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OPCを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 524



例文

After a mask pattern is formed by making the layout of a cell library subjected to the OPC processing, the correction amount of the OPC is adjusted by taking into consideration the influences of patterns of other cell libraries laid around the cell library on the peripheral region of the cell library.例文帳に追加

あらかじめOPC処理が施されたセルライブラリをレイアウトしてマスクパターンを形成した後、セルライブラリの周囲に配置された他のセルライブラリのパターンがセルライブラリの周辺領域に及ぼす影響を考慮することによって、上記OPC補正の補正量を調整する。 - 特許庁

When the server 2 does not hold the OPC data of the DVD-R transmission-requested from the DVD recorder 1, the server 2 stores information of this DVD-R, while informs that the sever 2 does not hold the OPC data of the DVD-R to a server 2.例文帳に追加

一方、サーバ2は、DVDレコーダ1から送信要求のあったDVD−RのOPCデータを保持していない場合、このDVD−Rの情報を記憶するとともに、サーバ2のオペレータへDVD−RのOPCデータを保持していないことを通知する。 - 特許庁

To provide an OPC(optical proximity correction) mask producing method by which the dispersion of line width of a pattern practically formed on a wafer is suppressed by performing simulation faithfully reflecting the influence of space dependency, an OPC mask and a chip.例文帳に追加

スペース依存性の影響を忠実に反映したシュミレーションを行なうことにより、実際にウェハ上に形成されるパターンの線幅のばらつきを抑制することができるOPCマスクの製作方法およびOPCマスクならびにチップを提供する。 - 特許庁

A cell library pattern constituting a basic configuration of a semiconductor circuit pattern is preliminarily subjected to an OPC processing for a layout of a single cell, and the cell library pattern after the OPC processing is used to produce a semiconductor chip.例文帳に追加

半導体回路パターンの基本構成をなすセルライブラリパターンにあらかじめ、セルが単独で置かれているときのOPC(光近接効果補正)処理を行い、OPC処理されたセルライブラリパターンを用いて半導体チップを作成する。 - 特許庁

例文

In the optical disk device 1, an OPC processing part 13 performs OPC processing based on an RF signal generated by an RF signal generating part 12 when data recorded in a PCA area on an optical disk 1a is reproduced by a pickup 11.例文帳に追加

光ディスク装置1は、光ディスク1a上のPCA領域に記録されたデータをピックアップ11が再生した場合にRF信号生成部12が生成するRF信号に基づいて、OPC処理部13がOPC処理を行なう。 - 特許庁


例文

Each layer has a data recording area and test writing areas divided into a plurality of small areas, which should be recorded in such a way that all other layers enables combination of recorded and unrecorded on the small areas on which OPC is performed in the layer on which OPC is performed.例文帳に追加

各層にデータ記録領域と複数の小領域に分割された試し書き領域とを持ち、試し書き領域の小領域は、OPCを行う層のOPCを行う小領域に対して他の各層が予め記録済み、未記録の組合せができるように記録をおこなっておくこと。 - 特許庁

To provide an optical disk drive which effectively uses program area by enabling OPC(optimum power control) for a recording rate on the outer peripheral side and carrying out the OPC matching with each speed on the boundary of each zone, and to provide a recording software for the same.例文帳に追加

外周側での記録速度用のOPCを可能とし、さらに各ゾーンの境界で、それぞれの速度に合致したOPCを行うようにして、プログラムエリアを有効活用する光ディスクドライブ装置及びその記録用ソフトウェアを提供する。 - 特許庁

To provide a stable good-quality developing roller without causing the surface staining of an OPC by optimally setting the composition of the surface structure of the developing roller and carrier so that the occurrence of reversely electrified toner which causes trouble of the surface staining of the OPC may be restrained.例文帳に追加

OPC地汚れの問題である逆帯電トナーの発生を押さえるよう現像ローラやキャリアの表面構造の組成が最適になるようにし、OPCの地肌汚れのない品質の良い安定した現像ローラを提供すること。 - 特許庁

Different color phosphors are one by one adhered to a part on the OPC layer, fixed to the OPC layer with a suitable fixing agent, covered with a thin film so as to have a smooth surface, and a metal layer is coated on the thin film layer.例文帳に追加

異なる発色蛍光体が順次、OPC層上の一部に溶着されて、適切な固定剤により、蛍光体がOPC層に固定され、蛍光体は滑らかな表面を与えるよう薄膜で覆われ、薄膜上に金属層が塗布される。 - 特許庁

