Bernoulliを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 52件
It is also well known that Seki actually discovered Bernoulli numbers before Jakob BERNOULLI did. 例文帳に追加
ヤコブ・ベルヌーイに先駆けてベルヌーイ数を発見していたことも知られている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
In a sense, what bernoulli was saying is例文帳に追加
ベルヌーイが言っていた事はある意味で - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
NON-CONTACT TRANSFER DEVICE AND BERNOULLI CHUCK例文帳に追加
非接触搬送装置及びベルヌーイチャック - 特許庁
The Bernoulli chuck 14 is in an annular plate shape having a hollow portion in which the first Bernoulli chuck 12 is stored.例文帳に追加
第2のベルヌーイチャック14は、第1のベルヌーイチャック12を収容可能な中空部を有する環状板状を呈する。 - 特許庁
The lifting mechanism 62 is configured to lift up and down the Bernoulli chuck from and to the second Bernoulli chuck 14.例文帳に追加
昇降機構62は、第2のベルヌーイチャック14に対して第1のベルヌーイチャック12を昇降させるように構成される。 - 特許庁
An aligner device 10 includes a first Bernoulli chuck 12, a second Bernoulli chuck 14, a lifting mechanism 62, and a rotating mechanism 64.例文帳に追加
アライナ装置10は、第1のベルヌーイチャック12、第2のベルヌーイチャック14、昇降機構62、および回転機構64を少なくとも備える。 - 特許庁
The rotating mechanism 64 is configured to rotate the first Bernoulli chuck 12 and second Bernoulli chuck 14 in the same direction at the same speed.例文帳に追加
回転機構64は、第1のベルヌーイチャック12と第2のベルヌーイチャック14とを同一方向に同一速度で回転させることが可能に構成される。 - 特許庁
The hand part of parallel mechanism is provided with a Bernoulli chuck which sucks and holds a substrate in non-contact state, and a plurality of regulation pins arranged in such manner as surround the Bernoulli chuck.例文帳に追加
パラレルメカニズムのハンド部に、基板を非接触状態で吸引保持するベルヌーイチャックと、ベルヌーイチャックの周囲を囲む状態で配置される複数個の規制ピンとを設ける。 - 特許庁
To provide a Bernoulli chuck that picks up and carries a vertically oriented workpiece.例文帳に追加
縦置きのワークを取り出して搬送することができるベルヌーイチャックを提供する。 - 特許庁
A Bernoulli sucker 4 also sucks to the wafer 10 by blowing out airflow.例文帳に追加
また、ベルヌーイ吸着器4も気流を吹き出すことで、ウェハ10に吸着する。 - 特許庁
The noncontact holding device 1 includes an ultrasonic levitating unit 10 and a Bernoulli chuck 20.例文帳に追加
非接触保持装置1は、超音波浮揚ユニット10と、ベルヌーイチャック20とを備えている。 - 特許庁
To heighten the cutoff valve operating speed by reducing Bernoulli force during normal braking event, and improve response time and stop distance without interruption of Bernoulli force generated during the controlled braking event.例文帳に追加
通常のブレーキング事象中にベルヌーイ力を低減し、遮断弁作動速度を高め、制御されたブレーキング事象中に生ずるベルヌーイ力を途絶させないで応答時間及び停止距離を向上させることにある。 - 特許庁
The conveying robot 6 is provided with a Bernoulli chuck mechanism on a lower surface of a robot hand 62 and with a tray support part on an upper surface.例文帳に追加
搬送ロボット6は、ロボットハンド62の下面にベルヌーイチャック機構、上面にトレイ支持部が設けられている。 - 特許庁
Then, the inactive gas is supplied to the processed wafer delivered from the first holding part by a bernoulli chuck (Process A4).例文帳に追加
その後、第1の保持部からベルヌーイチャックに受け渡された被処理ウェハに対して不活性ガスを供給する(工程A4)。 - 特許庁
As a result, the hand 1 holds the wafer 10 by the suction by the suction pads 3a and 3b and the Bernoulli sucker 4.例文帳に追加
