「渡露」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

従って、結果的に、この光センサの情報に基づいて露光量、結像特性等を制御することにより、光センサを頻繁に交換することなく、露光精度を長期間に渡って高精度に維持することができる。例文帳に追加

As a result, by controlling the amount of exposure, imaging characteristics or the like based on information from this optical sensor, high exposure accuracy can be maintained over a long period without frequent replacement of optical sensors. - 特許庁

平版印刷版における記録層の露光された部分を支持体との界面側に渡って硬化させて耐刷性を向上可能とする平版印刷版の露光記録装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure recording apparatus for a planographic printing plate to improve plate wear by curing an exposed part in a recording layer of the planographic printing plate over the interface side with the supporting body. - 特許庁

従って、この光センサの情報に基づいて露光量、結像特性等を制御することにより、光センサを頻繁に交換することなく、露光精度を長期間に渡って高精度に維持することができる。例文帳に追加

Thus, the exposure accuracy can be kept at a high level for a long time by controlling the exposure quantity, image forming characteristics, etc., based on information of this optical sensor, without frequently replacing the optical sensors. - 特許庁

レジスト膜が形成された基板Ｗは基板載置部ＰＡＳＳ９に載置された後、インターフェイスブロック５の受渡ロボットＢＲによって送り基板載置部ＳＰＡＳＳに渡され、さらに送り搬送ロボットＳＢＲによって露光ユニットＥＸＰに送り出される。例文帳に追加

A substrate W where resist films are formed is placed on a substrate placement part PASS9, and then is passed to a sending substrate placement part SPASS by a delivery robot BR on an interface block 5, further being sent out to an exposure unit EXP by a sending transfer robot SBR. - 特許庁

医薬用品などの物品をゴミなどの混入などのない状態でしかも無菌状態で、洗浄、滅菌、乾燥した後、外部環境に暴露することなく受槽に収容することのできる物品の受渡装置及び受渡方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a delivery apparatus and delivery method for articles, such as medical articles, capable of cleaning, sterilizing, and drying the articles in a state which is not contaminated by rubbish and under aseptic conditions, then housing the articles into a reception tank without exposing the articles to the external environment. - 特許庁

そしてインターフェイスブロック内の搬送手段から露光後の基板を受け渡しステージに受け渡した後、現像処理用の単位ブロック内の搬送手段による当該基板の受け取りのタイミングを、当該基板が露光されてから加熱ユニットに搬入されるまでの時間が予め設定した時間となるように調整する。例文帳に追加

After the exposed substrate is delivered to a delivery stage from the conveying means in an interface block, the timing of receiving the substrate by the conveying means in the unit block for developing process is adjusted in such a manner that the time from the exposure of the substrate to carrying it into the heating unit becomes a preset time. - 特許庁

露光光照射装置の光学部品の表面近くに光学部品の表面全体に渡って形成されたエアの流れの層により、露光光照射装置の光学部品が浮遊物から遮蔽されて、浮遊物の光学部品への付着が防止される。例文帳に追加

By the layer of an air flow formed near the surfaces of the optical components of the exposure light irradiation device and over the whole surfaces of the optical components, the optical components of the exposure light irradiation device are shielded against suspended substances, which prevents suspended substances from depositing on the optical components. - 特許庁

基板を順方向に搬送して露光装置へ基板を渡す順方向専用経路Ｒ_1 （第１の基板搬送経路）とは別に露光後加熱（ＰＥＢ）を行うＰＥＢ専用の基板搬送経路Ｒ_2 （第２の基板搬送経路）を構成することで、各々の経路Ｒ_1 ，Ｒ_2 での搬送を独立して行うことができる。例文帳に追加

A substrate carrying passage R_2 (second substrate carrying passage) dedicated to post exposure bake (PEB) is arranged independently from a passage R_1 (first substrate carrying passage) for carrying the substrate only in the forward direction and delivering the substrate to an optical lithography system, carriage on respective passages R_1 and R_2 can be carried out independently. - 特許庁

