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該当件数 : 3818



例文

The same publicized information about the patent application as (1) above indicates that it is possible to separate out TCPA dominantly and reduce the HCB content in final TCPA to 200ppm or less (around 115ppm in the experiment) by cooling the post-reaction solvent to around 40 degrees Celsius for crystallization in order to take advantage of the difference in the solubility of TCPA and HCB vis-a-vis the reaction solvent (chlorosulfonic acid) by temperature. 例文帳に追加

上記①と同じ特許出願公開情報によれば、TCPAとHCBの反応溶媒に対する温度による溶解度の差を利用し、反応後溶媒を 40℃前後まで冷却し、晶析させることによりTCPAを優位に析出させ、最終TCPA中のHCB含有量を 200ppm以下(実験では115ppm程度)まで低減できることが示されている。 - 経済産業省

A collection of properties compiled by P.H.Howard and W.M.Meylan (Syracuse Research Corporation) and published by Lewis in 1997, this addresses a total of about 13,000 organic compounds, arranging them in order of CAS number with data on 8 parameters - i.e., melting point, boiling point (including boiling point under reduced pressure), aqueous solubility, octanol/water partition coefficient, vapor pressure, dissociation constant, Henry coefficient, and atmospheric hydroxyl radical reaction rate constant.例文帳に追加

Syracuse Research Corporation の P.H.Howard と W.M.Meylanが編集した物理性データ集。1997年に Lewis社から刊行された。約13000の有機物質について、CAS番号順に配列し、各8項目〔融点、沸点(減圧下での沸点を含む)、水溶解度、オクタノール/水分配係数、蒸気圧、解離定数、ヘンリー係数、ならびに大気中での水酸化ラジカル反応速度定数〕のデータを収載している。 - 経済産業省

In the agrochemical granule formed by granulating the composition, excellent granulation efficiency can be obtained, and the release of the agrochemically active ingredient having high water solubility can be controlled for a long period.例文帳に追加

20℃における水溶解度が100ppm以上の農薬活性成分(A)、C8〜C40アルキル鎖カルボン酸及びその誘導体の中から選ばれる1種又は2種以上の混合物(B)、無機物質(C)、常温液体かつ常圧で200℃以上の沸点を有する石油留分(D)を含有する農薬粒剤組成物が、これを造粒して成る農薬粒剤において、良好な造粒効率が得られると共に、水溶解度の高い農薬活性成分を長期間に亘り溶出を制御できることを見出した。 - 特許庁

The positive resist composition contains a base material component (A') which has high solubility against alkali developing solution by action of acid and generates acid by exposure.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分(A’)を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分(A’)が、一般式(a0−1)で表される構成単位(a0−1)と、露光により酸を発生する構成単位(a0−2)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有する樹脂成分(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物[式中、R^1は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基または炭素数1〜5のハロゲン化アルキル基であり、R^2は2価の連結基であり、R^3は、その環骨格中に−SO_2−を含む環式基である。 - 特許庁

例文

The resist composition contains a base material in which the solubility with respect to alkaline developer changes through the action of an acid, and a photoacid generator.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材、および光酸発生剤を含有するレジスト組成物であって、光酸発生剤が一般式(b1−1)で表される化合物;式(b1−1)中、Y^10は炭素数5以上の環状の炭化水素基であって酸解離性基を表し;R^6およびR^7は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよく;Y^11およびY^12はアルキル基又はアリール基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。 - 特許庁


例文

To provide a detergent for a magnetic disk substrate, which has excellent solubility, for re-deposition of nickel ions originating from an Ni-P plated aluminum substrate, and iron ions originating from cleaning equipment made of stainless steel etc., has excellent dispersibility of particles once adsorbed on a substrate surface and then desorbed therefrom owing to possession of a suitable etching property, and is excellent in reattachment prevention property against particles.例文帳に追加

Ni−Pメッキしたアルミ基板に由来するニッケルイオン、ステンレス製の洗浄設備等に由来する鉄イオンの再析出に対して優れた溶解性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで一旦吸着した後、基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつパーティクルの再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。 - 特許庁

The sol gel liquid used when forming by an ink jet method an individualized electromechanical conversion film of an electromechanical conversion element contains: lead zirconate titanate (PZT) or; PZT and other metal composite oxides; and an organic solvent having characteristics in a region shown by A, B, C, D, E, F in a triangle composition figure (Fig.3) showing solubility parameter characteristics.例文帳に追加

