「PHOTO MICRO」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

reproduction by photography, photocopying, photo offset and micro-filming, in an unlimited number of copies; and 例文帳に追加

写真，写真複写，写真オフセット及びマイクロフィルムによる無制限部数の複製，及び - 特許庁

reproduction by photography, photocopying processes, photo offset and micro-filming, in an unlimited number of copies; and 例文帳に追加

写真，写真複写，写真オフセット及びマイクロフィルムによる無限部数の複製，及び - 特許庁

To provide a photo-alignment film excellent in photo-alignment of a lyotropic liquid-crystalline dichroic compound, to provide a manufacturing method of the photo-alignment film, and to provide a manufacturing method of a micro-pattern polarizing element using the photo-alignment film.例文帳に追加

リオトロピック液晶性二色性色素化合物の配向性に優れた光配向膜とその製造方法並びにこれを用いたマイクロパターン偏光素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an optically driving device for a micro structure for driving the micro structure formed by an optically shaping method using a photo-curing resin cured by photo-radiation.例文帳に追加

光を照射することによって硬化する光硬化性樹脂を用い光造形法によって形成したマイクロ構造体を駆動するための、マイクロ構造体の光駆動装置を提供する。 - 特許庁

Alternatively, micro-lens-array, micro-pinholes, liquid crystal pinholes, varifocal micro-lens arrays and varifocal index-gradient lens, etc., are used together with high-resolution and high-speed pattern generating means with photo-sensors and photo-emitters.例文帳に追加

代りに、マイクロレンレンズアレイ、マイクロ−ピンホール、液晶ピンホール、可変焦点のマイクロ−レンズアレイ、及び、焦点可変なインデックス−勾配レンズ等が、光学センサー、及び、フォト−エミッタを持つ高解像度、及び、高速のパターン−発生させる方法と共に使われる。 - 特許庁

A photo-absorber 8 exhibiting photo-absorptivity higher than other parts is arranged in a midway of a micro flow passage 5 through which a liquid flows, and light is emitted to the photo-absorber 8 from a light introducing part 19 of a light irradiation means 11 arranged opposedly with the micro flow passage 5 at a distance therefrom.例文帳に追加

液体が流動する微小流路５の途中に他部よりも高い光吸収性を発揮する光吸収体８を配置し、この光吸収体８に微小流路５を隔てて対向配置した光照射手段１１の光導入部１９から光を照射する。 - 特許庁

The opening part 20 is formed in a tapered shape of gradually decreasing an area toward the photo diode 11 from the micro lens 25, and the lights incident from the micro lens 25 is collected to the photo diode 11 without being interrupted.例文帳に追加

開口部２０は、マイクロレンズ２５側からフォトダイオード１１側に向かって徐々に面積が減少するテーパー形状に形成され、マイクロレンズ２５から入射した光を妨げることなくフォトダイオード１１へと集光する。 - 特許庁

This optically driving device of the micro structure comprises photo-radiation means 1, 2, 3, 4, 5, and 6 for condensing laser beams to a part of the micro structure and moving means 5, 7, and 8 for three-dimensionally moving a condensing point formed by the photo-radiation means.例文帳に追加

マイクロ構造体の一部にレーザ光を集光する光照射手段１、２、３、４、５、６と、該光照射手段によって形成された集光点を三次元で移動させる移動手段５、７、８とからなることを特徴とするマイクロ構造体の光駆動装置。 - 特許庁

The liquid in the micro flow passage 5 positioned with the photo-absorber 8 is heated to generate the bubbles 10 in the liquid.例文帳に追加

そして、光吸収体８が位置する微小流路５内の液体を加熱して、液体に気泡１０を発生させるようになっている。 - 特許庁

At least two kinds of micro-capsule-encapsulated regions at least comprising a micro-capsule encapsulating a color developing component A, a color developing component B having a site reacting with the color developing component A to develop a color outside of the micro-capsule, and a photo-polymerizable composition, are encapsulated.例文帳に追加