この吸着パッド3a,3bとベルヌーイ吸着器4による吸着でもって、ハンド1はウェハ10を保持する。 - 特許庁
To provide Bernoulli chuck 1 to enhance a suction holding power of Bernoulli effect by substantially expanding a suction holding surface 3 while preventing sliding of a suction-held work W, and to allow optimum suction holding by exchanging only a chuck auxiliary part 6 using a common Bernoulli chuck for adaptation with a work W of different shape and diameter.例文帳に追加
吸着保持面3を実質的に拡大させてベルヌーイ効果による吸着保持力を増強させ且つ、吸着保持したワークWのスライドを防止すると共に、共通のベルヌーイチャックを用いてチャック補助部6のみを交換し、形状や口径の異なるワークWに適合させて最適な吸着保持を可能にすることなどを目的としたベルヌーイチャック1を提供する。 - 特許庁
To prevent sideslip without damaging a thin film article when the thin film article is sucked by a hand utilizing the Bernoulli effect.例文帳に追加
ベルヌーイハンドで薄膜状物体を吸着したときに、薄膜状物体を損傷させることなく、横滑りを防止する。 - 特許庁
First, an exfoliated wafer 12 supported by the Bernoulli chuck 21 is recovered and then the SOI wafer on the susceptor 16 is recovered.例文帳に追加
最初にベルヌイチャック21に保持された剥離ウェーハ12を回収し,次に、サセプタ16上のSOIウェーハを回収する。 - 特許庁
Further, a gas from which a component causing CVD when UV rays are applied is removed is used as the gas to be supplied to the Bernoulli chuck.例文帳に追加
また、ベルヌーイチャックに供給するガスとして紫外線が照射されるとCVDを起こす成分を除去したものを使用する。 - 特許庁
The processed wafer W is held by a Bernoulli chuck in the first holding part 270, the second holding part 271, and the transfer mechanism.例文帳に追加
第1の保持部270、第2の保持部271及び搬送機構における被処理ウェハWの保持は、ベルヌーイチャックにより行われる。 - 特許庁
When the chuck base 20 is moved down from above the laminated work-pieces 80 by the parallel mechanism robot 3 and the work-piece 80 of the top layer, out of the laminated work-pieces 80, is picked up by the Bernoulli chuck 12, the air nozzle 20 starts blowing the air before the Bernoulli chuck 12 starts the absorption.例文帳に追加
パラレルメカニズムロボット3によりチャックベース20が積層されたワーク80の上方から降下され、積層されたワーク80のうち最上段のワーク80がベルヌーイチャック12でピックアップされる際に、エアノズル20は、ベルヌーイチャック12が吸引を開始するよりも先に、エアの吹き付けを開始する。 - 特許庁
The Bernoulli chuck 20 has a hat-shaped body 24 having a recess 21 and a jet hole 25 for jetting high-pressure air into the recess 21.例文帳に追加
ベルヌーイチャック20は、凹部21及び該凹部21内に高圧エアを噴出するための噴出孔25が形成されたハット形の本体24を有している。 - 特許庁
The flow rate of the gas flowing to an external circumferential side along the rear surface of the wafer is accelerated between the rear surface of the wafer and a second cup, and is held by a Bernoulli effect.例文帳に追加
ウェーハの裏面に沿って外周側へと流れるガスの流速が、ウェーハの裏面と第2カップとの間で速められ、ベルヌーイ効果により保持される。 - 特許庁
A Bernoulli chuck 21 holds a laminated wafer 10 resulting from laminating an active layer wafer to which rare gas ions are implanted to a support wafer via an oxide film.例文帳に追加
希ガスをイオン注入した活性層用ウェーハを酸化膜を介して支持用ウェーハに貼り合わせた貼り合わせウェーハ10を、ベルヌイチャック21で保持する。 - 特許庁
Next, the residual wafer 28 is sucked and held in a wafer holding position 60 by the Bernoulli chuck 1, and then it is shifted and recovered to a remaining wafer recovery stage 50''.例文帳に追加
