「B layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Furthermore, a base material 5 is stuck to the resin layer (B)4 side of the sealant film 100 to manufacture the packaging material 200.例文帳に追加

また、このシーラントフィルム100 の樹脂層(B)4側に基材5 を貼り合わせて包装材料200 を作製する。 - 特許庁

Also the b^* value of the filter layer 3 is preferably 0 or less, and the lower limit of the b^* value is preferably -0.4 or more.例文帳に追加

また、フィルター層３のｂ^*値は０以下がより好ましく、ｂ^*値の下限は−０．４以上が好ましい。 - 特許庁

After this, a prescribed number of the layer characters in the team B are arranged in a line to display a wall between the goal of the team B and a free kick spot (step S5).例文帳に追加

しかる後に、Ｂチームのゴールとフリーキック地点間に、所定数のＢチーム選手キャラクタを並べて壁を表示する（ステップＳ５）。 - 特許庁

Preferably, the Ni-B plating film constituting the first plating layer 18 has a percentage content of B in the range of 0.1-6 wt%.例文帳に追加

好ましくは、第１のめっき層１８を構成するＮｉ−Ｂめっき膜のＢ含有率は、０．１〜６重量％である。 - 特許庁

Moreover, the average grain size of the Ni-B plating included in the Ni-B plating layer 12 is not smaller than 1 μm and its maximum grain size is not larger than 6 μm.例文帳に追加

そして、上記Ｎｉ−Ｂメッキ層１２中のＮｉ−Ｂメッキの平均粒径は１μｍ以上であり、最大粒径は６μｍ以下である。 - 特許庁

A heat discharge layer 4 is disposed on a coil installation surface 3i of the coil 3, located at a cooling base B side where the reactor 1 is installed.例文帳に追加

リアクトル1が取り付けられる冷却ベースB側に位置するコイル3のコイル設置面3iに、放熱層4が配置されている。 - 特許庁

An air layer is formed inside the bottom wall of the packaging container B, and an air vent passage is formed on a part of the peripheral wall of the container B.例文帳に追加

この包装容器Ｂには、底壁内部に空気層を形成するとともに、周壁一部に空気抜き通路を形成する。 - 特許庁

A heat radiation layer 4 is disposed on the coil installation surface 3i of the coil 3 on the cooling base B side to have the reactor 1 mounted.例文帳に追加

また、リアクトル1が取り付けられる冷却ベースB側に位置するコイル3のコイル設置面3iに、放熱層4が配置されている。 - 特許庁

A power supply layer 67 is divided into a plurality of lands A, B, and C, and each of the lands A, B, and C is electrically insulated from one another.例文帳に追加

電源層６７は、複数のランドＡ，Ｂ，Ｃに区切られており、各ランドＡ，Ｂ，Ｃは互いに電気的に絶縁されている。 - 特許庁

This film modifying method includes a step of irradiating the electron beam B in a state that a photoresist film layer 2 is cooled when the electron beam B is irradiated to the photoresist film layer 2 to modify the photoresist film layer 2.例文帳に追加

本発明の膜改質方法は、フォトレジスト膜層２に電子ビームＢを照射してフォトレジスト膜層２を改質する際に、フォトレジスト膜層２を冷却した状態で電子ビームＢを照射することを特徴とする。 - 特許庁

A laminated metal panel is constituted by laminating a polyester film containing a layer (A) and a layer (B) on at least the single surface of a metal panel through the layer (B).例文帳に追加

（Ａ）層と（Ｂ）層とを含有するポリエステル系フィルムを、（Ｂ）層を介して金属板の少なくとも片面に積層してなるラミネート金属板である。 - 特許庁

A plain wire 444 is provided for a b-th (b<a) layer of the multilayer wiring layer 400 and the rewiring layer 500, and overlaps with the signal line 522 in plan view.例文帳に追加

プレーン配線４４４は多層配線層４００及び再配線層５００の第ｂ層（ｂ＜ａ）に形成されており、平面視で信号線５２２と重なっている。 - 特許庁

The upper layer shield layer 13 comprises microcrystal or amorphous having NiFe-based composition including B or P or CoFe-based composition including B or P, and they are laminated on the substrate shield layer 11.例文帳に追加