電気−機械変換素子の個別化された電気−機械変換膜をインクジェット法により形成する際に用いるゾルゲル液であって、ジルコン酸チタン酸鉛(PZT)、又はPZTと他の金属複合酸化物、及び溶解度パラメータ特性を示す三角組成図(図3)中の、A・B・C・D・E・Fで示される領域内の特性を有する有機溶媒を含有し、かつ、その液質が、次の1)〜3)の要件を満たすゾルゲル液。 - 特許庁

To provide a reactive flame retardant having all of various physical properties such as heat resistance, hydrolysis resistance, processability (solvent solubility) and adhesivity and photosensitivity, flame retardancy, softness, flexibility and sufficient mechanical strength and capable of sufficiently coping with the miniaturization and weight reduction of electronic component in electronic equipment, and to provide a photosensitive resin composition using the reactive flame retardant and a typical application thereof.例文帳に追加

本願発明の課題は、ハロゲン系難燃剤を用いることなく、耐熱性、加水分解耐性、加工性(溶媒可溶性も含む)、接着性等の諸物性と、感光性、難燃性、柔軟性、可撓性及び十分な機械的強度とを両立させることが可能であり、電子機器における電子部品の小型化、軽量化に十分に対応できる反応性難燃剤と、該反応性難燃剤を用いてなる感光性樹脂組成物と、その代表的な利用方法を提供することにある。 - 特許庁

The positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser includes, layered sequentially above a support, a lower layer comprising an alkali-soluble group-containing graft copolymer and an upper layer whose solubility in an aqueous alkali solution increases by exposure, wherein the lower layer and/or the upper layer includes an infrared absorbing agent and the graft copolymer in the lower layer is a polyurethane having as a graft chain an ethylenically unsaturated monomer-derived constitutional unit.例文帳に追加

支持体上に、アルカリ可溶性基を有するグラフト共重合体を含む下層と、露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する上層と、を順次積層してなり、下層及び/又は上層に赤外線吸収剤を含み、下層の前記グラフト共重合体がエチレン性不飽和単量体に由来する構成単位をグラフト鎖として有するポリウレタンであることを特徴とする赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版。 - 特許庁

例文

To provide a metal oxide fine particle exhibiting high solubility in a solvent, and capable of providing a resin having excellent light resistance, light transmissivity and heat resistance when dispersed in the resin, to provide a silicone resin composition obtained by reacting the fine particles, to provide an optical semiconductor element-sealing material containing the silicone resin composition, and to provide a semiconductor device sealed with the resin composition or the optical semiconductor element-sealing material.例文帳に追加

溶媒への溶解性が高く、かつ、樹脂中に分散させた場合には耐光性、光透過性及び耐熱性に優れる樹脂を提供することができる金属酸化物微粒子、該微粒子を反応させて得られるシリコーン樹脂組成物、該シリコーン樹脂組成物を含有する光半導体素子封止材料、ならびに、該樹脂組成物又は光半導体素子封止材料で封止された光半導体装置を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a photosensitive resin composition and typical utilization thereof, the photosensitive resin composition being obtained without using a halogen-based flame retardant but by using a reactive flame retardant of simultaneously achieving various physical properties, such as heat resistance, hydrolysis resistance, processability (including solvent solubility), and adhesion; and photosensitivity; flame retardancy; pliability; flexibility; and sufficient mechanical strength, and sufficiently dealable with downsizing and weight reduction of electronic parts in electronic equipment.例文帳に追加

本願発明の課題は、ハロゲン系難燃剤を用いることなく、耐熱性、加水分解耐性、加工性(溶媒可溶性も含む)、接着性等の諸物性と、感光性、難燃性、柔軟性、可撓性及び十分な機械的強度とを両立させることが可能であり、電子機器における電子部品の小型化、軽量化に十分に対応できる反応性難燃剤を用いてなる感光性樹脂組成物と、その代表的な利用方法を提供することにある。 - 特許庁

The first ink-delivering section 1311 delivers the ink of solubility lower than those of the ink delivered from the second ink-delivering sections 1307 to 1310, and makes the ink delivered from both the first ink-delivering section 1311 and the second ink-delivering sections 1307 to 1310 reach nearly the same position in the delivered-ink receptacle section M5011.例文帳に追加

記録手段H1001は、前記走査方向に沿って順次配設された第1のインク吐出部1311と、第2のインク吐出部1307〜1310を有し、第1のインク吐出部1311は、第1のインク吐出部1307〜1310から吐出されるインクの溶解性よりも低いインク溶解性を有するインクを吐出し、第1のインク吐出部1311から吐出されるインクと、第2の吐出部1307〜1310から吐出されるインクとを吐出インク受け部M5011内の略同一位置に着弾させる。 - 特許庁