発色成分Ａを内包するマイクロカプセルと、該マイクロカプセル外に発色成分Ａと反応して発色させる部位を有する発色成分Ｂ及び光重合性組成物とを少なくとも含むマイクロカプセル内包領域が少なくとも２種内包されている。 - 特許庁

To provide a micro valve capable of adjusting flow rate in many flow channels in non-contact and reducing the cost, a microchip using this, and a photo-responsive gel material used for the micro valve.例文帳に追加

多数の流路における流量調節を非接触で行うことができ、かつ低コスト化できるマイクロバルブ、およびこれを用いたマイクロチップ、ならびに前記マイクロバルブに使用される光応答性ゲル材料を提供する。 - 特許庁

To provide a photo mask having a minute pattern capable of thinning a resist film and a shielding film, avoiding a micro loading phenomenon generated in a pattern forming process or the collapse of a minute pattern, and obtaining a minute and accurate pattern; a photo mask blank; and a photo mask manufacturing method.例文帳に追加

微細パターンを擁するフォトマスクにおいて、レジスト膜および遮光膜の薄膜化が可能であり、パターン形成プロセスにおいて生じるマイクロローディング現象や微細パターンの倒壊を回避して、微細かつ高精度なパターンが得られるフォトマスク、フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a solar cell, by the use of a gas-precipitation manufacturing method, for making it unnecessary to use the micro-lithography or etching manufacturing method of any photo-mask.例文帳に追加

ガス沈殿製造法により、如何なるフォトマスクのマイクロ・リソグラフィー、エッチング製造法を使用する必要がない太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

The application documents shall be so presented as to admit of direct reproduction by photography, electrostatic processes, photo offset and micro-filming, in an unlimited number of copies. 例文帳に追加

出願書類は，写真，静電的方法，写真オフセット及びマイクロフィルムによって，直接に任意の部数の複製をすることができるように作成する。 - 特許庁

Finally, the photo-sensitive film 4 is removed, and the micro opening pattern in the substrate is formed between the lower layer 2 and the third film 5.例文帳に追加

最後に感光性膜４を選択除去することによって、下層２と第三の膜５の間に基板への微細な開口パターンを形成することができる。 - 特許庁

In the micro valve 4, a pinch-and-swell body 5 made of the photo-responsive gel material can adjust the opening of the flow channels 3 according to the volume.例文帳に追加

光応答性ゲル材料からなる膨縮体５が、体積に応じて流路３の開度を調節することができるようにされたマイクロバルブ４。 - 特許庁

A large number of micro plates 18 are arranged in a capacitor 19 which is an interface between the photo-conductive layer 12 and charge transferring layer 13 of a radiation solid detector 30 on a random basis.例文帳に追加

放射線固体検出器３０の、記録用光導電層１２と電荷輸送層１３との界面である蓄電部１９に、マイクロプレート１８をランダムに多数配設する。 - 特許庁

To provide a precursor composition for resists having excellent liquid film-formation ability and pattern formation ability suitable for photo-nanoinprint and a method for micro-patterning using the composition.例文帳に追加

光ナノインプリントに適した液膜形成能、およびパターン形成能のすぐれたレジスト前駆体組成物ならびにこれを用いた微細なパターンの形成法を提供する。 - 特許庁

The documents of the application form of the patent or the utility model certificate shall be susceptible to reproduction by photography, electrostatic processes, photo offset, and micro-filming to an unlimited number of copies. 例文帳に追加

特許又は実用新案証の出願書類は，写真撮影，静電処理，オフセット印刷及びマイクロフィルムにより数に制限なく複製し得るものでなければならない。 - 特許庁

This method for producing the micro-patterning culture substrate 2 includes coating the cell culture substrate 2 with the water-soluble photocurable polymer 3, and then irradiating the water-soluble photo-curable polymer 3 with light via a master pattern 4 and patterningthe water-soluble photo-curable polymer 3 on the cell culture substrate 2.例文帳に追加