次に、同様にベルヌーイチャック1により、ウェーハ保持位置60にて残存ウェーハ28を吸引・保持し、そして、残存ウェーハ回収台50’’に移動・回収する。 - 特許庁
A transfer apparatus 1 includes: a Bernoulli chuck 12 holding work-pieces 80 in a non-contact manner; a chuck base 10 to which the Bernoulli chuck 12 is attached; a parallel mechanism robot 3 moving the chuck base 10 in the air; and an air nozzle 20 blowing air to an upper layer part of the work-pieces 80 laminated on a cassette 70 from the lateral side.例文帳に追加
移載装置1は、ワーク80を非接触状態で保持するベルヌーイチャック12と、ベルヌーイチャック12が取り付けられたチャックベース10と、チャックベース10を空間内で移動させるパラレルメカニズムロボット3と、カセット70に積層されたワーク80の上層部に向けて側方からエアを吹き付けるエアノズル20とを備える。 - 特許庁
On this occasion, dust D on the surface plate 12 is attracted to the pressurized gas by a Bernoulli effect and guided together with the pressurized gas in a direction separated from the surface plate 12.例文帳に追加
この際、定盤12上の塵Dがベルヌーイ効果により加圧気体に引きつけられ、その加圧気体とともに、定盤12から離れる方向に案内される。 - 特許庁
A confined space part 41 is set in the intermediate part 21 to narrow the passage of the water conducting passage 23 and to mix the city water with the liquid fertilizer 36 sucked up by Bernoulli effect.例文帳に追加
中間部材21に狭小部41を設けて導水路23の経路を狭め、ベルヌーイ効果によって液体肥料36を吸い上げて水道水に混合する。 - 特許庁
A substrate processor jets a gas from a blast nozzle 604 formed on a shielding plane 601 of an atmosphere-shielding part 60, and attracts a substrate W by the Bernoulli effect.例文帳に追加
基板処理装置は雰囲気遮蔽部60の遮蔽面601に形成された噴出口604よりガスを噴出し、ベルヌーイ効果で基板Wを吸着する。 - 特許庁
To fully raise the holding efficiency of a holding hand 5 by preventing generation of a positive pressure as repulsion near the circumferential edge of the nozzle aperture 15 of a Bernoulli chuck 13.例文帳に追加
ベルヌーイチャック13のノズル口15の周縁部付近に斥力としての正圧が発生することを抑えて、保持ハンド5の保持効率を十分に高めること。 - 特許庁
A non-contact holding device 1 mounted to a parallel mechanism robot 100 includes: a square plate-like base member 10; a Bernoulli chuck 20 mounted to the rear face center part of the base member 10; and eight pin-like guide members 30 opposedly arranged on both sides of the Bernoulli chuck 20 and protrusively provided on the rear face of the base member 10.例文帳に追加
パラレルメカニズムロボット100に取り付けられた非接触保持装置1は、正方形の板状のベース部材10と、ベース部材10の裏面中央部に取り付けられたベルヌーイチャック20と、ベルヌーイチャック20を挟んで対向して配置されて、ベース部材10の裏面に突設された8本のピン状のガイド部材30とを備えている。 - 特許庁
When a hand of the conveying device holds the wafer 100 from upside in a suspended form and delivers a Bernoulli disk 30 to the wafer aligning device 1, this Bernoulli disk 30 holds the wafer 100 with an adjoining isolation and rotates the spindle 45 in the state of touching the wafer 100 by means of the clampers 41 to 43, and consequently the notch and the orientation flat are detected by the sensor portion 6.例文帳に追加
搬送装置のハンドがウェハ100をその上面から懸垂保持してベルヌーイ円盤30をウェハ位置合わせ装置1に受け渡すと、このベルヌーイ円盤30はウェハ100を近接隔離して保持し、かつクランパ41〜43でウェハ100に当接した状態でスピンドル45を回転させ、センサ部6でノッチやオリフラを検出する。 - 特許庁