In the resist composition containing (A) a compound generating the acid due to irradiation with an active light or radiation, and (B) a resin increasing solubility to an alkali developer due to the action of the acid having a repeating unit having at least one alicyclic structure, the resin of (B) components is one having a perfuluoroalkyl group or an Si atom on the main chain terminal.例文帳に追加

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)少なくとも1つの脂環構造を有する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、(B)成分の樹脂が、その主鎖末端にパーフルオロアルキル基又はSi原子を有する基を有する樹脂であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains a substrate component (A) whose solubility to alkali developer is changed by action of acid; an acid generator component (B) which generates an acid by exposure; and an optical base generator component (F) which generates a base by exposure.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)、および露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分(F)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(Ia)で表されるアニオン部を有する酸発生剤(B1)を有し、前記光塩基発生剤成分(F)が下記一般式(f1)で表される化合物からなる光塩基発生剤(F1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

This recording liquid set consists of a liquid composition containing water or water and a water soluble organic solvent and an ink containing at least water, a colorant and a water soluble organic solvent having a solubility parameter which is 4 or more than 4 to less than 15 lower than that of the water soluble organic solvent in the aforesaid liquid composition or that of water when containing no water soluble organic compound.例文帳に追加

水と水溶性有機溶媒とを含有する又は水を含有する液体組成物と、少なくとも、水、着色剤、及び、前記液体組成物中の水溶性有機溶媒の溶解度パラメータ又は水溶性有機溶媒を含まない場合には前記液体組成物中の水の溶解度パラメータより、4以上15未満低い溶解度パラメータを有する水溶性有機溶媒を含有するインクと、からなることを特徴とする記録液セットである。 - 特許庁

This method comprises depolymerizing polyester wastes containing at least copolyesters and composed mainly of polyethylene terephthalate by using ethylene glycol, recrystallizing dimethyl terephthalate to obtain its cake from a mixture composed substantially of dimethyl terephthalate obtained by substituting esterification, copolymer components in copolymerized polyesters, methanol and ethylene glycol, and washing the cake with a solvent having higher solubility for the copolymer components than that for dimethyl terephthalate to purify the dimethyl terephthalate.例文帳に追加

共重合ポリエステルを少なくとも含み、主としてポリエチレンテレフタレートからなるポリエステル廃棄物に対して、エチレングリコールを用いて解重合反応を行い、次いでメタノールを用いて置換エステル化反応を行って得られるテレフタル酸ジメチル、共重合ポリエステル中の共重合成分、メタノール及びエチレングリコールから実質的になる混合溶液から再結晶化を行ってテレフタル酸ジメチルのケークを得た後、該ケークをテレフタル酸ジメチルよりも共重合成分の溶解度が高い有機溶媒で洗浄を行って、テレフタル酸ジメチルを精製する。 - 特許庁

The resist composition contains a base material component (A), which generates an acid by exposure and the solubility to a developing solution is changed by an action of an acid.例文帳に追加

露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、下記一般式(a0−1)で表される基を有する構成単位(a0−1)と、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位(a1)とを有する樹脂成分(A1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The manufacturing method of a glass component equipped with a fine pattern comprises: an application process of applying a heatless glass 40 on the fine pattern 21 of a replica 20 which is made of a specific material soluble in a specified solvent exhibiting no solubility for glass and has the fine pattern; a curing process of curing the applied heatless glass 40; and a dissolution process of dissolving the replica 20 by the specified solvent.例文帳に追加

本発明のガラス部品の製造方法は、微細パターンを具備したガラス部品の製造方法であって、ガラスに対して溶解性を示さない特定溶媒に溶解可能な特定材料からなり、且つ微細パターンを有するレプリカ20に対し、当該レプリカ20の微細パターン21上にヒートレスガラス40を塗布する塗布工程と、前記塗布したヒートレスガラス40を硬化する硬化工程と、前記レプリカ20を前記特定溶媒により溶解させる溶解工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A resist film 11 having ≤250 nm thickness and comprising a chemical amplification type positive resist material comprising a base polymer having solubility in an alkaline developing solution varied by the action of an acid and an acid generator in which at least one electron withdrawing group has been introduced into the meta-positions of an aromatic ring constituting a counter anion and which generates the acid when irradiated with energy beams is formed on a semiconductor substrate 10.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ性現像液に対する溶解性が変化するベースポリマーと、カウンターアニオンを構成する芳香環のメタ位に少なくとも1つの電子吸引性基が導入されておりエネルギービームが照射されると酸を発生する酸発生剤とを有するポジ型の化学増幅型レジスト材料よりなり、250nm以下の膜厚を持つレジスト膜11を半導体基板10の上に形成する。 - 特許庁