これにより、基板ホルダＰＨと投影光学系ＰＬとの間の露光空間が上下方向に狭い場合であっても、露光装置１０に対する基板の受渡を広い空間で行うことが可能となり、基板ホルダに対する基板の搬送を効率的に行うことが可能となる。例文帳に追加

Thereby, even when the exposure space between a substrate holder PH and a projection optical system PL is narrow in the vertical direction, the delivery of the substrate for the exposure device 10 can be performed in a wide space and the substrate can be efficiently carried to the substrate holder. - 特許庁

露光機３からＯＵＴステージ７１にウェハＷが受け渡された直後には，その情報が主制御部９２に通知されず，ＩＮステージ７１が下降しＩＮステージ７１上の別のウェハが露光機３に搬送された後に通知される。例文帳に追加

Immediately after the wafer W is received and delivered from the exposure unit 3 to the stage 71, its information is not notified to the controller 92, but the IN stage 71 is lowered, another wafer on the IN stage 71 is conveyed to the unit 3, and then it is notified. - 特許庁

受け渡し部５は，インタフェイス部４から露光処理装置６にウェハＷが搬送される際に通過する第１の経路６０と，露光処理装置６からインタフェイス部４にウェハＷが搬送される際に通過する第２の経路６１とを有する。例文帳に追加

The passing part 5 has a first path 60 where a wafer W passes when it is carried from the interface 4 to the exposure unit 6, and a second path 61 where the wafer W passes when it is carried from the exposure unit 6 to the interface 4. - 特許庁

基板に形成された下地パターンの上に新たなパターンを露光する際、下地パターンの位置ずれ量が基板内で場所によって異なっても、新たなパターンを基板全体に渡って下地パターンに合わせて露光する。例文帳に追加

To expose a substrate to transfer a new pattern on a base pattern which is already formed on the substrate, in such a manner that, even when a positional shift amount of the base pattern differs depending on a position within the substrate, the new pattern can be transferred by exposure as aligned to the base pattern over the entire substrate. - 特許庁

レーザ露光処理された平版印刷版１２に対し、その幅方向の全幅に渡って圧力をかけた水分により、画像記録層における未露光部分の膜を脱膜分散させて除去すると共に、画像記録層の表面側部分が硬化した部分の膜を残すことにより、画像を形成する。例文帳に追加

The image is formed by detaching, dispersing and removing a film in an unexposed part of the image recording layer by water under pressure all over the width in the width direction of the planographic printing plate 12 after subjected to the laser exposure, as well as by leaving a film in a part of the image recording layer film where the surface side is hardened. - 特許庁

ウエハステージ２１０上の露光済ウエハ５２０は、上下テーブル２２０によって持ち上げ、ウエハステージ２１０の上部空間（のロードアーム３１０及び未露光ウエハ５１０のウエハステージ２１０側）に移動したアンロードアーム３２０に受け渡す。例文帳に追加

An exposed wafer 520 on the wafer stage 210 is lifted by a vertical table 220, and is transferred to an unload arm 320 moving to the upper space of the wafer stage 210 (on the side of the wafer stage 210 of the load arm 310 and the non-exposed wafer 510 of the upper space). - 特許庁

カメラは、レンズおよびシャッタ作動制御部を有するカメラ本体１と、未露光フィルム巻き領域と露光フィルム巻き領域とこれらの領域間の橋渡し領域とを有し且つカメラ本体から取り外し可能なフィルムカートリッジ２とを備えている。例文帳に追加

The camera is equipped with a camera main body 1 having a lens and a shutter operation control part and the film cart ridge 2 which has an unexposed film winding area, an exposed film winding area and a bridge area between those areas and can be unloaded from the camera main body. - 特許庁

これによって、フリーズ時には電子シャッタを光束に設定すると共に、照明光量を増加するため液晶シャッタをフィールドまたはフレーム単位で制御し、露光調整時に生じる過渡的な映像の変化をなくしかつ短時間に最適な露光制御を行なうことができる。例文帳に追加

