「OPC」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The optical disk device executes OPC and ROPC and optimizes recording power when recording data.例文帳に追加

光ディスク装置はＯＰＣ及びＲＯＰＣを実行してデータ記録時の記録パワーを最適化する。 - 特許庁

Therefore, the particle of the toner T comprising the mother particle 18 deposits on the OPC 2 through the external additive layer (A) when the toner moves from a developing roller 16 to the OPC 2.例文帳に追加

したがって、母粒子１８からなるトナーＴの粒子は、現像ローラ１６からＯＰＣ２へ移行したとき、この外添剤層Ａを介してＯＰＣ２に付着するようになる。 - 特許庁

When the sever 2 holds the OPC data of this DVD-R, the sever 2 distributes only this OPC data to the DVD recorder 1.例文帳に追加

サーバ２は、このＤＶＤ−ＲのＯＰＣデータを保持している場合、ＤＶＤレコーダ１へこのＯＰＣデータのみをＤＶＤレコーダ１へ配信する。 - 特許庁

That is, in the OPC, the width of the range of changing the power of the laser beam radiated to the optical disk 10 stepwise is the same width as the OPC on the standard.例文帳に追加

すなわち、ＯＰＣにおいて、光ディスク１０に照射するレーザ光のパワーを段階的に変化させる範囲の幅は、規格上のＯＰＣと同じ幅である。 - 特許庁

This printing device is provided with a developer 11 which is provided with an OPC drum 12 and carries out printing, a toner replenishing motor 15 for replenishing toner to a developing device and a paper carrying motor 13 for carrying the paper to the OPC drum.例文帳に追加

印刷装置はＯＰＣドラム１２を備え印刷を行う現像器１１と、現像器にトナーを補給するトナー補給モータ１５と、ＯＰＣドラムに対して用紙を搬送する用紙搬送モータ１３とを有している。 - 特許庁

A setting values of optimum power Pwp1 for a layer 1 obtained by OPC is used as an initial value Pw21 of OPC of a layer 2 (S202).例文帳に追加

レイヤー１に対するＯＰＣにて取得された最適パワーの設定値Ｐｗｐ１を、レイヤー２のＯＰＣの初期値Ｐｗ２１として用いる（Ｓ２０２）。 - 特許庁

To carry out OPC for each recording layer, using the recording condition recorded on the recording layer, for an optical information recording medium having multilayer structure of the recording layer on which the OPC recording condition for the recording layer is recorded.例文帳に追加

各記録層にその記録層のＯＰＣの記録条件を記録してある記録層が多層構造の光情報記録媒体に対して、その記録層に記録された記録条件を用いてＯＰＣを実行することができるようにする。 - 特許庁

To form fine mask patterns with high accuracy by detecting whether correction patterns by OPC (optical proximity correction) processing is adequate or not with high accuracy without overlooking the small correction patterns by the OPC processing, which patterns are intrinsically ought not to be generated.例文帳に追加

本来発生されるべきではないＯＰＣ処理による小さな補正パターンを見逃すことなく、高精度にＯＰＣ処理による補正パターンが適切であるか否かを検出して、微細なマスクパターンを高精度に形成する。 - 特許庁

To provide a pattern correction method for a photomask in which edge correction is carried out by dividing an edge, imparting evaluation points and calculating the proximity effect by use of OPC (optical proximity correction) techniques, and to provide a photomask.例文帳に追加

エッジ分割、評価点を付与し、OPC(Optical Proximity Correction)の技術を用いて近接効果を計算し、エッジ補正を行うようにしたフォトマスクのパターン補正方法及びフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

An OPC parameter is read out as the disk information, and a specific signal pattern is recorded on an OPC area of the optical disk while suitably changing the power level P.例文帳に追加

ディスク情報としてＯＰＣパラメータを読み出し、光ディスクのＯＰＣ領域にパワーレベルＰを適宜変化させながら所定の信号パターンを記録する。 - 特許庁

It obtains a reference image 2' corresponding to the optical proximity effect correction mask and a reference image 3' corresponding to the OPC pattern after converting a format of the EB data 2 (after OPC) and the EB data 3 (after SUB).例文帳に追加

ＥＢデータ（ＯＰＣ後）２とＥＢデータ（ＳＵＢ後）３のフォーマット変換を行った後、光学近接効果補正マスクに対応する参照画像２’と、ＯＰＣパターンに対応する参照画像３’を得る。 - 特許庁

To enable a highly accurate and high quality defect correction of an isolated fine pattern and an OPC pattern which is hardly observed by an ion beam defect correcting device because of charge-up.例文帳に追加