The resist composition includes: a base component (A) the solubility of which with a developing solution changes by an action of an acid; and an acid generator component (B) which generates an acid by exposure, the acid generator component (B) including an acid generator (B1) having a group expressed by the formula (b1-1) in a cationic moiety.例文帳に追加

酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)は、式(b1−1)で表される基をカチオン部に有する酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物[式中、R’は炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、−COOR”、−OC(=O)R”、ヒドロキシアルキル基又はシアノ基であり、R”は水素原子またはアルキル基であり、pは0〜4の整数である。 - 特許庁

The invention provides the new and useful mono- and di-organic amine salt, mono- and di-amino acid salt, and mono- and di-amino acid ester salt of the combretastatin A-4 prodrug, and the prodrugs increase the solubility of combretastatin A-4, readily regenerate combretastatin A-4 in vivo under normal physiological condition, and which produce physiologically tolerable products as a result of the regeneration of combretastatin A-4.例文帳に追加

本発明によって、新規かつ有用なコンブレタスタチンA−4ホスフェートプロドラッグのモノ−およびジ−有機アミン塩、モノ−およびジ−アミノ酸塩、ならびにモノ−およびジ−アミノ酸エステル塩が提供され、これはコンブレタスタチンA−4の溶解度を増加し、正常な生理学的条件下で、インビボでコンブレタスタチンA−4を容易に再生し、そしてこれはコンブレタスタチンA−4の再生の結果として生理学的に許容されるプロドラッグを生成する。 - 特許庁

By using the rare earth metal complex represented by the formula (wherein Ln is at least one metal selected from a group consisting of yttrium and lanthanoids; R represents an 8-24C branched alkyl), a fluorescent material suitable for an inkjet ink composition which has high solubility in organic solvents and generates the three primary colors by merely altering the kind of the central metallic ion is obtained.例文帳に追加

下記の式(式中、Lnは、イットリウム及びランタノイドからなる群から選ばれる少なくとも1つの金属を示し、Rは、分岐を有する炭素数8〜24のアルキル基を示す。)で表される希土類金属錯体を用いることにより、有機溶剤に対する溶解性が高く、しかも、中心金属イオンの種類を変えるだけで光の3原色を得ることが可能な、インクジェット用インク組成物に適した蛍光発光材料。 - 特許庁

The liquid stabilizer for chlorine-containing resins containing metal salts of toluic acid having a very low solubility as the major ingredient is prepared by mixing an alkyl hydrogen phosphite expressed by formula (I) (R^1 and R^2 are each 6-16C alkyl group) with at least one kind selected from zinc toluate, barium toluate, calcium toluate, magnesium toluate and strontium toluate.例文帳に追加

トルイル酸亜鉛塩と、トルイル酸バリウム塩、トルイル酸カルシウム塩、トルイル酸マグネシウム塩およびトルイル酸ストロンチウム塩から選ばれる少なくとも1種に、下式(I) (R^1、R^2は、それぞれ炭素数6〜16までのアルキル基を示す)で示されるアルキルハイドロゲンホスファイトを配合させることにより、溶解性の著しく低いトルイル酸金属塩を主成分として含有する塩素含有樹脂の液状安定剤の調製を可能にした。 - 特許庁

The positive resist composition contains a base component which exhibits increased solubility in an alkali developer under the action of an acid and generates an acid upon exposure, wherein the base component contains a polymeric compound having a hydroxystyrene unit, a hydroxystyrene unit having an acetal bond in a side chain, and a hydroxystyrene unit to which a structural unit which generates an acid upon exposure bonds through an acetal bond.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ露光により酸を発生する基材成分を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分が、ヒドロキシスチレン単位と、側鎖にアセタール結合を有するヒドロキシスチレン単位と、露光により酸を発生する構成単位がアセタール結合を介して結合しているヒドロキシスチレン単位とを有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

The toner includes toner particles obtained by polymerizing a monomer composition including at least a polymerizable monomer, a colorant and a high molecular polymerization initiator in an aqueous medium, wherein the polymer polymerization initiator has a toluene-hexane solubility parameter of 2-35 and a weight average molecular weight (Mw) of 2,000-500,000 and the toner has a softening point of 70-130°C.例文帳に追加