細胞培養基材２上に水溶性光硬化性ポリマー３を塗布し、水溶性光硬化性ポリマー３へマスクパターン４を介して光照射して細胞培養基材２上に水溶性光硬化性ポリマー３をパターニングすることで作成される。 - 特許庁

To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process.例文帳に追加

ＬＩＧＡプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むＸ線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。 - 特許庁

The optical micro-shaping apparatus for performing this method is equipped with a mechanism for rotating the substrate 14 provided under the liquid surface of the liquid photo-setting resin 15 and a mechanism for unidirectionally deflecting the lower beam to an optical system for irradiating the photo-setting resin 15 with the laser beam from above.例文帳に追加

その方法を実行するマイクロ光造形装置として、液状の光硬化性樹脂１５の液面下にある基板１４を回転させる機構と、上方より光ビームを光硬化性樹脂に照射する光学系に該光ビームを一方向に振らせる機構とを備えるようにした。 - 特許庁

The thin film of photo-catalyst such as titanium dioxide is formed, or polymer into which the micro-powder of the photo-catalyst such as the titanium dioxide is mixed is applied on the light receiving face of a CCD(charge coupled device) or a CMOS(complementary metallic oxide film semiconductor) sensor so that image pickup sensitivity can be improved.例文帳に追加

ＣＣＤ（電荷結合素子）またはＣＭＯＳ（相補性金属酸化膜半導体）センサの受光面に２酸化チタン等の光触媒の薄膜を形成するか、２酸化チタン等の光触媒の微粉末を混入したポリマーを塗布して、撮像感度を向上する。 - 特許庁

To provide positive resist composition and a pattern forming method using it capable of preferably using super-micro lithographic processes or the other photo-fabrication process, such as manufacturing a VLSI or a micro chip of large capacity etc., with a wide latitude for exposure, and excellent in uniformity of line width.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-curable composition for micro-optical shape-forming, which is used for producing a metal-shaped article by using a micro-optical shape-forming process, and can easily produce a shape-formed article having adequate electroconductivity and a fine and highly precise three-dimensional shape that can be used for MEMS or the like.例文帳に追加

光造形法を用いて金属造形物を製造するための組成物であって、良好な導電性と、ＭＥＭＳ等に用い得る微小かつ高精度の立体形状とを有する造形物を、容易に製造しうるマイクロ光造形用光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To deal with the exposure for patterning where micro patterns with different pitches coexist closely and to accurately form micro patterns at enough production process margin without using a photo mask such as Levenson-type phase shift mask that has a complicated production process and is high in manufacturing cost.例文帳に追加

ピッチの異なる微細なパターンが近接して混在するパターニングを行うための露光にも対応し、レベンソン型位相シフトマスクの如き製造プロセスが煩雑で製造コストの高いフォトマスクを用いることなく、十分な製造プロセスマージンで微細なパターンを精度良く形成する。 - 特許庁

The micro lens and the photo diode are repeatedly formed together with a color filter and a CMOS circuit element on a semiconductor chip as an array form constituted of such elements, and provides the image sensor.例文帳に追加

マイクロレンズ及びフォトダイオードは半導体チップ上のカラーフィルタ及びＣＭＯＳ回路要素と共にこのような要素からなるアレイの形態で反復形成しイメージセンサーを提供することが可能である。 - 特許庁

The output place monitoring device 200 is equipped with a photo sensor 24 for output place detection which is arranged in a position which is shifted from a conjugate position with the reflecting surface of the micro-mirror of the beam steering mechanism 15.例文帳に追加

出力先モニタ装置２００は、ビームステアリング機構１５のマイクロミラーの反射面と共役な位置からズレた位置に配置されている出力先検知用受光センサ２４を備えている。 - 特許庁

To provide an optical micro shaping apparatus capable of forming a formed optically shaped article on a base stand in a firmly fixed state and preventing the outflow of a photosetting resin liquid at the time of washing of the resin liquid in an optical micro-shaping technique for obtaining a three-dimensional shaped article while irradiating the photo-setting resin liquid with light.例文帳に追加