上層シールド層１３は、ＢもしくはＰを含有するＮｉＦｅ系、または、ＢもしくはＰを含有するＣｏＦｅ系の組成を有する微結晶またはアモルファスからなり、下地シールド層１１の上に積層されている。 - 特許庁

The light diffusion sheet is a multilayer sheet in which a surface layer (a) and a back layer (c) comprise the following resin composition (A) and an intermediate layer (b) comprises the following resin composition (B).例文帳に追加

多層構成の光拡散シートであって、表層ａ及び裏層ｃが下記（Ａ）に示す樹脂組成物からなり、中間層ｂが（Ｂ）に示す樹脂組成物からなる多層シート。 - 特許庁

The release film has a release layer (B) at least on one side of a substrate film (A) made of a thermoplastic resin and a polymer layer (C) in contact with the surface of the release layer (B).例文帳に追加

熱可塑性樹脂からなる基材フィルム（Ａ）の少なくとも一方の面に離型層（Ｂ）を有する離型フィルムであって、その離型層（Ｂ）の表面に接してさらにポリマー層（Ｃ）を有する離型フィルム。 - 特許庁

In this rubber-metal laminated gasket raw material, an undercoat treatment agent layer containing (a) a silane coupling agent, (b) an organometal compound and (c) silica, a vulcanized adhesive layer containing phenol resin and a rubber layer are sequentially laminated on a stainless steel plate.例文帳に追加

ステンレス鋼板上に、(a) シランカップリング剤、(b) 有機金属化合物および(c) シリカを含有する下地処理剤層、フェノール樹脂含有加硫接着剤層およびゴム層を順次積層してなるゴム-金属積層ガスケット素材。 - 特許庁

The polyester laminated film is composed of a polyethylene terephthalate resin layer (A) and a layer (B) comprising a mixture of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate and characterized in that the thickness of the layer (B) is 5-30 μm.例文帳に追加

ポリエチレンテレフタレート樹脂層（Ａ）とポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートの混合物の層（Ｂ）からなり、（Ｂ）層の厚みが５〜３０μｍである積層フィルム。 - 特許庁

The gas barrier film is constituted by laminating a transparent resin layer (B), which contains an unsaturated carboxylic acid or its derivative, on the surface of a transparent base material film (A) and further laminating a transparent inorganic thin film layer (C) on the transparent resin layer (B).例文帳に追加

透明基材フィルム（Ａ）表面上に不飽和カルボン酸またはその誘導体からなるポリマーを含む透明樹脂層（Ｂ）を積層し、更に該樹脂層上に、透明無機薄膜層（Ｃ）を積層してなるガスバリアフィルム。 - 特許庁

Hence the diffusion of B from the base layer can be suppressed by making higher the Ge compsns. of the emitter- base junction region and base-collector junction region, which sandwich the base layer than the Ge compsn. of the base layer.例文帳に追加

したがって、ベース層を挟むエミッタ-ベース接合領域とベース−コレクタ接合領域のGe組成を、ベース層のGe組成よりも高くすることにより、ベース層からのBの拡散を抑制できる。 - 特許庁

When assuming that the basis weight of the release layer is a basis weight A [g/m^2] and the basis weight of a release agent single body layer of the release layer which is not impregnated into the paper base material is a basis weight B [g/m^2], the mass ratio B/A is from 0.20 to 0.80.例文帳に追加

剥離層の坪量を坪量Ａ［ｇ／ｍ^２］とし、紙基材に含浸されていない剥離層の剥離剤単体層の坪量を坪量Ｂ［ｇ／ｍ^２］とした場合、質量比率Ｂ／Ａは０．２０〜０．８０である。 - 特許庁

The light emitting part B is made of the p-type semiconductor layer 3, the active layer, and the n-type semiconductor layer 2, and a sapphire substrate which is a substrate for crystal growth is removed from a surface in the thickness direction of the light emitting part B.例文帳に追加

ｐ形半導体層３と上記活性層とｎ形半導体層２とで発光部Ｂを構成し、発光部Ｂの厚み方向の一面から結晶成長用基板であるサファイア基板が除去されている。 - 特許庁

A substrate 21 (SOI substrate) equipped with a slab layer 211 composed of Si and a clad layer 212 composed of SiO_2, is used first to form holes 22 for introducing an etching agent in the slab layer 211 by dry etching ((b)).例文帳に追加