例文

Moreover, a real time data collecting part 75 instructs an OPC client 61 to acquire the state of the device from an OPC server defined by the system variable definition file, and sets it in property indicating the present value of the tag variable object.例文帳に追加

さらに、リアルタイムデータ収集部75は、OPCクライアント61へ指示して、上記システム変数定義ファイルで定義されたOPCサーバからデバイスの状態を取得させ、タグ変数オブジェクトの現在値を示すプロパティに設定する。 - 特許庁

例文

To provide a mask data creation method by which what kind of OPC (optical proximity correction) process is performed can be easily read out and removal of an OPC pattern in an inhibited region can be easily checked, and to provide a mask manufacturing apparatus, a mask, a program and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

どの種類のOPC処理が行われているかを容易に読み取れ、かつ禁止領域でOPCパターンが除去されていることが容易に確認できるマスクデータ作成方法、マスク製造装置、マスク、プログラム及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A control microcomputer 20 reads a manufacturer's name and the manufacturer's code of the CD-R from the information recorded in the ATIP as special information, reads the light power corresponding to the CD-R from a memory 21 and determines the power as the initial value of the OPC processings.例文帳に追加

制御用マイクロコンピュータ20は、ATIPに、スペシャルインフォメーションとして記録されている情報の中からメーカ名と、そのCD-Rの製造コードを読み取り、そのCD-Rに対応するライトパワーをメモリ21から読み出し、OPC処理の初期値に決定する。 - 特許庁

To provide an optical disk recording/reproducing device and its method capable of recording a trial writing area of the same quality as that at a high speed for the OPC writing and capable of exactly acquiring the recorded state of the trial writing area for the OPC reading.例文帳に追加

OPCライトでは通常と同程度の試し書きの領域を高速で記録し、OPCリードでは正確に前記試し書きの領域の記録状態を取得することが可能な光ディスク記録再生装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical disk device capable of executing OPC even when there is input data, and securing good recording quality without needing reduction in OPC processing time and its number of times, and to provide a data recording method and a computer program.例文帳に追加

データが入力されている場合においてもOPCを実行することができ、OPCの処理時間の短縮及び回数の低減をする必要がなく、良好な記録品質を確保することが可能である光ディスク装置、データ記録方法及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide an optical disk recording/reproducing device capable of enhancing recording quality by optimizing a plurality of parameters regarding the recording quality while one partition is used in an OPC operation like a conventional case in a single OPC operation.例文帳に追加

1回のOPC動作において、OPC動作時に使用するパーティションは従来と同様に1つのままで、複数の記録品質に関するパラメータを最適化し、記録品質を向上させることが可能な光ディスク記録再生装置及びレーザパワー決定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting optical proximity effect permitting to efficiently extract a mask pattern for OPC (Optical Proximity Effect Correction) within a short time and capable of subjecting the extracted mask pattern to the OPC processing at the time of forming a semiconductor circuit.例文帳に追加

半導体集積回路を形成する場合のOPCの対象とすべきマスクパターンを短時間の内に効率良く抽出できるようにし、かつ、抽出されたマスクパターンを精度良くOPC処理できる光学的近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

The display device includes an OPC sensor 51, a human detection sensor 52, a comparison unit 101 which compares detected illuminance detected by the OPC sensor 51 with predetermined reference illuminance, and a power source control unit 102 which automatically stops display of video only when the detected illuminance is lower than the reference illuminance and the human detection sensor 52 does not detect presence of the viewer.例文帳に追加

本発明に係る表示装置は、OPCセンサ51と、人感センサ52と、OPCセンサ51によって感知された感知照度と予め定められた基準照度とを比較する比較部101と、感知照度が基準照度よりも低く、かつ、人感センサ52によって視聴者の存在が感知されないときに限って、映像の表示を自動的に停止する電源制御部102を備えている。 - 特許庁

The optical information recording medium has the recording layer with multi-layered structure and is capable of recording for each recording layer, and recording conditions of all recording layers are recorded on each recording layer, and by reading the recording condition of the OPC of the recording layer to be recorded with the information, from the recording layer, the OPC optimum for the recording layer is executed.例文帳に追加

記録層が多層構造で各記録層について記録が可能な光情報記録媒体であって、全ての記録層の記録条件を各記録層に記録させ、情報の記録を行おうとする記録層のOPCの記録条件を当該記録層から読み取って、その記録層に最適なOPCを実行する。 - 特許庁

