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FLUORICを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 102



例文

METHOD FOR MODIFYING FLUORIC RESIN AND ABRASION RESISTANT FLUORIC RESIN POWDER例文帳に追加

弗素樹脂の改質方法および耐摩耗性弗素樹脂粉末 - 特許庁

METHOD FOR ANALYZING ALUMINUM IN FLUORIC ACID例文帳に追加

フッ酸中のアルミニウムの分析方法 - 特許庁

FLUORIC ACID WASTE LIQUID TREATING DEVICE AND ITS METHOD例文帳に追加

フッ酸廃液処理装置およびその方法 - 特許庁

WATER-DISPERSION TYPE FLUORIC COPOLYMER COMPOSITION例文帳に追加

水分散型フッ素系共重合体組成物 - 特許庁

例文

To provide a fluoric acid waste liquid treating device and its method which can effectively recover recyclable fluoric acid containing water from a fluoric acid waste liquid.例文帳に追加

フッ酸廃液から再利用可能なフッ酸含有水を効率良く回収することができるフッ酸廃液処理装置およびその方法を提供する。 - 特許庁


例文

A glass plate 1 and a silicon substrate 3 are bonded by fluoric acid.例文帳に追加

ガラス板1とシリコン基板3をフッ酸で接合する。 - 特許庁

To sensitively analyze aluminum being contained in fluoric acid by using a frameless atomic absorption method regardless of the concentration of the fluoric acid.例文帳に追加

フッ酸の濃度に拘らず、フッ酸中に含まれるアルミニウムをフレームレス原子吸光法により高感度で分析する。 - 特許庁

The fluoric intermediate gases COF_4 react with water and become fluoric etching gases of HF or the like with oxide silicon etching ability.例文帳に追加

フッ素系中間ガスのCOF_4は、水と反応して酸化シリコンのエッチング能を有するHF等のフッ素系エッチングガスとなる。 - 特許庁

Next, fluoric acid vapor 6 is sprayed on the surface of the silicon wafer 4.例文帳に追加

次に、フッ酸蒸気6をシリコンウェーハ4の表面に吹き付ける。 - 特許庁

例文

Fluoric acid vapor is generated by a fluoric acid generation container 10, and is supplied to a substrate treatment chamber 10 via a treatment gas supply path 40.例文帳に追加

ふっ酸蒸気発生容器10でふっ酸蒸気を発生させ、これをキャリアガスにより、処理ガス供給路40を介して基板処理室10に供給する。 - 特許庁

例文

This lubricant agent layer comprises a fluoric lubricant agent containing polytetrafluoroethylene resin and a fluoric lubricating oil and has thickness of 0.5 μm or more and 10 μm or less.例文帳に追加

この潤滑剤層は、ポリ四フッ化エチレン樹脂及びフッ素系潤滑油を含有するフッ素系潤滑剤からなり、その厚さは0.5μm以上10μm以下である。 - 特許庁

To provide a method for modifying a fluoric resin by which a fine pulverizable process can be easily carried out, and to provide a fine fluoric resin powder excellent in abrasion resistance obtained by the method.例文帳に追加

微細な粉砕加工を容易に行えるようになる弗素樹脂の改質方法と、これより得られる微細かつ耐摩耗性に優れた弗素樹脂粉末を提供する。 - 特許庁

Thus, fluoric reactive gases are generated which contain COF_4 of non-radical fluoric intermediate gases and in which a ratio of the number of fluorine atoms (F), and the number of hydrogen atoms (H) is (F)/(H)>1.5.例文帳に追加

これにより、非ラジカルのフッ素系中間ガスであるCOF_4を含み、フッ素原子数(F)と水素原子数(H)の比が(F)/(H)>1.5であるフッ素系反応性ガスが生成される。 - 特許庁

Thereafter, the first metal layer 6 is etched with nitric fluoric acid via the second metal layer 6.例文帳に追加

その後、フッ硝酸で第2金属層10を媒介して第1金属層6をエッチングする。 - 特許庁

Thus, obtained low dew point fluoric raw material gases are passed through a plasma space 26 near an atmospheric pressure.例文帳に追加

こうして得られた低露点フッ素系原料ガスを大気圧近傍のプラズマ空間26に通す。 - 特許庁

The thermally oxidized SiO_2 film 22 which becomes unnecessary is etched and removed using fluoric acid to obtain the shadow mask 24.例文帳に追加