本発明の課題は、光硬化性樹脂液に光照射を行ないながら、三次元の造形物を得るマイクロ光造形の技術において、作成された造形物が基台上に堅固に固着形成でき、樹脂洗浄時に流失させることがないマイクロ光造形装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an MEMS (Micro Electro Mechanical System) device, which dispenses with a photo resist film in releasing an MEMS structure using an etchant to simplify the process, and easily seals the MEMS structure.例文帳に追加

エッチング液を用いてＭＥＭＳ構造体をリリースする際に、フォトレジスト膜を必要とせず、工程を簡略化でき、かつ容易にＭＥＭＳ構造体を封止するＭＥＭＳデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for producing the micro-reactor etc., cured resin layers are formed by selectively irradiating a photo-curable resin liquid with light, and a three-dimensional shape is formed by laminating the cured resin layers in turn.例文帳に追加

本発明にかかるマイクロリアクター等の製造方法は、光硬化性樹脂液に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成し、該硬化樹脂層を順次積層して三次元形状を形成するものである。 - 特許庁

A micro lens having a relatively high refractive index and consisting of an inorganic substance is formed as it has a convex-shaped lower side surface, and is focused on a lower side photo diode by refracting a light passing from an upper side spacer layer to a lower side spacer layer.例文帳に追加

比較的高い屈折率を有する無機物質からなるマイクロレンズを凸状の下側表面を有するように形成し、上から下側のスペーサー層を通過する光を屈折させて下側のフォトダイオード上に集束させる。 - 特許庁

The invention relates to the method for manufacturing of the mechanical part including a step providing a substrate 53 made of micro-machinable material, and a step etching, with help of photo-lithography, a pattern that includes the mechanical part over the entire substrate 53.例文帳に追加

マイクロ機械加工可能材料から構成される基板５３を用意するステップと、フォトリソグラフィを用いて、前記基板５３の全体にわたって機械パーツを含むパターンをエッチングするステップとを含む、機械パーツを製造する方法に関する。 - 特許庁

The representation shall durably represent the subject matter and admit of photo offset and micro-filming including microfilm prints with sharply defined contours as well as electronic image storage and reproduction. 例文帳に追加

表現物は，対象物を耐久性のある方法で表示していなければならず，また，オフセット印刷及び明確な輪郭をもったマイクロフィルム印刷を含むマイクロフィルム化，並びに電子的像記録及び電子的像再生を可能にするものでなければならない。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric thin film device for solving a problem due to a residual stress actualized when the patterning of a dielectric thin film is performed by using conventional photo-lithography technology, and a problem due to a micro-fine residue.例文帳に追加

従来のフォトリソグラフィー技術を用いて誘電体薄膜のパターニングを行った場合に顕在化する残留応力に起因する問題および微小残渣に起因する問題を解消することができる誘電体薄膜デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photo MEMS (micro electro mechanical system) acceleration sensor, which responds to a small SoC (system on chip) structure, selectively use a material without being limited to use of single crystal Si as the material, and attain application of a conventional processing technique to manufacture of a MEMS structure without through any complicated process.例文帳に追加

小型でＳｏＣ構造化への要請に応じることができ、単結晶Ｓｉを材料とすることに限定されず材料の選択が可能であり、複雑なプロセスを経ることなく従来の加工技術をＭＥＭＳ構造体の製造へ援用できる光ＭＥＭＳ加速度センサを提供する。 - 特許庁

This thermal lens spectrophotometry system includes: a first light source unit 10; a second light source unit 20; a third light source unit 30; a fourth light source unit 40; probes 51, 52, 53, 54; a micro-chemical chip 60 having samples 61, 62, 63, 64; a photo diode 70; an IV amplifier 80; and a PC 90.例文帳に追加

熱レンズ分光分析システムは、第１の光源ユニット１０と、第２の光源ユニット２０と、第３の光源ユニット３０と、第４の光源ユニット４０と、プローブ５１，５２，５３，５４と、試料６１，６２，６３，６４を備えるマイクロ化学チップ６０と、フォトダイオード７０と、ＩＶアンプ８０と、ＰＣ９０とを備える。 - 特許庁