重合性単量体、着色剤及び高分子重合開始剤を少なくとも含む単量体組成物を水系媒体中において重合することで得られるトナー粒子を含有するトナーであって、前記高分子重合開始剤はトルエンヘキサン溶解度指数が2〜35で重量平均分子量(Mw)が2000以上500000以下であり、前記トナーの軟化点は70℃以上130℃以下であることを特徴とするトナー。 - 特許庁

(1) The photosensitive composition is a photosetting composition containing (A) an ethylenically unsaturated group-containing compound, (B) a photopolymerization initiator, and (C) a sensitizing dye having an absorption maximum in a wavelength region from 355 to 430 nm, wherein the photopolymerization initiator (B) contains a hexaarylbiimidazole compound having a substituent and showing ≥1 wt.% solubility to isopropyleneglycol monomethylether at 25°C.例文帳に追加

(1)(A)エチレン性不飽和基含有化合物、(B)光重合開始剤、及び(C)355〜430nmの波長域に吸収極大を有する増感色素を含有する光硬化性組成物であって、且つ(B)光重合開始剤が25℃イソプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する溶解性が1重量%以上である置換基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。 - 特許庁

In this method for producing the emulsion composition containing the silicone and the water-swellable clay mineral, it is characterized in that the silicone, a silicone derivative having ≤1 difference in solubility parameter between the silicone and silicone derivative and the water-swellable clay mineral having20 mL/2 g swelling power are formulated and dispersed, and then formulated and dispersed into water to prepare the emulsion composition.例文帳に追加

シリコーン及び水膨潤性粘土鉱物を含有する乳化組成物を製造する際に、シリコーンと該シリコーンの溶解度パラメーターとの差が1以下のシリコーン誘導体及び膨潤力が20mL/2g以上である水膨潤性粘土鉱物とを混合・分散し、次いで水を混合・分散して、乳化組成物を調製することを特徴とするシリコーン及び水膨潤性粘土鉱物を含有する乳化組成物の製造方法。 - 特許庁

The liquid stabilizer for chlorine-containing resins containing metal salts of toluic acid having a very low solubility as the major ingredient is prepared by mixing at least one kind selected from zinc toluate, barium toluate, calcium toluate, magnesium toluate and strontium toluate, an alkyl hydrogen phosphite expressed by formula (I) (R^1 and R^2 are each 6-16C alkyl group) and a copolymer of a methacrylate.例文帳に追加

トルイル酸亜鉛塩と、トルイル酸バリウム塩、トルイル酸カルシウム塩、トルイル酸マグネシウム塩およびトルイル酸ストロンチウム塩から選ばれる少なくとも1種に、下式(I)(R^1、R^2は、それぞれ炭素数6〜16までのアルキル基を示す)で示されるアルキルハイドロゲンホスファイトとメタクリル酸エステルのコポリマーを配合させることにより、溶解性の著しく低いトルイル酸金属塩を主成分として含有する塩素含有樹脂の液状安定剤の調製を可能にした。 - 特許庁

This method for producing middle dough of the bread dough by adding potassium bromate is characterized by adding potassium bromate as an aqueous solution for improving the solubility of the added potassium bromate in the bread dough and for accelerating the chemical decomposition of the bromic acid, and also adding ferrous sulfate and ascorbic acid for not leaving the bromic acid in the bread after baking or reducing its remaining amount.例文帳に追加

食パン類生地の中種の作成工程において、臭素酸カリウムを添加するにあたり、パン類生地中において添加された臭素酸カリウムの溶解性を向上させ、臭素酸の化学的な分解を促進するために、臭素酸カリウムを水溶液として添加するとともに、硫酸第一鉄及びアスコルビン酸を添加することにより、焼成後のパン類中に臭素酸を残存させないか、またはその残存量を減少させることからなる食パン類生地の製造方法、および該パン類生地を焼成することからなる食パン類の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

A prophylactic and therapeutic agent for viral diseases, bacterial diseases, traumatopathy, immunological diseases, rheumatism, diabetes, cardiovascular diseases or malignant tumor comprises the hesperidin as an active ingredient, wherein α-glycosylhesperidin having excellent water solubility and comprising hesperidin α-bonded with equimolar or more of D-glucose residue which is in vivo hydrolyzable into the hesperidin and the D-glucose is applied as the hesperidin.例文帳に追加

ヘスペリジンを有効成分とするウィルス性疾患、細菌性疾患、外傷性疾患、免疫疾患、リューマチ、糖尿病も、循環器疾患、または悪性腫瘍のための予防剤又は治療剤において、ヘスペリジンとして、水溶性に優れ、生体内でヘスペリジンとD−グルコースとに加水分解される、ヘスペリジンにD−グルコース残基が等モル以上α結合しているα−グリコシル ヘスペリジンを用いることにより前記課題を解決する。 - 特許庁