It is discriminated whether optimum recording power obtained by OPC or running OPC exceeds the prescribed threshold value (step 405), consequently, when the optimum recording power exceeds the threshold value, any one out of a plurality of selection branches including a selection branch that the optimum recording power is not changed is selected (step 407-415).例文帳に追加

OPC又はランニングOPCにて得られた最適な記録パワーが所定の閾値を超えているか否かが判別され(ステップ405)、その結果、最適な記録パワーが閾値を超えている場合に、所定の選択基準に応じて、最適な記録パワーを変更しない選択肢を含む複数の選択肢の中からいずれかが選択される(ステップ407〜415)。 - 特許庁

To provide an optical information recording medium capable of executing an OPC optimum for its recording layer by reading a recording condition of the OPC of the recording layer to be recorded with information, from the recording layer, as to the optical information recording medium having the recording layer with multi-layered structure and being recordable for each recording layer.例文帳に追加

本発明は、記録層が多層構造で各記録層について記録が可能な光情報記録媒体に関し、情報の記録を行おうとする記録層のOPCの記録条件を当該記録層から読み取って、その記録層に最適なOPCを実行可能な光情報記録媒体を提供することを課題とする。 - 特許庁

The system and method enumerate a set of variables and pattern intervals to construct (109) an inspection structure and analyze a series of layout patterns according to design rules by simulation (115) using a lithography model to obtain a partition of the pattern spaces into one portion 133 that requires only rule-based OPC and another portion 131 that requires model-based OPC.例文帳に追加

本システムおよび方法は、パターン空間の、ルールベースOPCのみを必要とする部分133と、モデルベースOPCを必要とする別の部分131との区分を得るために、リソグラフィ・モデルを用いたシミュレーション115によって、設計ルールしたがって変数値とパタン間隔の集合を列挙して検査構造を構築し109、一連のレイアウト・パターンを分析する。 - 特許庁

The method comprises a step 204 of dividing an integrated circuit (IC) chip into a plurality of local task regions, a step 206 of identifying the congruent local task regions, a step 212 of classifying the congruent local task regions into corresponding groups by an OPC classification group, and a step 216 of executing OPC to the respective groups of the congruent local task regions.例文帳に追加

ICチップを複数の局所タスク領域に分割するステップ204と、一致する局所タスク領域を識別するステップ206と、OPC分類モジュールによって一致する局所タスク領域を対応するグループに分類するステップ212と、一致する局所タスク領域のそれぞれのグループにOPCを実行するステップ216とによって構成される。 - 特許庁

To solve the following problems: in creating an interconnection pattern data, making an increment of the width and interval of the interconnection a minimum dimensonal unit increases the data volume of the OPC (Optical Proximity Correction) voluminous, causes a step of its setting and verification substatial, increases the OPC processing time to enlarge the processing system.例文帳に追加

半導体装置における配線パターンデータ作成において、配線幅および配線間隔の変更の刻みを最小寸法単位とすると、OPC(Optical Proximity Correction)のデータ量が膨大なものとなり、その設定および検証に工数が多大なものとなり、また、OPC処理時間を増大すると共に処理システムの肥大化を招くことにもなる。 - 特許庁

In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加

一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにOPCパタン付加する処理過程あるいはOPC付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁

To solve the problem that operation is complicated in the process control system of a configuration to acquire data of a field instrument through an OPC server to which a plurality of field instruments are connected, since applications must be switched while always considering the connection between a field instrument and an OPC server.例文帳に追加

複数のフィールド機器が接続されたOPCサーバを介してフィールド機器のデータを取得する構成のプロセス制御システムにおいて、アプリケーションがどのフィールド機器がどのOPCサーバに接続されているかを常に意識して切り替えなければならず、操作が煩雑であったという課題を解決する。 - 特許庁

By determining a width of the peripheral region to be 1.62λ/NA inside from the boundary with the other cell library (wherein λ is the wavelength of exposure light used for pattern exposure and NA is the numerical aperture of the lens in an exposure apparatus), the correction amount of the OPC can be adjusted with high accuracy and the time required for the OPC processing can be reduced.例文帳に追加

このとき、上記周辺領域の幅を、他のセルライブラリとの境界から内側に1.62λ/NA(λはパターン露光に用いる露光光の波長、NAは露光機のレンズの開口数)とすることにより、上記OPCの補正量を高精度に調整することができるので、OPC処理に要する時間を削減することができる。 - 特許庁