In the photomask case, a Bernoulli chuck is fitted to a photomask case used as heretofore and, thereby, the photomask and photomask blank are suspended in non-contact with the case and are stably retained.例文帳に追加
ベルヌーイチャックを従来から使用されているフォトマスクケースに装着することにより、フォトマスク及びフォトマスクブランクを非接触に懸垂し、安定して保持することができるフォトマスクケース。 - 特許庁
To provide a transfer device which relaxes positional precision of a hand part when a substrate is sucked and held with a Bernoulli chuck, for efficient transfer of a substrate in non-contact state at a high speed.例文帳に追加
ベルヌーイチャックで基板を吸引保持するときのハンド部の位置精度を緩やかなものとして、非接触状態での基板の移載を高速度で能率よく行なえる移載装置を提供する。 - 特許庁
The rotor 26 has the cross section shape of a trapezoid expanding downward and rotates with a high peripheral velocity so as to enlarge the Bernoulli effect, which results in evacuating the exhaust gas from a whole side wall 27.例文帳に追加
ロータ26の断面形状は、下方に向かって拡がる台形状とされており、周速を大きくし、ベルヌーイ効果を大きくすることで、側壁27の全体から排ガスを排出させられる。 - 特許庁
To simply recover a regulation function of a regulation body with a short time and labor in a substrate transfer apparatus which makes the regulation body position and hold a substrate sucked and held by a Bernoulli chuck at a predetermined position.例文帳に追加
ベルヌーイチャックで吸引保持した基板を、規制体で所定姿勢に位置保持する基板移載装置において、規制体の規制機能の回復をより少ない手間で簡便に行うことができるようにする。 - 特許庁
The armature includes a ball end part engaged with a ball bearing seat 106, and an edge groove in the ball end part, and when the solenoid coil assembly 40 is de-energized, Bernoulli force exerted on the movement of the armature is changed.例文帳に追加
アーマチュアは、ボール受け座106に係合するボール端部と、ボール端部における縁部みぞ31とを備え、ソレノイド・コイル・アセンブリ40の消勢時に、アーマチュアの運動に影響を及ぼすベルヌーイ力を変える。 - 特許庁
A hand body 7 is provided with a plurality of Bernoulli chucks 13 each having a nozzle aperture 15 opening on the distal end side and capable of spouting out air, and an introduction hole 17 capable of introducing air along the inner wall surface of the nozzle aperture 15 and coupled with an air supply source 19 for supplying air wherein the circumferential edge of the nozzle aperture 15 of each Bernoulli chuck 13 has an acute shape.例文帳に追加
ハンド本体7に複数のベルヌーイチャック13が設けられ、各ベルヌーイチャック13は、先端側が開口しかつエアを噴出可能なノズル口15をそれぞれ有し、各ベルヌーイチャック13にノズル口15の内壁面に沿うようにエアを導入可能かつエアを供給するエア供給源19に接続した導入孔17がそれぞれ形成され、各ベルヌーイチャック13のノズル口15の周縁部が先鋭形状をそれぞれ呈していること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for an optical disk substrate free from fluctuation in optical characteristics and mechanical strength, especially a flexible optical disk substrate having properties by which the disk substrate can be stably floated by Bernoulli' effect and to provide a flexible optical disk using the substrate.例文帳に追加
光学特性や機械的強度にばらつきのない光ディスク基板の製造方法、特に安定にベルヌーイ浮上できる物性を有するフレキシブル光ディスク基板、その基板を用いたフレキシブル光ディスクを提供する。 - 特許庁
A vibration surface of the vibrating plate 17 of the ultrasonic levitating unit 10 and an opening end face of the recession 21 formed on the body 24 of the Bernoulli chuck 20 are so arranged as to face the work 80 when the work 80 is held.例文帳に追加