This method for producing the epichlorohydrin by efficiently dehydrochlorinating the dichlorohydrin consisting mainly of 1,3-dichloro-2-propanol is provided by using a material having low solubility to water as a basic component, adding the material in a slurry state to a reaction vessel in advance, and adding the dichlorohydrin or a mixture containing the dichlorohydrin to the slurry to produce the epichlorohydrin and distilling off the produced epichlorohydrin quickly.例文帳に追加

1,3−ジクロロ−2−プロパノールを主生成分とするジクロロヒドリンを効率的に脱塩化水素化するエピクロロヒドリンの製造方法において、塩基性成分に水への溶解性の低い物質を用い、スラリー状にしたものを予め反応槽1に添加し、ジクロロヒドリン又はジクロロヒドリンを含む混合物を前記記載のスラリーに添加することにより、エピクロロヒドリンを製造し、製造されたエピクロロヒドリンを速やかに留出させる。 - 特許庁

This method for preparing granules which contain a biologically active substance and in which the biologically active substance is homogeneously dispersed in a matrix based on at least one thermoplastic polymer having a solubility dependent to pH values in an aqueous medium, by homogeneously mixing the charged substance in the state of the melt and then extruding and shaping the mixture, characterized by forming the granules in an insoluble or nondispersible cooling medium.例文帳に追加

装入物質を溶融物の状態で均質に混合し、引続き押出しかつ造形することにより、水性媒体中でpH値に依存する溶解度を有する少なくとも1つの熱可塑的に加工可能なポリマーをベースとするマトリックス中に、生物学的に活性な物質が均質に分散して存在する、生物学的に活性な物質を含有する顆粒を製造する方法の場合に、前記顆粒が不溶性であるか、または分散不可能である冷却剤中で造形を行う。 - 特許庁

In the method for producing spherical silicone fine particles by hydrolyzing an organotrialkoxysilane in an acidic water to obtain a silanol solution, adding an alkaline aqueous solution to the solution, mixing the resulting mixture, and subjecting the mixture to polycondensation reaction in the state of still standing to form silicone fine particles, a ≥4C alcohol having a specific solubility in water is added to the reaction system before adding the alkaline aqueous solution.例文帳に追加

オルガノトリアルコキシシランを、酸性水中で加水分解して、シラノール溶液を得、その溶液にアルカリ性水溶液を添加、混合し、静置状態で重縮合反応させてシリコーン微粒子を形成する球状シリコーン微粒子の製造方法において、アルカリ性水溶液の添加より前に、反応系に、水に対して一定の溶解度を有する炭素数が4以上のアルコールが添加されているようにする。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (a) a specified compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays, (b) a resin having the residue of a compound having a lower ionization potential than p-ethylphenol in a group which is released by the action of the acid and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of the acid and (c) a solvent.例文帳に追加

(a)電子線またはX線の照射により酸を発生する特定の化合物、(b)酸の作用により脱離する基の中に、p−エチルフェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(c)溶剤を含有することを特徴とする電子線またはX線用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains: a compound which contains at least (A1) a sulfonate compound of a sulfonium and (A2) a sulfonate compound or a disulfonyl diazomethane compound of N- hydroxyimide and generates an acid when irradiated with active light or radiation; and a resin which contains repeating units each having a specified lactone structure and is decomposed by the action of the acid to have its alkali solubility increased.例文帳に追加

少なくとも(A1)スルホニウムのスルホン酸塩化合物と(A2)N−ヒドロキシイミドのスルホネート化合物又はジスルホニルジアゾメタン化合物を含む、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The processing member used for heat-developing a silver halide photographic sensitive material put on the member in the presence of water is manufactured by bonding a member with at least one constitutive layer containing a photographically useful material to a member with at least one constitutive layer having heat sealing property or at least one of water solubility and adhesion in a laminated state.例文帳に追加

ハロゲン化銀写真感光材料と処理部材を水の存在下で重ね合わせて熱現像するために用いるハロゲン化銀写真感光材料用の処理部材の作製方法において、写真有用性物質を含有する構成層を少なくとも1層有する部材と、ヒートシール性又は水溶性粘着性の少なくともどちらかの性質を有する構成層の少なくとも1層を有する部材と、を接着して積層させて作製するハロゲン化銀写真感光材料用の処理部材の作製方法である。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units including a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generated the acid when irradiated with active light or radiation, an organic solvent which dissolves the above components, an organic basic compound and at least one selected from a fluorine- and/or silicon-containing surfactant and a nonionic surfactant.例文帳に追加