This constitution sets an electronic shutter in a light flux in the freeze, controls the liquid crystal shutter at a field or frame unit for increasing the illumination light quantity and eliminate a transitional picture variation formed in adjusting exposure to control the optimal exposure in a short period of time. - 特許庁

凹部４には、底璧４１にキーシリンダ９０のつまみ９１を凹部４内に露出させる穴４３と、この穴４３の上縁から凹部４の側壁４２の上部に渡って切り欠かれてつまみ９１を凹部４の上方に露出させる切り欠き部４６とが設けられている。例文帳に追加

The recessed portion 4 has a hole 43 in a bottom wall 41 through which a knob 91 of the key cylinder 90 is exposed into the recessed portion 4, and a notch 46 cut from an upper edge of the hole 43 to an upper portion of a sidewall 42 of the recessed portion 4 to expose the knob 91 above the recessed portion 4. - 特許庁

この凶行より前、覚鑁は権力の亡者と化した真言宗門徒の有り様を嘆き、密厳院において長期に渡る無言行を修し、直後に密厳院発露懺悔文を一気に書き上げる。例文帳に追加

Before this rampage, Kakuban lamented the situation of Shingon sect followers who had turned to power mongers, practiced mugon no gyo (the discipline of not talking) for a long time in Mitsugonin Temple, and right after that, he wrote Mitsugonin Confession at one stroke.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

日露戦争終了直後、訪問艦にて同盟国のイギリスに渡洋、他の将校や乗組員とともにサッカー（フットボールリーグ、ニューカッスル・ユナイテッドのホームゲーム）を観戦。例文帳に追加

Immediately after the close of the Russo-Japanese War he travelled to allied Britain and went to see a football match (at Newcastle United) with other commissioned officers and the crew.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

1904年（明治37年）2月、渡米し、日露戦争についてセオドア・ルーズベルト大統領（ハーバード大学時代の学友）と交渉（翌年10月帰国）。例文帳に追加

In February 1904, he visited the US and had diplomatic talks with President Theodore Roosevelt (who had been contemporarily at Harvard University) about the Russo-Japanese War (and returned to Japan in October of the following year).  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

これは構造は鉄筋コンクリート造であったが、外観は木の柱を露出させその間にレンガ壁を組んだハーフティンバー工法で、淀川を見渡すテラスが備えられていた。例文帳に追加

Its frame structure is made of ferroconcrete, and the exterior half-timbered with brick walls between exposed wooden pillars, equipped with a terrace overlooking the Yodo-gawa River.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

本発明の目的は露光装置の高ＮＡに対応するために、低入射角度から高入射角度に渡って反射防止効果の高い反射防止膜を提供することである。例文帳に追加

To provide an antireflection film, having high antireflection effect over a wide range extending from low incident angle to high incident angle, in order to cope with high numerical aperture of an exposing device. - 特許庁

フラップ３４，３４を粘着層１２から剥がせば、粘着層１２がその部分において露出するから手提げ袋７５に開口部を架け渡すようにして貼り付けることができる。例文帳に追加

By peeling the flaps 34 and 34 from an adhesive layer 12, the adhesive layer 12 is exposed at the peeled portions and thus can be applied to the shopping bag 75 across its opening. - 特許庁

銀塩フィルムに露光された画像の仕上がりイメージを、全体および細部の双方に渡って容易に確認することができる銀塩撮影及び電子撮像兼用カメラを提供する。例文帳に追加

To provide a camera used both for silver halide photographing and electronic image pickup by which the finish image of a picture exposed on silver halide film is easily confirmed both as a whole and in detail. - 特許庁

撮像素子（イメージセンサ）の冷却が容易であり、被写体側または容器内の透明板の結露を防止することができ、多岐に渡る応用に対応することができる撮像素子冷却容器を提供する。例文帳に追加

To provide a cooling container for an imaging element which can easily cool imaging element (image sensor), prevent dew condensation of a transparent plate on the subject side or in the container, and cope with wide-ranging applications. - 特許庁

