of the polishing belt 4 stretched around the front roller 2 can be increased. - 特許庁

温度検知用チップ型のサーミスタ素子を二芯平行の絶縁被覆電線で一部露出した芯線の軸線間に掛渡し装着するのに、そのサーミスタ素子を絶縁被覆電線の露出した芯線の軸線間に正確に掛渡し装着し、電気的に確実に接続する。例文帳に追加

To accurately mount and electrically securely connect a temperature detecting chip type thermistor element between the axes of partially exposed core conductors of a two-core parallel insulating coating electric conductor. - 特許庁

半導体露光装置に接続するＦＯＵＰユニットをコーターデベロッパーの接続方向とは別の位置に配置し、内蔵エレベータ上にウエハ受渡しステーションを載せ、このウエハ受渡ステーションを通してＦＯＵＰユニットと半導体露光装置の間でウエハの搬出入を行うようにした。例文帳に追加

The FOUP unit connected to the semiconductor projection aligner is arranged at a position different from the connection direction of a coater developer, a wafer delivery station is put on the built-in elevator, and the wafer is carried in and out between the FOUP unit and the semiconductor projection aligner through the wafer delivery station. - 特許庁

この配置位置としては、基板受渡部８，９の基板搬入出口１９の下部より垂直方向の距離Ｖ１００下方に配置された露光装置３と基板を受渡しする渡し部４或いは受取部５より垂直方向の距離Ｖ１０１下方に設定されている。例文帳に追加

As this arrangement position, the storage container 499 is set below in a perpendicular direction V101 from delivering part 4 or receiving part 5 which delivers and receives a substrate from/to an exposure device 3 arranged below in the perpendicular direction V100 from a substrate carrying outlet 19 of substrate delivering and receiving parts 8, 9. - 特許庁

この配置位置としては、基板受渡部８，９の基板搬入出口１９の下部より垂直方向の距離Ｖ１００下方に配置された露光装置３と基板を受渡しする渡し部４或いは受取部５より垂直方向の距離Ｖ１０１下方に設定されている。例文帳に追加

The arranged position is set lower than the position of an exposure device 3 arranged under the distance V100 in a direction perpendicular from the lower part of a substrate carry-in outlet 19 of substrate transfer sections 8, 9, and a delivering part 4 delivering the substrate, or under the distance V101 in a direction perpendicular from a receipt portion 5. - 特許庁

この配置位置としては、基板受渡部の基板搬入出口１９の下部より垂直方向の距離Ｖ１００下方に配置された露光装置と基板を受渡しする渡し部４或いは受取部５より垂直方向の距離Ｖ１０１下方に設定されている。例文帳に追加

The arranged position is set lower than a delivering part 4 or a receiving part 5 for transferring a substrate with an exposure device from the lower part of a substrate carry-in/out port 19 of a substrate transfer section by a vertical distance V101. - 特許庁

ウエハＷに対するレジストの塗布及び現像を行うコータ・デベロッパ５０と露光装置１０の本体チャンバ１２とが、内部にウエハの受け渡し部８３を有する受け渡し室７０によりインラインにて接続されている。例文帳に追加

A coater/developer 50 for coating a wafer W with resist and developing the resist is connected in-line with the body chamber 12 of an aligner 10 through a delivery chamber 70 internally having a section 83 for delivering the wafer. - 特許庁

ギャップ検出手段は、チャックが受け渡し位置から露光位置へ移動する間、チャックに固定された基板と露光位置にあるマスクとの間隔を検出する。例文帳に追加

While the chuck is moved from the transfer position to the exposure position, a gap detection means detects space between the substrate fixed on the chuck and a mask at the exposure position. - 特許庁

このガラス基板２０の移動中、計測用レーザ発振器１４は、ガラス基板２０の露光される表面に沿って、かつ露光面全般に渡ってガラス基板２０と交差するように、計測用レーザ光ＬＭを照射する。例文帳に追加

While the glass substrate 20 is moved, a laser generator for measurements 14 emits measuring laser light LM along the surface of the glass substrate to be exposed and so as to intersect with the glass substrate over the whole area of the exposed surface. - 特許庁

基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの位置ずれ量が基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。例文帳に追加

To expose a new pattern all over a substrate in aligning the new pattern to a base pattern even though an amount of deviation in the location of the base pattern is different depending on a location in the substrate when exposing the new pattern on the base pattern formed on the substrate. - 特許庁

基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの歪みが基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。例文帳に追加

To expose a substrate to transfer a new pattern on a base pattern preliminarily formed on the substrate, in such a manner that the new pattern is transferred by exposure as aligned to the base pattern over the whole substrate even if distortion of the base pattern differs depending on a position within the substrate. - 特許庁