チャージアップのためにイオンビーム欠陥修正装置で観察しにくい微細化な孤立したパターンやOPCパターンの高精度かつ高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

If a transferred image does not reach the threshold 22J after inspecting the OPC, process parameters in the region are corrected to create the OPC model again.例文帳に追加

ＯＰＣ検証を実施して、転写像が閾値２２Ｊ内となっていない場合には、その領域におけるプロセスパラメータを修正し、ＯＰＣモデルを再作成する。 - 特許庁

To provide an optical disk that decides power for recording at a predetermined density without executing OPC, and reduces the time until the optical disk is ready for recording.例文帳に追加

任意の密度で記録する際にOPCを実行することなくパワーが決定され、記録可能となるまでの時間が短縮された光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

When the Walking OPC is applied, a recording power is corrected based on the above recording power correction rate and a recording power correction rate obtained by the Walking OPC, and then a recording is performed on the subsequent recording area.例文帳に追加

ＷａｌｋｉｎｇＯＰＣ適用時には、前記した記録パワー補正率と、ＷａｌｋｉｎｇＯＰＣで求めた記録パワー補正率に基づき、次回記録領域に適用する記録パワーを補正して記録する。 - 特許庁

To provide a method of controlling a charging potential for maintaining the charging potential of an OPC (organic photoconductive cell) constant within a predetermined range irrelevantly to a change in an charging characteristic due to variation in the residual potential of the OPC.例文帳に追加

ＯＰＣ（感光体）の残留電位の変化による帯電特性の変化に関わらず，ＯＰＣの帯電電位を所定範囲内に一定に保持することが可能な帯電電位の制御方法を提供すること。 - 特許庁

An area of OPC, a physical layer management area for managing information about a physical layer such as OPC information, a Control Data Zone and a user area are respectively provided from inner peripheral side of the optical disk.例文帳に追加

光ディスクには、その内周側からＯＰＣの領域、ＯＰＣ情報等の物理層の情報を管理する物理層管理領域、Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｄａｔａ Ｚｏｎｅ、及びユーザー領域が設けられている。 - 特許庁

By a controller 20, a recording power is optimized by an OPC and also adjusted by the OPC when data are recorded on an optical disk 10.例文帳に追加

コントローラ２０は、光ディスク１０にデータを記録する際に、ＯＰＣにより記録パワーの最適化を図るとともに、ＯＰＣにより記録パワーを調整する。 - 特許庁

To provide an OPC drum washing method of washing an OPC drum which has stains of foreign matter etc., stuck on a surface of a photoreceptor so that a trace due to non-wiping hardly appears in picture quality.例文帳に追加

拭き残し等による痕跡が画質にほとんど現れることがなく、感光体表面に異物等の汚れが付着したＯＰＣドラムを洗浄するＯＰＣドラム洗浄方法の提供。 - 特許庁

Also OPC is performed for respective small regions in which combination of recorded and unrecorded places of the other respective layers are different, and an average value of respective results of OPC or a center value of variation is obtained as optimum power.例文帳に追加

また、他の各層の記録、未記録の組合せが異なる各小領域に対してＯＰＣを実行し、各ＯＰＣの結果の平均値もしくはばらつきの中心値を最適パワーと求める。 - 特許庁

To provide a method for creating a pattern for reducing deviation from a design pattern of a post-etching feature caused by a step feature that generates after rule-base OPC used for correcting a residual component of an OPC model.例文帳に追加

パターン作成方法に関し、ＯＰＣモデルの残渣成分を補正するために用いるルールベースＯＰＣ後に発生する段差形状に起因するエッチング後形状と設計図パターンとの乖離を低減する。 - 特許庁

To provide a device for optical recording, capable of surely obtaining the target value of a running OPC with respect to the recording type optical disk of a DVD system during OPC recording.例文帳に追加

ＤＶＤ系の記録型光ディスクに対してランニングＯＰＣの目標値をＯＰＣ記録時に確実に取得することができる光ディスク記録装置を提供する。 - 特許庁

For example, when a dimension measurement part is designated in a pattern prior to an OPC (optical proximity correction) process, the pattern shape in the designated part is changed after the OPC process, which makes the dimension measurement impossible.例文帳に追加

例えば、ＯＰＣ処理前のパターンに対して寸法測定箇所を指定した場合、ＯＰＣ処理後では、その指定箇所のパターン形状が変化し寸法測定が不可能となることがある。 - 特許庁