Siから成るスラブ層２１１、SiO_2から成るクラッド層２１２を備える基板２１(SOI基板)を用い、まず、ドライエッチングによりスラブ層２１１にエッチング剤導入用空孔２２を形成する((b))。 - 特許庁

A substrate 21 equipped with a slab layer 211 composed of Si and a clad layer 212 composed of SiO_2, is used first to form holes 22 having a periodic array in the slab layer 211 and an in-crystal waveguide 23 by dry etching ((b)).例文帳に追加

Siから成るスラブ層２１１、SiO_2から成るクラッド層２１２を備える基板２１を用い、まず、ドライエッチングによりスラブ層２１１に周期的配列を有する空孔２２と結晶内導波路２３を形成する((b))。 - 特許庁

In the base for photographic printing paper comprising an under resin coating layer (A), a front resin coating layer (B) and a back resin coating layer (C), the weight ratio of (A):(B):(C) is (12-18):(14-20):(20-26).例文帳に追加

下引き樹脂被覆層（Ａ）と、表面樹脂被覆層（Ｂ）と、裏面樹脂被覆層（Ｃ）とからなる写真印画紙用支持体において、前記（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）の重量比が１２〜１８／１４〜２０／２０〜２６である写真印画紙用支持体 - 特許庁

When the detector is cooled at 1K or lower and a voltage is applied between the layer 13 and the electrode 14, B in the layer 11 just under the layer 12 captures holes and B^+ is formed.例文帳に追加

この検出器を１Ｋ以下に冷却し、導電層１３−電荷供給電極１４間に電圧を印加すると、絶縁体層１２直下の半導体層１１にあるＢが正孔を捕獲しＢ^＋が形成される。 - 特許庁

On a transparent base material film, a resin coating layer (A), a resin coating layer (B), and an antireflective layer are laminated in this order and the difference in refractive index between a resin (a) and a resin (b) is ≥0.05.例文帳に追加

透明な基材フィルム上に、樹脂皮膜層（Ａ）、樹脂皮膜層（Ｂ）及び反射防止層がこの順に積層され、樹脂（ａ）と樹脂（ｂ）との屈折率差が０．０５以上である。 - 特許庁

In an upper pillar layer SJ2, an upper p-type pillar layer 15 and an upper n-type pillar layer 16 are formed alternately with a lateral period B that is smaller than the period A (B<A).例文帳に追加

一方上部ピラー層ＳＪ２は、上部ｐ型ピラー層１５と、上部ｎ型ピラー層１６とを周期Ａよりも小さい横方向の周期Ｂ（Ｂ＜Ａ）で交互に形成してなる。 - 特許庁

From the inner circumferential surface 5r of an attachment hole 5 of the cutting edge replaceable cutting tool 100 toward an inner part, a layer comprising an A-structure and the other layer comprising a B-structure are formed, and a portion more inward than the layer comprising the B structure comprises a C-structure.例文帳に追加

この切削工具１００の取付穴５の内周面５ｒから内部に向かって、Ａ組織からなる層とＢ組織からなる層とが形成され、かつそのＢ組織からなる層よりも内部はＣ組織からなっている。 - 特許庁

Since the layer thickness of the light-transmitting layer varies within a production allowance, the wavelength-transmittance characteristics in the light-transmitting layer at each portion of the recording medium changes as shown in (B), which results in sensitivity variation in each portion of the recording medium.例文帳に追加

光透過層の層厚は製造公差の範囲内でばらついているので、記録媒体の各部分での光透過層の波長−光透過率特性は(B)のように変動し、これが記録媒体の各部分の感度のばらつきとして現れる。 - 特許庁

The second layer 52 is formed with alloy including b-atomic% of cobalt and (100-b)-atomic% of iron while (b) is ≥70, ≤90, and also an oxidation process is applied on the face of the second layer 52 at the side opposite to the first layer 51.例文帳に追加

第２層５２は、コバルトをｂ原子％、鉄を（１００−ｂ）原子％含み、ｂが７０以上、９０以下である合金によって形成され、且つ第２層５２における第１層５１とは反対側の面には酸化処理が施されている。 - 特許庁

The foamy fixing liquid B is deposited on the surface of an applying roller 21 as a layer, and the layer of the foamy fixing liquid A is stacked on the layer of the foamy fixing liquid B.例文帳に追加