リフレクタ内で隣接する蛍光ランプが放射する紫外線に露光して黄変し、短命化するのを防止し、照明装置として長期に渡り安定した色度、光量で使用できる照明装置を実現する。例文帳に追加

To provide a lighting system preventing yellowing caused by exposure to ultraviolet ray radiated from an adjacent fluorescent lamp inside a reflector and shortening of the life, and usable at stable chromaticity and stable quantity of light for a long time. - 特許庁

第２基板２００が除去されることによって露出する面は、レンズ形成領域２０ａ及びその周囲の非レンズ形成領域２０ｂに渡って面一である。例文帳に追加

A surface which is exposed after the second substrate 200 is removed is in level in a lens formation region 20a and a non-lens-formation region 20b at its periphery. - 特許庁

このネットやシートを露地栽培植物の上に直接被せたり複数の支柱を立ててその間に渡したりハウスの柱に掛けるなどして張り、栽培植物を覆うようにするだけで使用出来るようになる。例文帳に追加

The net or sheet is stretched directly covering the open-field cultivated plants, stretched between a plurality of erected posts, stretched over columns of the greenhouse, or the like to cover the cultivated plants for use. - 特許庁

供給ガスの露点によらず、高い発電性能を有し、かつ長期間に渡って安定した発電が可能な固体高分子形燃料電池用膜を提供する。例文帳に追加

To provide an membrane for solid polymer fuel cell which brings high power generation performance without regardless of a dew point of a supply gas and makes stable power generation available for a long term. - 特許庁

適宜のタイミングで回転するメカニカルシャッター１０により、液晶シャッター８の出射光強度が収束値に達する前に過渡応答する期間において、ランプ５から印画紙１１への露光を中断する。例文帳に追加

Exposure of a print sheet 11 with a lamp 5 is interrupted by means of a mechanical shutter 10 turning at an appropriate timing during a transient response interval before the intensity of light emitted from a liquid crystal shutter 9 is settled at a converging value. - 特許庁

高いエネルギー効率での発電が可能であり、供給ガスの露点によらず、高い発電性能を有し、かつ長期間に渡って安定した発電が可能な固体高分子形燃料電池用膜を提供する。例文帳に追加

To provide a membrane for a solid polymer electrolyte fuel cell having high power generation performance independently of the dew point of the supplied gas and capable of generating electric power at a high energy efficiency steadily for a long period. - 特許庁

ギャップ設定手段は、チャックが受け渡し位置から露光位置へ移動する間、ギャップ検出手段の検出結果に基づいて、チャックを上下して基板とマスクとの間隔を制御する。例文帳に追加

While the chuck is moved from the transfer position to the exposure position, a gap setting means controls the space between the substrate and the mask by moving the chuck up and down based on the detected result by the gap detection means. - 特許庁

金属露出部分の洗浄においても、基板表面へのエッチング作用がなく、金属不純物がなくかつ実質的に固体微粒子のない洗浄用電解水が長期間に渡り安定して得られる生成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a producing device by which a cleaning electrolytic water not etching the surface of a substrate even in the cleaning of an exposed metal part, free from metallic impurities and substantially free from fine solid particles can be obtained stably for a long period. - 特許庁

また、加熱部に対して基板を受け渡しする搬送機構１０Ｄをインターフェイスブロック５に設けて、露光された基板Ｗを速やかに加熱部に移送する。例文帳に追加

Additionally, a conveyance mechanism 10D for delivering the substrate to the heating section is provided in the interface block 5, thus quickly transferring the exposed substrate W to the heating section. - 特許庁

ジョグダイヤル１は、筐体２の前面２ａの上端部から上面２ｃを亘り、さらに背面２ｂの上端部に渡って露出するように設けられる。例文帳に追加

The jog dial 1 is disposed so as to be exposed from the upper end of the front surface 2a of a case 2 to the upper end of the back surface 2b via the top surface 2c. - 特許庁