不要となった熱酸化SiO_2膜22を、弗酸を用いて蝕刻除去することでシャドウマスク24を得る。 - 特許庁

In a mask 28, a mask substrate 41 made of aluminum is covered with fluoric resin coating 43.例文帳に追加

マスク28は、アルミニウムからなるマスク基板41の表面にフッ素樹脂コーティング43が施されている。 - 特許庁

The oxide film 4a is decomposed by the fluoric acid vapor 6 and the surface of the silicon wafer 4 becomes hydrophobic.例文帳に追加

フッ酸蒸気6によって酸化膜4aが分解し、シリコンウェーハ4の表面は疎水性となる。 - 特許庁

After that, the ground surface is subjected to wet etching by a fluoric nitric acid, and the thickness of the silicon wafer 1 is set to 300 μm.例文帳に追加

次に、研削面をフッ硝酸によりウエットエッチングして、シリコンウエハ1の厚さを300μmにする。 - 特許庁

Crystallized silicon 3 is etched with a fluoric acid or hydrochloric, and an unrequired metal element is removed to form an active layer.例文帳に追加

結晶化したシリコンをフッ酸や塩酸でエッチングして、不要な金属元素を除去し、活性層を形成する。 - 特許庁

The 1st washing liquid contains liquid chemicals, such as fluoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid, ammonia, and pure water.例文帳に追加

第1の洗浄液は、フッ酸、硝酸、塩酸、リン酸、酢酸、アンモニアなどの薬液、および純水を含む。 - 特許庁

Subsequently, the slurry layer 21a is immersed in a fluoric solution S to impart liquid repellency to the slurry layer 21a.例文帳に追加

次いで、スラリー層21aをフッ素系溶液S中に浸すことによってスラリー層21aに撥液性を付与する。 - 特許庁

To obtain a flowmeter that can accurately measure the flowrate of fluid with a high corrosion property such as fluoric acid.例文帳に追加

フッ酸等の腐食性の高い流体の流量を精度良く計測することができる流量計を提供すること。 - 特許庁

As this oxidation treatment, flame irradiation, coating of an aqueous hydrogen peroxide solution, coating of fluoric acid or ultra-violet light irradiation is preferred.例文帳に追加

この酸化処理としては、火炎の照射、過酸化水素水の塗布、フッ酸の塗布又は紫外線照射が好ましい。 - 特許庁

The obtained polyolefin fiber contains 0.001-5 mass% of the fibrillar fluoric polymer and has ≥2.0 GPa tensile modulus of elasticity.例文帳に追加

得られたポリオレフィン系繊維は、フィブリル状のフッ素系ポリマーを0.001〜5質量%含み、引張弾性率が2.0GPaである。 - 特許庁

To provide a plasma CVD method which prevents an electrostatic chuck from being damaged due to fluorine, in cleaning that uses fluoric gas.例文帳に追加

フッ素系ガスを用いるクリーニングにおいてフッ素による静電チャックの損傷を防止し得るプラズマCVD方法を提供する。 - 特許庁

A first mixing section 14 mixes a fluoric acid undiluted solution (for example, having a concentration of 49 wt.%) supplied from a fluoric acid tank 30 and DIW supplied from a DIW supply source to generate a rare-hydrofluoric acid (for example, having a concentration of 2.3 wt.%).例文帳に追加

第1混合部14は、ふっ酸タンク30から供給されるふっ酸原液(濃度がたとえば49wt%)と、DIW供給源から供給されるDIWとを混合して、希ふっ酸(濃度がたとえば2.3wt%)を生成する。 - 特許庁

A wafer W is rotated by a wafer-rotating section 10, fluoric acid is supplied onto surfaces Wa and Wb of the wafer W as washing liquid from upper and lower nozzles 64 and 14, and the wafer W is cleaned by the fluoric acid (a cleaning process).例文帳に追加

ウエハ回転部10によってウエハWが回転させられ、上ノズル64および下ノズル14より洗浄液としてのふっ酸がウエハWの両面Wa,Wbに供給されて、ふっ酸によるウエハWの洗浄が行われる(洗浄工程)。 - 特許庁

This plating soln. consists of a silver salt, a fluoric surfactant and a pH buffer salt.例文帳に追加

