「DEFECT OR」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

It is judged whether a defect occurs in a part including EL elements and drivers 2 and 3 or not by data stored in the data register 6.例文帳に追加

データレジスタ６に格納されたデータにより、各ＥＬ素子および各ドライバ２，３を含む一部の箇所に欠陥が発生しているか否かが判定される。 - 特許庁

To provide electronic equipment capable of automatically detecting a connector setting defect and cable breakage (open state) without the need for confirmation by an inspector or a repairer.例文帳に追加

コネクタセット不良・ケーブル断線（開放状態）を検査員または修理者による確認を必要とせず、自動で検出できる電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a method for reducing the occurrence of metal defect, in the formation of a thick metal layer of 1 μm or more, such as an inductor in a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスのインダクタなどの１ミクロン以上の厚い金属層の形成において、金属欠陥の発生を低減する製造方法を提供する。 - 特許庁

To realize cost and space reduction as well as productivity improvement by shortening detection time for a two-ply defect and a crack, or a breakage.例文帳に追加

二枚重ね不良及び割れ・欠け不良の検出時間を短縮し生産性を向上させるとともに、製造原価のコストダウン及び省スペース化を図る。 - 特許庁

To provide a polycrystalline silicon reducing furnace capable of easily depositing polycrystalline silicon without causing surface profile defect or warpage, and a polycrystalline silicon rod.例文帳に追加

表面形状不良やソリがないように多結晶シリコンを析出することが容易な多結晶シリコン還元炉及び多結晶シリコンロッドを提供すること。 - 特許庁

The wafer, in which the ratio of the diameter (d) of a defect existing zone to the diameter of the wafer is 0.8 or less, is heat treated at high temperature, which results in the disappearance of the defects.例文帳に追加

欠陥存在領域の直径ｄと、ウェーハの直径の比が０．８以下のウェーハを、高温熱処理することにより、欠陥が消滅する。 - 特許庁

To provide an information recording method and a device therefor by which a digital video signal can be recorded and lack of an image is not caused at reproduction even when defect by dust or damage exists in an optical disk.例文帳に追加

光ディスクにちりや傷によるディフェクトが存在する場合でもデジタルビデオ信号の記録ができ再生時に画像の欠落を生じないようにする。 - 特許庁

An evaluation processing section 34 evaluates the defect and the characteristics of the magnetic disk 16 by using the result of reading the evaluation pattern written with the excessively large or small current.例文帳に追加

評価処理部３４は過大電流や過小電流で書き込まれた評価パターンの読み出し結果から、磁気ディスク１６の欠陥や特性を評価する。 - 特許庁

The control part 101 sets one or more shot regions to the defect D included in the image acquired by the microscope part 110 after tracking.例文帳に追加

制御部１０１は、追跡後に顕微鏡部１１０が取得した画像に含まれる欠陥Ｄに対して１つ以上のショット領域を設定する。 - 特許庁

Therefore, laser misirradiation due to a reset defect due to LSI malfunction and a performance address change of the program can be prevented or stopped.例文帳に追加

したがって、ＬＳＩ誤動作によるリセット不良および上記プログラムの実行アドレス変化に起因するレーザー誤照射を、防止または停止できる。 - 特許庁

To efficiently manufacture an electronic part which is equipped with an external electrode that is high in dimensional accuracy and has no defect such as pinholes or the like, and excellent in reliability.例文帳に追加

形状精度が高く、ピンホールなどの欠陥のない外部電極を備えた信頼性の高い電子部品を効率よく製造することを可能ならしめる。 - 特許庁

To provide an inspection method of a flat sample capable of inspecting with high sensitivity a defect not only on the surface of the flat sample but also inside or on the rear.例文帳に追加

平板状試料の表面のみならず、内部、裏面の欠陥に対して、感度良く検査することができる平板状試料の検査方法を得る。 - 特許庁

To keep high throughput in an SEM-type defect review apparatus for automatically collecting a defective image existent on a sample such as a semiconductor wafer or the like.例文帳に追加

半導体ウェーハ等の試料上に存在する欠陥の画像を自動収集するＳＥＭ式欠陥レビュー装置において、高いスループットを提供する。 - 特許庁

To reduce noise generated caused by interference of a velocity defect region or turbulence formed downstream from a fan moving blade with a fan stationary blade.例文帳に追加

ファン動翼の下流側に形成される速度欠損領域や乱流がファン静翼に干渉することによって発生する騒音を低減する。 - 特許庁

To provide a photoconductor having an undercoat layer that can minimize charge defect spots (CDS) and minimize or substantially eliminate ghosting.例文帳に追加