特定の構造を含有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、上記成分を溶解する有機溶剤、有機塩基性化合物、並びにフッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも1種を含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin which is decomposed by the action of acids and increases its solubility in an alkali developing solution, a compound having an oxime sulfonate structure represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation and at least one selected from the group comprising compounds each represented by a specified structure and generating an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、特定の構造で表されるオキシムスルホネート構造を有し、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、特定の構造で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物の群から選択される少なくとも1種、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

This cleanser composition is characterized by adding 0.01 to 1 pt.wt. of an evaporable basic compound such as tetramethylammonium hydroxide to 100 pts.wt. of a mixture liquid comprising 10 to 95 wt.% of water and 5 to 90 wt.% of an organic solvent having a solubility parameter δ of 8 to 16, such as dipropylene glycol monomethyl ether or propylene glycol monopropyl ether, and substantially not containing a surfactant.例文帳に追加

水10〜95重量%及びジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル等の溶解度パラメーターδが8以上16以下である有機溶媒5〜90重量%からなる混合液100重量部に対して、水酸化テトラメチルアンモニウム等の揮発性を有する塩基性化合物を0.01〜1重量部含有してなり、界面活性剤を実質的に含有しない組成物を洗浄剤として使用する。 - 特許庁

To provide an antibacterial agent developing synergistically enhanced antibacterial activity compared with lysozyme and triclosan, exhibiting wider antibacterial spectrum and having high solubility in water, a method for producing the antibacterial agent, and a cosmetic product and a pharmaceutical product developing high antibacterial activity against various bacteria causing infectious diseases, inflammation, underarm body odor, etc., suppressing the infectious diseases, inflammation, underarm body odor, etc., and having high antiseptic property.例文帳に追加

リゾチームおよびトリクロサンと比べて、相乗的に増強された抗菌活性を発現するとともに、より広い抗菌スペクトルを示し、水に対する高い溶解性を有する抗菌剤およびその製造方法ならびに感染症、炎症、腋臭などの原因となる種々の細菌に対して高い抗菌活性を発現し、前記感染症、炎症、腋臭などを抑制することができ、高い防腐性を有する化粧料および医薬品を提供すること。 - 特許庁

This method for purifying the adamantanemonool compound from a mixture comprising the adamantanemonool compound and the 2-adamantanone is characterized by dissolving the mixture in an ester solvent having a water-octanol distribution coefficient of ≥0.5 or in an ester solvent having a solubility of10 wt.% in water at 20°C, and subjecting the solution to a recrystallizaton operation at ≥5°C to remove the 2-adamantanone.例文帳に追加

アダマンタンモノオール類と2−アダマンタノンを含む混合物からアダマンタンモノオールを分離する方法であって、該混合物を水−オクタノール分配係数が0.5以上であるエステル溶媒、又は20℃における水への溶解度が10wt%以下であるエステル溶媒に溶解し、5℃以上で再結晶操作を行うことで2−アダマンタノンを除去することを特徴とするアダマンタンモノオール類の精製方法。 - 特許庁

In the solution film forming method for manufacturing the cellulose acetate film by casting a cellulose acetate solution prepared by dissolving cellulose acetate in an organic solvent, an organic compound, which has reactivity with respect to an alkali metal compound and an alkaline earth metal compound and has solubility preventing the precipitation of salts of an alkali metal and an alkaline earth metal formed by reaction, is added to the cellulose acetate solution.例文帳に追加

上記課題は、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解したセルロースアセテート溶液を流延してフィルムを製造する方法において、アルカリ金属化合物およびアルカリ土類金属化合物に対し反応性を有し、かつ反応によって生成するアルカリ金属およびアルカリ土類金属の塩が該溶液から析出しない溶解度を有する有機化合物を含有せしめることを特徴とするセルロースアセテートフィルムの溶液製膜方法によって解決される。 - 特許庁

The spacer used for a liquid crystal display device has the following characteristics relating to the elution peak in chromatography which uses the spacer as a stationary phase to pack the column, uses a liquid having 8.5 to 23.5 (cal/cm3) solubility parameter as a mobile phase, and passes liquid crystal molecules through the column.例文帳に追加