A first OPC pattern 23 is outputted by subjecting a designed pattern 21 to model base OPC by using a relatively coarse fragment 21a.例文帳に追加

設計パターン２１に対して、比較的粗いフラグメント２１ａを用いてモデルベースＯＰＣを行なうことにより、第１のＯＰＣパターン２３を出力する。 - 特許庁

Test data are subjected to the OPC by the first correction rule to produce first correction test data, which are further subjected to the OPC by the second correction rule to produce second correction test data (steps S22, S24).例文帳に追加

テストデータに第１補正用ルールによるＯＰＣ補正を施して第１補正テストデータを作成し、テストデータに第２補正用ルールによるＯＰＣ補正を施して第２補正テストデータを作成する（ステップＳ２２、Ｓ２４）。 - 特許庁

To prevent an excessive power to be applied to a recording medium in an OPC process, to prevent low modulation degree of a reproduced RF signal to be used in recording at low power, and to use only one parameter in the OPC.例文帳に追加

ＯＰＣ処理において、過大なパワーを記録媒体に与えず、また低いパワーで記録した場合の再生ＲＦ信号の低い変調度に基づく処理としないこと、さらにパラメータを１つとしてＯＰＣを実行できるようにする。 - 特許庁

To provide an optical disk apparatus, wherein retrials of an OPC are reduced to prevent an increase in time required for the OPC processing and the consumption of a test recording area is reduced with respect to a multi-layered optical disk.例文帳に追加

多層光ディスクにおいて、ＯＰＣのリトライを低減し、ＯＰＣ処理時間の増加を防止し試し書き領域の消費を低減することができる光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

To stabilize recording quality in recording to a recording medium by means of a right optimum recording power which is determined by always executing an OPC in a normal OPC area.例文帳に追加

常に正常なＯＰＣレンジでＯＰＣを実行して正しい最適記録パワーを決定し、その最適記録パワーによって記録媒体への記録品質を安定させる。 - 特許庁

A cell library pattern forming basic constitution of a semiconductor circuit pattern is subjected to an OPC process in advance and a semiconductor chip is formed by using the OPC-processed cell library pattern.例文帳に追加

半導体回路パターンの基本構成をなすセルライブラリパターンに予めＯＰＣ処理を行い、ＯＰＣ処理されたセルライブラリパターンを用いて半導体チップを作成する。 - 特許庁

In a mask pattern preparation step, a mask pattern of each cell is prepared by extracting a cell after the OPC from the pattern subjected to the OPC process.例文帳に追加

マスクパターン作成ステップは、前記ＯＰＣ処理が行われたパターンから前記ＯＰＣ後のセルを抽出することによって前記セル毎のマスクパターンを作成する。 - 特許庁

The control unit further includes: a means (S4) for reserving OPC when the second memory is determined not to have any free capacity; and a means (S7) for executing OPC when the second memory is determined to have a free capacity.例文帳に追加

そして、第２メモリに空き容量がないと判定した場合にＯＰＣを予約する手段（Ｓ４）、及び空き容量があると判定した場合にＯＰＣを実行する手段（Ｓ７）を備えている。 - 特許庁

If an error occurs, the execution result is transferred to a verification result storage section 23 and displayed at an OPC verification result display section 24 while superposed on the pattern before OPC processing.例文帳に追加

エラーがある場合は、実行結果をＯＰＣ検証結果格納部２３へ転送し、ＯＰＣ検証結果表示部２４にＯＰＣ処理前パターンと重ね合わせて表示する。 - 特許庁

To provide a pattern correcting method for a mask for exposure, by which a new OPC(operations planning and control) rule or the like can be created in a short time in case of any change in a unit process after an OPC rule or the like is determined.例文帳に追加

ＯＰＣルール等が決定された後にユニットプロセスに変更が生じても、短時間で新たなＯＰＣルール等を作成できる露光マスクのパターン補正方法を実現すること。 - 特許庁

When data recording is the first-time overwriting ("Yes" in #4), it instructs the laser drive to increase the erasing power Pe larger than the value set by the OPC, while maintaining the recording power Pw set by the OPC.例文帳に追加

データ記録が１回目の上書きに該当する場合（＃４でＹｅｓ）、制御部は、レーザ駆動部に対して、ＯＰＣによる記録パワーＰｗを固定したままで、消去パワーＰｅを、ＯＰＣにより設定した値より増加させるように指示する。 - 特許庁

To apply an OPC to a large scale logic circuit by reducing a DA treating time in the case of OPC treating a random pattern such as the logic circuit or the like.例文帳に追加