To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To offer a constitution of a micro electron source using a laser emitting element capable of integration equal to that of a NEA(negative electron affinity) photo-cathode and capable of obtaining electron beams having high- brightness and a low energy dispersion characteristic, and to provide an electron beam device capable of downsizing device constitution and improving the throughput.例文帳に追加

本発明は、ＮＥＡフォトカソードと同等の集積化が可能なレーザ発光素子を使用し、高輝度かつ低エネルギー分散特性を有する電子ビームを得ることができる微小電子源の構成を提案し、装置構成を小型化して、スループットの向上を図ることができる電子ビーム装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The imaging apparatus 3 includes: a photoelectric plane whereon the optical image B is received, photo-electrons are discharged and a gate operation is performed under potential control by the control unit 4; a micro-channel plate (MCP) disposed oppositely to the photoelectric plane; and an imaging section for producing image data on the basis of an electronic image discharged from the MCP.例文帳に追加

撮像装置３は、光像Ｂを受けて光電子を放出するとともに制御部４による電位制御によってゲート動作を行う光電面と、光電面に対向配置されたマイクロチャンネルプレート（ＭＣＰ）と、ＭＣＰから放出された電子像に基づいて画像データを生成する撮像部とを有する。 - 特許庁

To provide a photocurable liquid composition which has a good thixotropic property, therefore has good flowability (coatability) and good uncured layer stability after coated, and can consequently highly precisely and easily produce a three-dimensional shaped article having a desired shape by a micro photo-shaping method or the like.例文帳に追加

良好なチクソトロピー性を有するため、良好な流動性（塗布性）、及び塗布後の未硬化層の安定性を兼ね備えており、その結果、マイクロ光造形法等の光造形法によって、所望の形状を有する立体造形物を高精度でかつ容易に作製することができる光硬化性液状組成物を提供する。 - 特許庁

The illuminance measuring device 10 for exposure includes a light source 11, a spatial light-modulating element (digital micro-mirror device (DMD)) 12 modulating light emitting from the light source, a condenser lens 13 where the whole light exiting from the DMD enters, a single photo-electron converter (PD) 14 where the converged light through the condenser lens enters, and a controller 17.例文帳に追加

露光用照度計測装置１０は、光源１１と、該光源から照射された光を変調する空間光変調素子（ＤＭＤ）１２と、このＤＭＤから出射された光をすべて入射する集光レンズ１３と、該集光レンズを通して収束された光が入射される単一の光電変換素子（ＰＤ）１４と、コントローラ１７とを備える。 - 特許庁

CCD 10 includes: a semiconductor substrate 15 on which a photo diode 11 and a charge transfer part 14 are formed; an insulating film 16; a transfer electrode 17 constituting a vertical transfer path 13 together with a charge transfer part 14; a light shielding film 18 positioned in the upper part of the transfer electrode 17 and the semiconductor substrate 15; a color filter 24; and a micro lens 25.例文帳に追加

ＣＣＤ１０は、フォトダイオード１１及び電荷転送部１４が形成された半導体基板１５と、絶縁膜１６と、電荷転送部１４とともに垂直転送路１３を構成する転送電極１７と、転送電極１７及び半導体基板１５の上方に位置する遮光膜１８と、カラーフイルタ２４と、マイクロレンズ２５とを備える。 - 特許庁

In the optical micro-shaping apparatus for performing optical shaping by applying spot irradiation to a photo-setting resin 16 using the laser beam from a laser beam source, a shaped article is firmly formed on a substrate and the substrate equipped with an anchor part is employed in a region becoming the foundation of the shaped article so as to prevent the outflow of the resin at the time of washing.例文帳に追加

レーザー光源からのレーザービームを光硬化性樹脂１６にスポット照射して光造形を行なう本発明のマイクロ光造形装置は、造形物が基板上に堅固に形成され洗浄時に流失するようなことがないように、光造形物の基礎となる領域にアンカー部を備えた基板を採用するものである。 - 特許庁