Then the calculation accuracy of the OPC object pattern is determined based on the adjusted area data and OPC additional calculation is carried out to generate mask data.例文帳に追加

OPC精度が必要な領域と必要ではない領域の境界部分で精度が必要な領域を精度の高い領域に適した領域分拡張し、精度が必要ではない領域は精度の高い領域に適した領域分縮小する領域調整を行って、調整された領域データに基づいてOPC対象パターンの計算精度を決めてOPC付加計算を行ってマスクデータを生成する。 - 特許庁

By using a proanthocyanidin containing20 wt.% of OPC( oligomeric proanthocyanidin ), this preparation exerts further excellent blood circulation ameliorating effect.例文帳に追加

この血流改善外用剤は、OPCを20重量%以上含有するプロアントシアニジンを用いることによって、さらに優れた血流改善効果を発揮する。 - 特許庁

In a tobermorite-containing solidified material, the tobermorite is produced by a curing step including autoclave curing using a raw material mixture comprising the PFBC ash and OPC (portland cement) as a raw material.例文帳に追加

PFBC灰とOPC(ポルトランドセメント)を含む原料混合物を原料とし、オートクレーブ養生を含む養生工程によってトバモライトを生成させた、トバモライト含有固化物とするものである。 - 特許庁

The photomask is formed in a pattern after such shape correction, so that a transfer shape equal to the transfer shape obtained using a photomask formed in the pattern after OPC can be obtained.例文帳に追加

このような形状補正後のパターンでフォトマスクを形成し、OPC後のパターンで形成したフォトマスクを用いたときに得られる転写形状と同等の転写形状を得るようにする。 - 特許庁

Shape correction is performed to a device pattern 1 with a step 1a formed by OPC, and an assist pattern 2 adjacent to the device pattern 1.例文帳に追加

OPCによって段差1aが形成されたデバイスパターン1と、そのデバイスパターン1に隣接するアシストパターン2とに対し、形状補正を行う。 - 特許庁

The simulation data corresponding to the gate pattern of the entire surface of the wafer for evaluation is outputted in accordance with the simulation base OPC model subjected to process calibration.例文帳に追加

プロセスキャリブレーションがなされたシミュレーションベースOPCモデルに基づいて評価用ウェハ全面のゲートパターンに対応するシミュレーションデータが出力される。 - 特許庁

Since the cell library pattern preliminarily subjected to the OPC processing is influenced by its peripheral cell library patterns, pattern end portions in the circumference of the cell border are subjected to the correction processing.例文帳に追加

このとき、あらかじめOPC処理されたセルライブラリパターンはその周囲のセルライブラリパターンによって、影響されるため、この補正処理をセル境界周辺部のパターン末端部について行う。 - 特許庁

To dispense with a drawing process (an extrusion process) of an aluminum extrusion tube that have been performed conventionally when manufacturing the aluminum cylindrical tube for OPC photosensitive drums.例文帳に追加

OPC感光ドラム用アルミニウム円筒管の製造に際し、従来一般に行われていたアルミニウム押出管に対する抽伸加工(引抜加工)を省略できるようにする。 - 特許庁

An aluminum extrusion tube 1 for OPC photosensitive drums (electrophotographic photoreceptor supports) is formed by extruding an aluminum material comprising an aluminum or an aluminum alloy, through a porthole.例文帳に追加

アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム材料をポートホール押出してなるOPC感光ドラム(電子写真感光体支持体)用アルミニウム押出管1。 - 特許庁

To provide a circuit structure and a photomask for the circuit structure, the photomask pattern including lines and pickup pads that can be more easily corrected by OPC (optical proximity correction) than by conventional techniques.例文帳に追加

フォトマスクパターンがOPCによって従来技術よりも更に容易に補正できるラインとピックアップパッドとを含む回路構造およびそのフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method for analyzing layout patterns via simulation using a lithography model to characterize the patterns and generate rules to be used in rule-based optical proximity correction (OPC).例文帳に追加

パターンを特徴付け、ルールベース光学近接効果補正(OPC)に用いるルールを生成するために、リソグラフィ・モデルを用いたシミュレーションによってレイアウト・パターンを分析するシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor chip structure is provided with a first area having a first cell for storing and processing data, and a second region outside the first region having the OPC structure provided with the decoupling capacitor.例文帳に追加

半導体チップ構造が、データを記憶及び処理する第1のセルを有する第1の領域と、デカップリング・キャパシタを含むOPC構造を有する、第1の領域の外側の第2の領域とを含む。 - 特許庁