超音波浮揚ユニット10の振動板17の振動面、及び、ベルヌーイチャック20の本体24に形成された凹部21の開口端面それぞれは、ワーク80が保持される際に、該ワーク80と対向するように配置されている。 - 特許庁
A Bernoulli chuck 1 is shifted to a wafer retaining position 60 on the susceptor 20 by driving an arm 56, and the laminated wafer 27 positioned above is sucked, and next it is shifted and recovered to a laminated wafer recovery stage 50'.例文帳に追加
ベルヌーイチャック1をサセプタ20上のウェーハ保持位置60にアーム56を駆動することにより移動させ、上側に位置している貼り合わせウェーハ27を吸引し、ついで貼り合わせウェーハ回収台50’に移動・回収する。 - 特許庁
The parameters (a), (b) and (h) are selected to generate, in response to a droplet of the liquid impinging upon the surface portion (320) at a relative velocity (v), back pressure that is greater than Bernoulli pressure generated by the droplet upon impact on the surface portion (320).例文帳に追加
パラメータa、b及びhは、相対速度vで表面部分(320)上に衝突する液滴に対応して、該表面部分(320)上への衝突時に該液滴によって生成されるベルヌーイ圧よりも大きい背圧を生成するように選択される。 - 特許庁
The opposed guide members 30 are configured to be movable in mutually separating directions, and as the Bernoulli chuck 20 approaches workpiece placing surfaces 75 of workpiece placing trays 70, 71, the guide members 30 move in the mutually separating direction along the inner surfaces of guide holes 72 formed in the workpiece placing trays 70, 71.例文帳に追加
対向するガイド部材30は、互いに離れる方向に移動可能に構成されており、ワーク載置トレイ70,71のワーク載置面75にベルヌーイチャック20が近づくに従って、該ワーク載置トレイ70,71に形成されているガイド案内孔72の内面に沿って、互いに離れる方向に移動する。 - 特許庁
The means for generating the pressure difference comprises a vacuum pump 70 generating vacuum on the lower surface 50 of the image receiving medium 30 or a pneumatic pump for passing an air flow over the lower surface 50 of the image receiving medium 30 to generate 'Bernoulli effect'.例文帳に追加
その圧力差を生じさせる手段は、受像媒体30の下部面50に真空を発生させるようにした真空ポンプ70を、又は「ベルヌーイ効果」を生じさせるように受像媒体30の下部面50にわたり空気流を通過させるようにした空気ポンプを具有する。 - 特許庁
When installing the wafer 2 on a tray 3 placed on a transfer table 4, the Bernoulli chuck mechanism 29 holds the wafer in a non-contact state with an upward surface of the wafer 2, and can place a surface of the wafer 2 on the tray 3 in the non-contact state by a decline operation of the secondary-side wafer transfer means 11.例文帳に追加
移載テーブル4に載置したトレイ3にウエーハ2を載置するときには、ベルヌーイチャック機構29はウエーハ2の上向きの表面と無接触状態で保持でき、この結果二次側ウエーハ移送手段11の下降作用によりウエーハ2の表面を無接触状態でトレイ3に載置することができる。 - 特許庁
To provide a transfer device for efficiently transferring a substrate in a non-contact state at high speed with positional accuracy of a hand portion when the substrate is sucked and held by a Bernoulli chuck held not strict and automatically positioning the sucked and held substrate by the substrate itself.例文帳に追加
ベルヌーイチャックで基板を吸引保持するときのハンド部の位置精度を緩やかなものとしながら、吸引保持した基板の位置決めを基板自身で自動的に行なって、非接触状態での基板の移載を高速度で能率よく行なえる移載装置を提供する。 - 特許庁
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