液晶表示素子に用いられるスペーサであって、前記スペーサをカラムに充填して固定相に用い、溶解度パラメータが8.5〜23.5(cal/cm^3 )である液体を移動相に用いた系に、液晶分子を流入させた際に得られる溶出ピーク形状において、溶出ピークの保持時間をt(分)、溶出ピーク高さの50%部におけるピーク幅をW_1/2 (分)、測定に使用したカラム長さをL(mm)、カラムに充填した液晶表示素子用スペーサの平均粒径をD(mm)とするとき、下記式(1)で表されるパラメータ(P値)が25以上であるスペーサ。 - 特許庁

In the positive type electron beam or X-ray resist composition containing (a) a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays and (b) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid and increases solubility in an alkali developing solution, the compound (a) contains a specified sulfonic ester and a specified onium sulfonate.例文帳に追加

(a)電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物、(b)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有するポジ型電子線又はX線レジスト組成物において、電子線又はX線の照射により酸を発生する化合物が、特定のスルホン酸エステルと特定のオニウムスルホン酸塩を含有することを特徴とするポジ型電子線又はX線レジスト組成物。 - 特許庁

In the method, the starting solution containing fibrinogen and fibronectin is treated with a precipitate composition containing two different components for altering solubility of fibrinogen and/or fibronectin, and thereby the precipitate containing fibrinogen and fibronectin is formed in a single precipitation process, and the formed precipitate is further treated by well known methods per se, if necessary.例文帳に追加

本発明の方法において、フィブリノーゲンおよびフィブロネクチンを含有する出発溶液を、フィブリノーゲンおよび/またはフィブロネクチンの溶解度を改変する2つの異なる成分を含む沈殿組成物で処理し、それにより単一工程の沈殿においてフィブリノーゲンおよびフィブロネクチンを含む沈殿物が形成され、そして形成された沈殿物は、必要に応じて、それ自体が公知の方法によってさらに処理される。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) an acid generating sulfonium slat compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid, (C) a solvent, (D) an organic basic compound and (E) a surfactant having a specified structure.例文帳に追加

(A)特定の構造で表される酸を発生するスルホニウム塩化合物、(B)特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、(C)溶剤、(D)有機塩基性化合物、及び(E)特定構造の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

This method for producing the rectangular bread is provided by adding the potassium bromate as an aqueous solution for improving the solubility of the added potassium bromate in bread dough and promoting the chemical decomposition of the bromic acid on adding the potassium bromate in the production process of the bread dough, and also adding ascorbic acid, or ferrous sulfate and ascorbic acid so as not to leave the bromic acid behind in the rectangular bread after baking.例文帳に追加

食パン類生地の作成工程において、臭素酸カリウムを添加するにあたり、パン類生地中において添加された臭素酸カリウムの溶解性を向上させ、臭素酸の化学的な分解を促進するために、臭素酸カリウムを水溶液として添加するとともに、アスコルビン酸を、又は硫酸第一鉄及びアスコルビン酸を添加することにより、焼成後の角型食パン類中に臭素酸を残存させないようにすることからなる角型食パン類の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

This plasticizer-containing resin molding is applied with a water-based coating material for prevention of transfer of the plasticizer and containing a copolymer (X) obtained by carrying out emulsion polymerization of (A) oil-in-water type emulsion of a polyorganosiloxane and (B) a monomer mixture containing a hydroxy group-containing ethylenic unsaturated monomer selected so that solubility parameter calculated becomes ≥9.4 and the other copolymerizable ethylenic unsaturated monomer.例文帳に追加

本発明の可塑剤含有樹脂成形体は、ポリオルガノシロキサンの水中油滴型エマルション(A)と、計算溶解性パラメーターが9.4以上となるように選択されたヒドロキシル基含有エチレン性不飽和単量体とその他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体を含む単量体混合物(B)とを乳化重合させた共重合体(X)を含む可塑剤移行防止用水性被覆材により被覆されていることを特徴とする。 - 特許庁

例文

An undercoat layer comprising a polymer which includes a component having an acid group and a component having an onium group is disposed on an anodically oxidized aluminum support and an intermediate layer comprising a water-insoluble and alkali-soluble resin and a heat-sensitive layer comprising a water-insoluble and alkali-soluble resin and an IR absorbing dye and having solubility in an alkaline aqueous solution increased by heating are stacked in order on the undercoat layer.例文帳に追加

陽極酸化処理を施したアルミニウム支持体上に、酸基を有する構成成分及びオニウム基を有する構成成分を有する重合体を含有する下塗り層を設けた上に、水不溶性且つアルカリ可溶性の樹脂を含有する中間層と、水不溶性且つアルカリ可溶性の樹脂と赤外線吸収染料とを含有し、加熱によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する感熱層とを順次積層してなる。 - 特許庁

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