ポリマーネットワーク液晶を使用した視線誘導標識体において、屋外太陽光暴露に長時間さらされる環境下でも、耐光性に問題なく長期に渡って使用可能な技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology allowing the long-time use of a delineator body using a polymer network liquid crystal with no problem of light resistance even in an environment exposed to outdoor sunlight for many hours. - 特許庁

露光光照射装置３０の光学部品（３２，３３，３４，３６，３７）の表面近くに、光学部品の表面全体に渡って、エアの流れの層を形成する。例文帳に追加

A layer of an air flow is formed near the surfaces of optical components (32, 33, 34, 36 and 37) of an exposure light irradiation device 30 and over the whole surfaces of the optical components. - 特許庁

剥離紙の剥離、帯状脱気手段の粘着・固定、剥離紙の再装着からなる一連の作業を省略し、帯状脱気手段の配設に伴う作業を簡素化し且つ粘着層の過渡的な外界露出を回避する。例文帳に追加

To omit a series of operations comprising detachment of release paper, adhesion and fixation of a strip-shaped deaerating means and reattachment of the release paper and to simplify an operation associated with arrangement of a strip-shaped deaerating means, while avoiding transient external exposure of an adhesive layer. - 特許庁

載置ずれや変形を生じさせることなく基板をの受け渡すことができる基板保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法を提供するしを行うこと。例文帳に追加

To provide a substrate holding apparatus that can receive and hand over a substrate without causing mounting deviation nor deformation, to provide a stage apparatus, to provide an exposure apparatus, and to provide a device manufacturing method. - 特許庁

Ｎ型ウエル２２の表層の一部には溝部２４が形成されており、Ｎ型ウエル２２が残余領域２０の表面において複数箇所に渡って二次元的に規則的に露出している。例文帳に追加

A trench 24 is formed partially in the surface layer of the N-type well 22 which is exposed two-dimensionally and regularly over a plurality of positions on the surface of the residual region 20. - 特許庁

ガス吹き出し板２１により、暴露処理用ガス３３は均一に基板１に吹き付けられるため、基板１の全面に渡ってリフロー距離Ｌを精度良く制御することができる。例文帳に追加

Since the gas 33 for exposure treatment is blown uniformly to the substrate 1 through the gas blow out plate 21, the reflow distance L can be controlled with high accuracy over the entire surface of the substrate 1. - 特許庁

これによって、圧電体薄膜素子１の近傍雰囲気を長期に渡って安定して、露点が−４０℃〜０℃の範囲内の低湿度に保つことが可能となる。例文帳に追加

Accordingly, an atmosphere in the vicinity of the piezoelectric thin-film element 1 is stabilized for a prolonged term, and a dew point can be kept in a low humidity within a range of -40°C to 0°C. - 特許庁

高いエネルギー効率での発電が可能であり、供給ガスの露点によらず、高い発電性能を有し、かつ長期間に渡って安定した発電が可能な固体高分子形燃料電池。例文帳に追加

The solid polymer electrolyte fuel cell enables to generate electricity at high energy efficiency and exhibits high power generation performance regardless of the dew point of a supply gas, and also enables to stably generate electricity for a long time. - 特許庁

高いエネルギー効率での発電が可能であり、供給ガスの露点によらず、高い発電性能を有し、かつ長期間に渡って安定した発電が可能な固体高分子形燃料電池用膜を提供する。例文帳に追加

To provide a membrane for a solid polymer fuel cell capable of generating power at high energy efficiency, with high power generating performance irrespective of dew points of supplied gas, and capable of generating stable power over a long period of time. - 特許庁

上乗せ層２０４を露出する二重ダマスク穴を形成した後、最初に二重ダマスク穴を埋めない様にして二重ダマスク穴の全側壁に渡って等角障壁／接着層２１６を形成する。例文帳に追加

After formation of a double damask hole to expose a superposed layer 204, first an isometric barrier / an adhesive layer 216 is made, covering the whole sidewall of the double damask hole, in such a way as not to stop the double damask layer. - 特許庁