帯電不良スポット（ＣＤＳ）の最小化、ゴーストの最小化もしくは実質的な除去を可能とするアンダーコート層を有する光導電体を提供する。 - 特許庁

To enable to easily determine whether the reason for causing a failure is due to a panel failure or a contact failure, when a lighting defect occurs during a lighting inspection.例文帳に追加

点灯検査時に点灯不良が生じたとき、それがパネル不良に起因するものかコンタクト不良に起因するものかを容易に判断できるようにする。 - 特許庁

To provide a stationary power supply current measuring device for semiconductor which can precisely determine whether a semiconductor to be measured has defect parts or not.例文帳に追加

被測定半導体に故障個所があるか否かを正確に判定することができる半導体の静止電源電流検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dielectric element having a high-quality thin-film crystal which has no inherent defect or crack even if a substrate to be used is inferior to lattice consistency.例文帳に追加

格子整合性が劣る基板を用いても、欠陥やクラックの内在しない、良質な薄膜結晶を有する誘電体素子を提供する。 - 特許庁

To provide an organic simple matrix type EL display element capable of preventing occurrence of a display defect with time or hardly causing it; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

経時的な表示欠陥が生じないまたは生じ難い有機単純マトリクス型ＥＬ表示素子およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem of a defect such as chips, cracks or the like, strain and warpage being generated, when a substrate which comprises irregularities suitable for a solar cell is formed by two sand blasting operations.例文帳に追加

太陽電池に好適な凹凸を有する基板を、２度のサンドブラストにより形成すると、欠けや亀裂等の欠陥や、歪み、反りを生じてしまう。 - 特許庁

Bridge wiring 6 made of tungsten or the like is formed by laser CVD using the third higher harmonic wave of YLF laser without arranging a circuit for repairing a dot defect.例文帳に追加

点欠陥リペア用の回路を設けず、ＹＬＦレーザーの第３高調波を用いるレーザーＣＶＤにより、タングステン等からなるブリッジ配線６を作成する。 - 特許庁

If the abnormity of the wafer is caused by a foreign matter on the reticle, the matter is removed, or if caused by the defect of the reticle pattern, the reticle is replaced.例文帳に追加

さらに、ウエハの異常の原因が、レチクル上の異物にある場合には、それを取り除き、レチクルパターンの欠陥にある場合には、レチクルを交換する。 - 特許庁

To solve problems resulting from charge-up upon correcting a defect in an isolated pattern with an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームで孤立パターンの欠陥を修正するときのチャージアップに起因する問題点を解決する。 - 特許庁

To provide a method of production of a piezoelectric resonator with which a piezoelectric element can be easily bonded to a base substrate and a bonding defect or damping can be effectively suppressed.例文帳に追加

ベース基板に圧電素子を容易に接合でき、接合不良やダンピングなどを有効に抑えることができる圧電共振子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To achieve a process without overetching or insufficient etching and a process with high accuracy in surplus defect correction of a photomask by using atomic force microscope techniques.例文帳に追加

原子間力顕微鏡技術を用いたフォトマスクの余剰欠陥修正でオーバーエッチや削り残しのない加工や高精度な加工を実現する。 - 特許庁

To reduce optical elements causing an image defect and to save space in a laser optical system used for a digital copying machine, a printer or the like.例文帳に追加

デジタル複写機やプリンター等に使用されるレーザー光学系において、画像不良の原因となる光学要素の削減と省スペース化を行う。 - 特許庁

The height of the defect being machined by electron beam or gas ion beam etching is measured with one probe in the independently actuatable probes to detect an end point.例文帳に追加

独立に駆動できる探針のうち1本の探針で、電子ビームまたはガスイオンビームエッチングで加工中の欠陥の高さを測定して終点検出を行う。 - 特許庁

In one embodiment, a tissue scaffold is delivered into a patient through a cannula to a cavity formed at a defect site in a tissue, for example, a cartilage or the like.例文帳に追加

一実施形態において、組織足場はカニューレを通して患者内に、例えば軟骨などの組織内の欠陥部位に形成された空洞に送達され得る。 - 特許庁

A pinhole position or a beam size is adjusted automatically so as to acquire the optimum arrangement of the optical system based on the database with respect to an input defect shape.例文帳に追加

入力した欠陥形状に対してデータベースに基づき、最適な光学系の配置になるよう自動的にピンホール位置、ビームサイズの調整が行われる。 - 特許庁

Lattice defect parts 103 are formed from the main surface of a silicon substrate 100 to the depth of 2-5 nm by irradiation of silicon atoms or the like.例文帳に追加

シリコン原子等を照射することにより、シリコン基板１００の主表面から２ｎｍ〜５ｎｍの深さにかけて格子欠陥部１０３を形成する。 - 特許庁

To simply mount and demount a shelf unit when a defect is generated in the shelf unit in the case of the continuous formation of shelves or after the formation of the shelves, and to easily form the shelves.例文帳に追加