銀塩、銀の錯化剤、フッ素系界面活性剤および、PHバッファー塩とからなることを特徴とする電子部品用無電解銀めっき液。 - 特許庁

This lithographic printing plate recording medium is equipped with an ink accepting layer including 20-500 mg/m^2 of at least one kind of organic fluoric compound selected from the group consisting of an organic fluoric compound having a 6-C fluoroalkyl group and a carboxylate in a molecule and an organic fluoric compound having two 6-C fluoroalkyl group and a sulfonate in a molecule on an aluminum support having an anodically oxidizing layer.例文帳に追加

陽極酸化層を有するアルミ支持体上に、分子内に炭素数6のフルオロアルキル基とカルボン酸塩とを有する有機フッ素化合物、及び、分子内に炭素数6のフルオロアルキル基を2つとスルホン酸塩とを有する有機フッ素化合物からなる群より選択される1種以上の有機フッ素化合物を20〜500mg/m^2含有するインク受容層を備えた平版印刷版用記録媒体である。 - 特許庁

Water of a quantity of with a 10°C-40°C dew point is added to CF_4 that is a fluoric raw material containing fluorine and having no reactivity with silicon.例文帳に追加

フッ素を含みシリコンとの反応性を有しないフッ素系原料であるCF_4に、露点が10℃〜40℃になる量の水を添加する。 - 特許庁

Even if non-aqueous electrolytic solution is encapsulated in the sack, it is possible to sufficiently prevent production of fluoric acids originating from externally water infiltration.例文帳に追加

従って、封入袋の内部に非水電解液が封入されても、外部からの水分の侵入によるフッ酸の生成が十分に防止される。 - 特許庁

To provide a gate electrode, that can prevent corrosion due to buffer fluoric acid solution and alkaline-based developer, and to provide a semiconductor device having the gate electrode.例文帳に追加

緩衝フッ酸溶液及びアルカリ系現像液により腐食を防止出来るゲート電極、及びこのゲート電極を有した半導体装置を提供する。 - 特許庁

Fluoric acid vapor is supplied onto the surface of the substrate W by a fluid umbrella nozzle 22 in the etching treatment of an oxide film formed on the substrate W.例文帳に追加

基板W上に形成された酸化膜のエッチング処理において、流体傘ノズル22によりフッ酸蒸気が基板Wの表面に供給される。 - 特許庁

To provide a novel agent for removing scale from the welded portion of stainless steel, which can attain a high scale removing effect without using fluoric acid, and to provide a novel method for removing scale.例文帳に追加

フッ素酸を使用せずに、高いスケール除去効果が得られる、新規のステンレス鋼溶接部のスケール除去剤とスケールの除去方法を提供する。 - 特許庁

Ozone water from an ozone water supply source 43A, and hydrofluoric acid from a fluoric acid supply source 43B are alternately supplied to the upper and lower surfaces of the wafer W.例文帳に追加

基板Wの上下面に対して、オゾン水供給源43Aからのオゾン水と、フッ酸供給源43Bからのフッ酸とが交互に供給される。 - 特許庁

An inlet port 2a and a discharge port 2b are provided to the glass plate 2 by a sand blasting method and the processed glass plate 2 is bonded to the silicon substrate 3 by fluoric acid.例文帳に追加

一方、ガラス板2に導入口2aと排出口2bをサンドブラスト法で加工し、加工したガラス板2を前記シリコン基板3上にフッ酸で接合する。 - 特許庁

The protective film 5 includes an anodic oxide film 6 formed on the surface of the rotor 3 and a fluoric resin protective film 4 formed on the anodic oxide film 6.例文帳に追加

この保護膜5は、ロータ3の表面上に形成される陽極酸化皮膜6と、該陽極酸化皮膜6上に形成されるフッ素樹脂保護膜4とを有する。 - 特許庁

A polyester powder coating material and a fluoric powder coating material are dry-blended with a mixing ratio of 7:3, and after they are electrostatically coated onto a coating object, atmosphere heating is performed on the coating object.例文帳に追加

混合比率をポリエステル粉体塗料7、フッ素粉体塗料3とし、これらをドライブレンドして、被塗物に静電塗着した後、被塗物を雰囲気加熱する。 - 特許庁

A process sequence involving a peeling liquid process using a fluoric peeling liquid for a process time so shortened as not deteriorating a semiconductor device is repeated at least twice.例文帳に追加