To prevent image flowing caused by ion product without adding ozone retaining preventing constitution even in the case of using an inexpensive OPC photoreceptor and to obtain the durability of the photoreceptor.例文帳に追加

低コストのOPC感光体を用いた場合でもオゾンの滞留防止構成を付加することなくイオン生成物に起因する画像流れを防止できるとともに感光体の耐久性を得ることができるようにする。 - 特許庁

To provide mask designing techniques capable of shortening the increased OPC (Optical Proximity Correction) processing time, shortening the manufacture TAT (Turn Around Time) of a semiconductor device, thereby reducing cost.例文帳に追加

増大するOPC(近接効果補正)処理時間の短縮を実現し、半導体デバイスの製造TATを短くし、コストを削減するマスクパターン設計技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method of calculating process conditions for performing optical correction and process correction (OPC) or other resolution enhancement techniques on a layout design.例文帳に追加

レイアウト設計に対して、光学補正およびプロセス補正(OPC)または他の解像度向上技術を行うために、プロセス条件を計算する方法を提供すること。 - 特許庁

A pickup 12 reproduces a test signal recorded in the OPC area of an optical disk 10 by switching a plurality of kinds of recording conditions by an ECC block unit.例文帳に追加

ピックアップ12は光ディスク10のOPC領域にECCブロック単位で複数種類の記録条件を切り替えて記録されたテスト信号を再生する。 - 特許庁

To perform Optimum Power Calibration (OPC) in an optical disk recording device having plural optical heads in a short time without decreasing the accuracy of calculated optimum power value.例文帳に追加

複数の光学ヘッド部を有する光ディスク記録装置におけるOPCを、算出される最適パワー値の精度を落とすことなく、短時間に実施できるようにする。 - 特許庁

An interlayer power ratio α=Pwp2/Pwp1 is obtained from setting values of optimum power Pwp1, Pwp2 for layers 1, 2 obtained by OPC.例文帳に追加

レイヤー1、2に対するOPCにて取得された最適パワーの設定値Pwp1、Pwp2から、層間パワー比率α=Pwp2/Pwp1を求める。 - 特許庁

The design layout 22C is corrected by using the deviation quantity ΔD as the defocusing value of the input parameter 22G at a measuring point where the deviation quantity ΔD exceeds the threshold 22H to create the OPC model again.例文帳に追加

乖離量ΔDが閾値22Hを超えた計測地点において、入力パラメータ22Gのデフォーカス値として乖離量ΔDを用いて、設計レイアウト22Cを補正し、OPCモデルを再作成する。 - 特許庁

To provide a photo mask pattern data creating method for efficiently selecting a cell conducting OPC (Optical Proximity Correction) processing and specifying a cell considered to be equivalent to the cell.例文帳に追加

OPC処理を行うセルを効率よく選択し、そのセルと等価であるとみなされるセルを特定するフォトマスクパターンデータの作成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an information processor and an information processing method of server machine information for easily acquiring the machine information to process it by utilizing specifications of OPC (OLE for Process Control).例文帳に追加

OPC(OLE for Process Control)の仕様を利用することで、サーバマシン情報を容易に取得し、これを取り扱うことができるサーバマシン情報の情報処理装置および情報処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a layout method, a manufacturing method and a layout program for a semiconductor integrated circuit for reducing a period required for an OPC process without deteriorating characteristics of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の特性を劣化させることなく、OPC処理に要する時間を低減する半導体集積回路のレイアウト方法、製造方法及びレイアウトプログラムを提供する。 - 特許庁

To increase the yield of OPC drum products by removing foreign substances sticking on a surface of an aluminum alloy cylindrical tube 1 after electrolytic complex polishing, and preventing coating defects from being caused when the tube is coated with a photosensitive film.例文帳に追加

電解複合研磨後のアルミニウム合金円筒管1の表面に付着した異物を除去し、感光膜を塗工したときに塗工欠陥が発生するのを防止し、OPCドラム製品の歩留まりを向上させる。 - 特許庁

例文

To provide a positively chargeable toner used for an image forming apparatus using an OPC (organic photoconductor) photoreceptor, the toner having excellent image qualities and preventing scratches or deposition on the photoreceptor.例文帳に追加

本発明はOPC感光体を用いた画像形成装置に用いる正帯電性トナーにおいて、優れた画像品質を持つと同時に、感光体上へ傷や付着物を生じさせることのないトナーを提供するものである。 - 特許庁

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