棚連続形成時もしくは棚形成後に一棚ユニットに不備が生じた場合に簡単に取り付け、取り外しができ、棚形成を容易にする。 - 特許庁

CONSTANT OF CIRCUIT ELEMENT, CONSTANT DIFFERENCE DETECTING CIRCUIT, POSITION DETECTOR USING IT, IDENTIFICATION INSPECTION DEVICE FOR DEFECT OR EXISTENCE/NONEXISTENCE OF CONDUCTOR, AND TORQUE SENSOR例文帳に追加

回路素子の定数及び定数差検出回路及びそれを用いた位置検出装置及び導体の欠陥或いは有無の識別検査装置及びトルクセンサ - 特許庁

To restrict the occurrence of defect such as the deformation or depression of a turntable when the collisional load exerts between the turntable and a clamp plate through a clamper.例文帳に追加

クランパを介してターンテーブルとクランプ板との間に衝突荷重が作用した際にターンテーブルの変形や沈み込み等の不具合発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a conductive roller which does not have an image defect etc., due to leakage from an end surface or tapered surface and has high precision, and a method for manufacturing the same at low cost.例文帳に追加

端面或いはテーパー面からのリークによる画像不良等がない高精度な導電性ローラと、それを低コストに製造する方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an etching device employing an etching pot in which etching liquid is prevented from leaking to the non-processing surface side due to a defect or a crack at the thin part of an article being processed.例文帳に追加

エッチングポットを用いるものにあって、被処理物の薄肉部分の欠陥や亀裂に起因してエッチング液が非処理面側に漏れることを防止する。 - 特許庁

To reduce a defect that a communication method is not sufficiently adapted to the quality of a communication channel with noise and/or a communication channel to be interfered.例文帳に追加

雑音のある通信チャネル及び／又は干渉を受ける通信チャネルの品質に十分に適合しないという欠点を軽減することを目的とする。 - 特許庁

To provide a technique which detects a defect, such as short circuits in a device such as a discrete pixel detector or the like used in a digital X-ray system.例文帳に追加

デジタルＸ線システムで使用されるディスクリート画素検出器などの装置における短絡のような欠陥を検出する技法を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring circuit board with semiconductor components which does not easily generate defect such as crack or the like at solder connector during the reflow process of flip-chip connection.例文帳に追加

フリップチップ接続のリフロー処理時において、半田接続部に亀裂等の欠陥を生じにくい半導体部品付き配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a rim of a large or medium sized steel wheel by which a configurational defect remaining at the joined part is removed after a butt welding and a trimming in performed.例文帳に追加

大・中型スチールホイールの、突合せ溶接、トリミング後に接合部に残っている形状的欠陥を除去できるリムの製造方法の提供。 - 特許庁

To prevent pattern collapse of a line end portion or a defect pattern as a whole and to improve the process margin in lithography and the manufacturing yield of a device.例文帳に追加

ライン端部のパターン倒壊若しくはパターン自体がディフェクトとなるのを防止し、リソグラフィのプロセスマージン及びデバイスの製造歩留まりの向上をはかる。 - 特許庁

To develop a forming process of forged product free from defect such as crack without either enlargement and complication of equipment or deterioration in dimensional accuracy of forged product.例文帳に追加

設備の大型化や複雑化、鍛造品の寸法精度の低下等を招くことなく、クラック等の欠陥のない鍛造品の成形を実現する。 - 特許庁

To provide a method for bonding an IC chip to a substrate by a non-conductive adhesive wherein the drawback or defect of a conventional joining method is improved.例文帳に追加

従来の接合方法の欠点あるいは短所を改善した、不導体接着材によって基板にＩＣチップをボンディングする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus or the like capable of eliminating the influence of the optical characteristics of the apparatus on the inspection without requiring complicated work.例文帳に追加

煩雑な作業を要することなく、装置の光学特性の検査への影響を排除することができる欠陥検査装置等を提供する。 - 特許庁

To provide a developing method for suppressing the occurrence of a precipitation-induced defect in a developing process, changes in a CD or dissolution of a resist pattern caused by a rinsing liquid.例文帳に追加

現像処理における析出系欠陥の発生、ＣＤ変動、リンス液によるレジストパターンの溶解を抑制する現像処理方法を提供する。 - 特許庁

A defect such as a chip or crack is detected based on the variation of the first and second detection positions when the inspection part is scanned along the edge.例文帳に追加

そしてエッジに沿って検査部位を走査したときの第１および第２の検出位置の変化から欠けやひび割れ等の欠陥を検出する。 - 特許庁