半導体装置を劣化しない程度に処理時間を短くした、フッ素系剥離液による剥離液処理を含む処理シーケンスを少なくとも2回以上繰り返す。 - 特許庁

Then only the front-surface oxide film 301 is removed from the semiconductor wafer 101 using diluted fluoric acid, leaving the nitride film 201 only on the front surface of the semiconductor wafer 101.例文帳に追加

続けて、希弗酸を用いて半導体ウェハ101表面の酸化膜301のみを除去し、半導体ウェハ101の表面にのみ窒化膜201を残す。 - 特許庁

This soln. consists of silver nitrate, a silver complexing agent consisting of a hydantoin compd., a fluoric surfactant and a pH buffer salt.例文帳に追加

硝酸銀と、ヒダントイン化合物からなる銀の錯化剤と、フッ素系界面活性剤と、PHバッファー塩とからなることを特徴とする電子部品用無電解銀めっき液。 - 特許庁

To balance reduction of relative permittivity and, enhancement of mechanical strength, by controlling the quantity of the fluoric atoms contained in an organic film containing fluorine.例文帳に追加

フッ素含有有機膜中に含まれるフッ素原子の量をコントロールできるようにして、比誘電率の低減と機械的強度の向上とのバランスをとれるようにする。 - 特許庁

A mixed liquid of nitric acid of70 g/l and fluoric acid of30 g/l is used for the pickling liquid and the temperature of the acid liquid is defined as70°C and pickling time as40 s.例文帳に追加

酸洗液には硝酸が70g/リットル以下と沸酸が30g/リットル以下の混合液を用い、酸液の温度を70℃以下、酸洗時間を40秒以下にする。 - 特許庁

In the wafer treatment equipment, a hydro fluoric acid supply pipe 5 and an evacuation pipe 4 are connected to a vessel 1 for storing a wafer 2 to carry out a prescribed treatment.例文帳に追加

ウェハ処理装置において、ウェハ2を収容して所定の処理を施すための容器1に、フッ酸ガス供給管5と真空排気管4が接続されている。 - 特許庁

A wafer W is heated to a specific temperature on a hot plate 45, fluoric acid vapor is supplied onto the surface of the wafer W in that state, and an oxide film on the surface of the wafer W is removed.例文帳に追加

ホットプレート45上でウエハWを所定温度に加熱し、その状態で、ウエハWの表面にふっ酸蒸気を供給し、ウエハWの表面の酸化膜を除去する。 - 特許庁

This polyolefin fiber is obtained by compounding a mixed powder of a fluoric polymer powder and an organic polymer powder to the polyolefin-based resin to carry out melt mixing and carrying out melt spinning under a condition having20 draft ratio.例文帳に追加

フッ素系ポリマー粉体と有機重合体粉体との混合粉体をポリオレフィン系樹脂に配合して溶融混合し、ドラフト比が20以上の条件で溶融紡糸する。 - 特許庁

Next, the upper surface of the SOI layer 3 is exposed by removing the silicon oxide film 6aa in the first and second element forming regions by wet etching using fluoric acid, etc.例文帳に追加

次に、フッ酸等を用いたウェットエッチング法により、第1及び第2の素子形成領域におけるシリコン酸化膜6aaを除去してSOI層3の上面を露出する。 - 特許庁

The polymer electrolytic film is provided, which comprises a conjugated fiber which uses a fluoric polymer fiber as a inner layer and provides with an outer layer comprising the ion exchange resin which has a sulfonic group around the inner layer.例文帳に追加

フッ素系高分子繊維を内層とし、その周囲にスルホン酸基を有するイオン交換樹脂からなる外層を具備した複合繊維からなる、高分子電解質膜を提供する。 - 特許庁

例文

(b) Inflammation of mucous membranes of the eyes or respiratory troubles such as inflammation of mucous membranes of the respiratory organs due to jobs exposed to pyrolytic products of synthetic resins such as of fluoric resin, vinyl chloride resin, or acrylic resin 例文帳に追加

2 弗素樹脂、塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂等の合成樹脂の熱分解生成物にさらされる業務による眼粘膜の炎症又は気道粘膜の炎症等の呼吸器疾患 - 日本法令外国語訳データベースシステム




  
日本法令外国語訳データベースシステム
※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
  
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