泡状定着液Ｂは、塗布ローラ２１の表面に層となって付着し、該泡状定着液Ｂの層の上に泡状定着液Ａの層が積層される。 - 特許庁

(b) A fluid is driven into the bladder 3 while suppressing the vulcanization of the second rubber layer 54, and the first rubber layer 53 is pressed to the forming section 9, and a rib section 52 is formed on the first rubber layer 53 and is vulcanized.例文帳に追加

(b)第二ゴム層54の加硫を抑制しつつ、ブラダー3内に流動体を圧入して第一ゴム層53を型付部9に押圧し、この第一ゴム層53にリブ部52を形成して加硫する。 - 特許庁

The coated layer 10 is formed by coating a rubber-based coating material on a grip part-forming position of the rod material B, and the rod material B having the formed coated layer 10 is integrally baked with the coated layer 10.例文帳に追加

竿素材Ｂの握り部形成位置にゴム系塗料を塗布して塗装層１０を形成し、その塗装層１０を形成した竿素材Ｂをその塗装層１０とともに一体で焼成する。 - 特許庁

Also the layer B is embossed and an emboss pattern is transferred onto the surface of the layer B when the layer is hot laminated to obtain a laminate molded product provided with emboss or grain patterns formed on the surface and also provided with high added value.例文帳に追加

また、Ｂ層をエンボス加工しておくことによって、熱ラミ時にエンボス模様がＡ層の表面に転写され、表面にシボや木目等の模様を刻設した付加価値の高い積層成形物が得られる。 - 特許庁

The multilayered fluoroplastic substrate is constituted by laminating the polyimide resin layer (B), the fluoroplastic layer (A) and the inorganic substrate (C) in this corder and the coefficient of linear expansion of the layer (A)/layer (B) laminate in the multilayered fluoroplastic substrate, the coefficient of linear expansion of the inorganic substrate (C) and the thickness ratio of the layer (A) are set to a predetermined range.例文帳に追加

（Ｂ）ポリイミド樹脂層／（Ａ）フッ素樹脂層／（Ｃ）無機基板がこの順に積層されてなる多層フッ素樹脂基板で、該多層フッ素樹脂基板中（Ａ）層（Ｂ）層積層体の線膨張係数、（Ｃ）無機基板の線膨張係数、（Ａ）層の厚さ比、を所定範囲内とする多層フッ素樹脂基板。 - 特許庁

Furthermore, the adjustment section 254 adjusts the display position of the A-layer video image in such a way that a difference between the display positions of the A-layer contour and the B-layer contour is matched within a second allowable range on the basis of a positional relation between the A-layer contour and the B-layer contour.例文帳に追加

また、調整部２５４は、Ａ階層輪郭とＢ階層輪郭との位置関係に基づいて、Ａ階層輪郭部及びＢ階層輪郭部の表示位置の差が第２許容範囲内で一致するように、Ａ階層映像の表示位置を調整する。 - 特許庁

The charging roller is provided with an elastic layer B on an outer circumference of a conductive substrate A and a coated layer C provided on the elastic layer B and having a single or a plurality of layers, wherein at least the topmost layer E in the coated layer C contains hydrocarbon-based wax with a melting point of 110°C or higher and 170°C or lower.例文帳に追加

導電性基体Ａの外周上に、弾性層Ｂと、該弾性層Ｂ上に、単一又は複数の層からなる被覆層Ｃと、を有する帯電ローラにおいて、該被覆層Ｃの少なくとも最表面層Ｅが、融点が１１０℃以上、１７０℃以下である炭化水素系ワックスを含有する帯電ローラ。 - 特許庁

The method for fabricating a semiconductor device comprises a step (a) for forming a silicon layer 20 and a silicide layer 30 of high melting point metal sequentially in multilayer on a silicon oxide layer 10, a step (b) for etching the silicide layer 30, and a step (c) for etching the silicon layer 20 following to the step (b).例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、（ａ）酸化シリコン層１０の上に、シリコン層２０および高融点金属のシリサイド層３０が順次積層された積層体を形成する工程、（ｂ）シリサイド層３０をエッチングする工程、（ｃ）工程（ｂ）の後に、シリコン層２０をエッチングする工程を含む。 - 特許庁