ロジック回路等のランダムパターンに対し、ＯＰＣ処理を行う場合のＤＡ処理時間を減らし、ＯＰＣの大規模ロジック回路への適用を可能にする。 - 特許庁

To provide an OPC automatic correction system capable of efficiently revising a layout pattern in which an error is detected by verification after OPC correction.例文帳に追加

ＯＰＣ補正後の検証でエラーが検出されたレイアウトパターンの修正を効率的に行うことのできるＯＰＣ自動修正システムを提供する。 - 特許庁

To prevent a correcting circuit pattern from excessively being corrected under the influence of a level difference nearby a circuit pattern corner part of the correcting circuit pattern which is formed after rule-based OPC when model-based OPC is further performed.例文帳に追加

ルールベースＯＰＣ後に発生する補正回路パターンの回路パターンコーナ部近傍の段差の影響で、その補正回路パターンに対し更にモデルベースＯＰＣを行ったときの過剰な補正を防止する。 - 特許庁

To provide a method of evaluating a rule base OPC and method of evaluating a simulation base OPC model which are capable of exactly evaluating line width controllability.例文帳に追加

線幅制御性の評価を正確に行なうことができるルールベースＯＰＣの評価方法およびシミュレーションベースＯＰＣモデルの評価方法を提供する。 - 特許庁

It becomes unnecessary to be conscious of a relation between the field instrument and the OPC server, since an application is only required to specify a field instrument and output a request for data transmission to the OPC server proxy.例文帳に追加

アプリケーションはＯＰＣサーバプロキシーに、フィールド機器を指定してデータ送信要求を出力するだけでよく、フィールド機器とＯＰＣサーバの関係を意識する必要がなくなる。 - 特許庁

The magnitude of electric field whose force is received by toner on an image carrier (opc) between a developing member (3) and the image carrier (opc) toward the development device from the image carrier is set smaller at the image non-forming time than at the image formation time.例文帳に追加

非画像形成時において、現像部材（３）と像担持体（ｏｐｃ）の間で像担持体上のトナーが、像担持体から現像器の方向に力を受ける電界の大きさを、画像形成時よりも小さくする。 - 特許庁

A data comprising the layout and wiring of a plurality of corrected cell patterns is inputted; and when an OPC (optical proximity correction) processed cell for replacement is present based on replacement information, replacement to an OPC processed cell is performed (STEP1).例文帳に追加

複数の補正セルパターンを配置配線したデータを入力し、置換情報に基づいて置換用ＯＰＣ処理セルがある場合にはＯＰＣ処理セルへの置換を行う（ＳＴＥＰ１）。 - 特許庁

This reproducing device for the OPC drum includes a tank 1 which is installed with the OPC drum 4 by perpendicularly positioning its axial direction and is internally housed with a release liquid, a heater 10 for heating the release liquid 2, a pump 6 for passing the release liquid 2 from the upper part of the OPC drum 4 and a dropping device 11 for controlling the concn. of the release liquid 2.例文帳に追加

ＯＰＣドラム４が軸方向を垂直にして設置され、内部に剥離液２が収容された槽１と、前記剥離液２を加熱するヒータ10と、前記剥離液２をＯＰＣドラム４の上部から流すポンプ６と、前記剥離液２の濃度を制御する滴下装置11とを具備することを特徴とするＯＰＣドラムの再生装置。 - 特許庁

By using a β detection means to detect the β representing the difference of the amplitude centers of the longest and the shortest recording marks both formed in the recording area, β_1 at the position to start data writing and β_opc at the OPC performing position after the OPC are performed (S1) and compared (S2).例文帳に追加

記録領域に形成される最長記録マークの振幅中心値と最短記録マークの振幅中心値との差を表すβ値を検出するβ値検出手段により、データを書き始める部分でのβ_１とＯＰＣ後のＯＰＣ実施部分でのβ_ｏｐｃとを検出し（Ｓ１）、β_１とβ_ｏｐｃとの比較を行う（Ｓ２）。 - 特許庁

The evaluation of the rule base OPC is performed by comparing the actual measurement data of the gate pattern for evaluation and the simulation data.例文帳に追加

評価用ゲートパターンの実測データと、シミュレーションデータを比較することによって、ルールベースＯＰＣの評価を行なう。 - 特許庁

The mask pattern is formed by synthesizing the plus/minus correction layer with the OPC correction pattern.例文帳に追加

このＯＰＣ補正パターンにプラス・マイナス補正レイヤーを合成することによりマスクパターンが形成される。 - 特許庁