This transfer film for forming the metallic pattern is laminated with (A) a resist layer, (B) a metal foil layer formed by rolling, and (C) a pressure-sensitive adhesive layer in this order on a support film, and is constituted to make a flow direction of the resist layer (A) at the forming time substantially in parallel to an rolling direction of the metal foil layer (B).例文帳に追加

支持フィルム上に、（Ａ）レジスト層、（Ｂ）圧延により形成された金属箔、および（Ｃ）粘着層がこの順に積層されてなり、前記レジスト層（Ａ）の形成時の流れ方向が、前記金属箔（Ｂ）の圧延方向と略平行であることを特徴とする金属パターン形成用転写フィルム。 - 特許庁

Also, the non-magnetic foundation layer is a layer comprising V-Ti system alloy or V-Ti-B system alloy, and a Cr layer or a layer comprising Cr alloy layer consisting of one kind or two kinds or more selected from Cr and Ti, Mo, Al, Ta, W, Ni, B, Si, and V.例文帳に追加

また、非磁性下地層を、Ｖ−Ｔｉ系合金、または、Ｖ−Ｔｉ−Ｂ系合金を含む層と、Ｃｒ層、または、ＣｒとＴｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｔａ、Ｗ、Ｎｉ、Ｂ、ＳｉおよびＶから選ばれる１種もしくは２種類以上とからなるＣｒ合金層を含む層とする。 - 特許庁

The filter bag used for a bag filter to treat combustion waste gas or the like has a layer A to collect dust particles, a layer B comprising catalytic fibers disposed in the downstream side of the layer A, and a layer C having wear resistance disposed in the downstream side of the layer B.例文帳に追加

燃焼排ガス等を処理するバグフィルターに使用するフィルターバグにおいて、ダスト粒子を捕集するＡ層と、Ａ層の下流側に位置し触媒繊維からなるＢ層と、さらにＢ層の下流に位置する耐磨耗性を有するＣ層とを有するものである。 - 特許庁

The decorative film comprises a polyester film (A) which has a hard coating layer (B) on its one side, a layer containing a photoluminescent pigment (C) on the other side of the hard coating layer (B), and a sticky adhesive layer (D) on the layer (C).例文帳に追加

ポリエステルフィルム（Ａ）の片面にハードコート層（Ｂ）を有し、該ポリエステルフィルム（Ａ）の、ハードコート層（Ｂ）を有する面とは反対の面に、光輝性顔料を含有する層（Ｃ）を、および該層（Ｃ）の上に粘着剤層（Ｄ）を有することを特徴とする装飾用フィルム。 - 特許庁

The waste ink liquid absorber is characterized in that a core material layer (C) having rigidity higher than those of an upper absorber base material layer (A) and a lower absorber base material layer (B), is formed between the base material layer (A) and the base material layer (B).例文帳に追加

本発明のインク廃液吸収体は、上面吸収体基材層（Ａ）と下面吸収体基材層（Ｂ）との間に、該基材層（Ａ）および基材層（Ｂ）よりも高い剛性を有する芯材層（Ｃ）が形成されてなることを特徴とする。 - 特許庁

The thermal transfer material for digital printing is characterized in that a coloring transfer layer A including at least a cured resin layer B is provided on one surface side of a base material and the cured resin layer B is made of a cured material of a resin composition b including a coloring material and an ionizing radiation-curable resin.例文帳に追加

基材の一面側に、少なくとも硬化樹脂層Ｂを含む着色転写層Ａが設けられており、硬化樹脂層Ｂは色材及び電離放射線硬化性樹脂を含む樹脂組成物ｂの硬化物からなることを特徴とするデジタル印刷用熱転写材。 - 特許庁

This laminated body at least has the resin layer (A) including a propylene resin (a), a resin layer (B) including an acrylic resin (b) having a flexural modulus of 100 MPa or more to 1,500 MPa or less and a resin layer (C) including an acrylic resin (c) in the order of the resin layers (A), (B) and (C).例文帳に追加

プロピレン系樹脂（ａ）を含む樹脂層（Ａ）、１００ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下の曲げ弾性率を有するアクリル系樹脂（ｂ）を含む樹脂層（Ｂ）、及びアクリル系樹脂（ｃ）を含む樹脂層（Ｃ）を少なくとも有し、該樹脂層（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）がこの順序で積層されている積層体。 - 特許庁