「The O2」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The position adjustment (clearance adjustment) in the three directions which are the thickness direction O1, width direction O2 and height direction O3 of the hinged door 2 is performed by the respective adjusting mechanisms 10, 20, 30.例文帳に追加

各調整機構１０，２０，３０によって、開き戸２の厚さ方向Ｏ１、幅方向Ｏ２及び高さ方向Ｏ３の３方向での位置調整（隙間調整）が行なわれる。 - 特許庁

That is, the column shift lever 23 is displaced on the circumference around the second central axis O2 intersecting with the first central axis O1 around which the steering wheel 10 is rotated.例文帳に追加

すなわち、コラムシフトレバー２３は、ステアリングホイール１０の回転中心軸である第１の中心軸Ｏ１と交差する第２の中心軸Ｏ２を中心とする円周上を変位する。 - 特許庁

With the interlocking shaft 3 inserted into the shaft insertion hole 51, the interlocking shaft 3 is rotated around the first rotating shaft O1 and second rotating shaft O2 in conjunction with the change lever 2.例文帳に追加

連動軸３は、軸挿通孔５１に挿通された状態で、チェンジレバー２に連動して第１回転軸Ｏ１及び第２回転軸Ｏ２夫々を回転の軸にして回転する。 - 特許庁

Risings W11, W14 and the like are disposed near the through-holes O1, O2 within a range of 1/3 of the closest distance between the through-holes, and extend in the plate thickness direction.例文帳に追加

切り起こしＷ１１、Ｗ１４等は、貫通孔Ｏ１，Ｏ２の近傍であって貫通孔間の最近接距離の１／３以内の範囲に設けられ、板厚方向に伸びている。 - 特許庁

The axis of a disk-like casing 10 is set to a first center O1, and a second center O2 is set to a position eccentric from the first center O1.例文帳に追加

円盤状のケーシング１０の軸心を第１の中心Ｏ１に設定し、第１の中心Ｏ１から偏心する位置に第２の中心Ｏ２を設定する。 - 特許庁

Before depositing the silicon oxide film by plasma CVD, the wafer is heat-treated in an O2 atmosphere or N2O(nitrous oxide) atmosphere.例文帳に追加

本方法では、シリコン酸化膜をプラズマＣＶＤ法により成膜前に、Ｏ_2 雰囲気中又はＮ_2 Ｏ（亜酸化窒素）雰囲気中でウエハに熱処理を施す。 - 特許庁

When a second casing 52 is slid (linearly moved) with respect to a first casing 50, the ROSA 30 is slid while being positioned on the optical axis O2.例文帳に追加

第２の筐体５２を第１の筐体５０に対してスライド（直線運動）させた場合、ＲＯＳＡ３０は光軸Ｏ２上に位置した状態でスライドする。 - 特許庁

During a polysilicon etch back, a controlled amount of oxygen (O2) is added to the plasma generation feed gases to reduce pitting of the etched back polysilicon surface.例文帳に追加

ポリシリコンのエッチバック中に、制御された量の酸素（Ｏ_2）がプラズマ発生供給ガスに添加され、エッチバックされたポリシリコン表面のピットが減少する。 - 特許庁

Each image processing module includes an input and an output Ii, Oi relative to the image and an input and an output I1 to I5, O1, O2 relative to the control signal.例文帳に追加

それぞれの前記画像処理モジュールは、画像に対する入出力Ｉｉ、Ｏｉと、制御信号に対する入出力Ｉ１ないしＩ５、Ｏ１、Ｏ２を含む。 - 特許庁

The control device includes a sub O2 sensor, which is arranged in an exhaust passage of an internal combustion engine, for generating an output based on an oxygen concentration in the exhaust gas flowing through an exhaust passage.例文帳に追加

内燃機関の排気通路に配置され、排気通路を流れる排気ガス中の酸素濃度に応じた出力を発するサブＯ２センサを備える。 - 特許庁

The third and fourth turning axes O3, O4 are arranged on mutually opposite sides in relation to a line L1 passing through the first and second turning axes O1, O2.例文帳に追加

第３、第４回動軸線Ｏ３，Ｏ４は、第１、第２回動軸線Ｏ１，Ｏ２を通る直線Ｌ１に関して互いに逆側に位置するように配置する。 - 特許庁

If fuel is sprayed from the main fuel valve 5 in this state to form premixture, self-ignition is hard to occur since O2 is poor in the area X.例文帳に追加

この状態でメイン燃料弁５から燃料を噴射して予混合気を形成しても領域ＸではＯ_2 が少いので自己着火がしにくい。 - 特許庁

The substrate W is engaged with a substrate holder 13 fixed to a rotary shaft 12a of a rotating mechanism 12 and is rotatable around the center O2.例文帳に追加

基板Ｗは回転機構１２の回転軸１２ａに取り付けられた基板保持具１３に係合され、中心点Ｏ２において回転可能に設けられる。 - 特許庁

The distribution of O2 may be uneven, for example, since a diffraction order which is spacially separated is selectively shielded, or unevenness of the projection beam is settled.例文帳に追加

Ｏ_2の分布は、例えば空間的に分離された回折オーダーを選択的に遮るか、投影ビームの不均一性を解消するため、不均一でよい。 - 特許庁

The sub F/B part 41 variably establishes target air fuel ratio in an upstream of a catalyst based on detection signal of an O2 sensor 17 provided in a downstream of the catalyst.例文帳に追加

サブＦ／Ｂ部４１では、触媒下流側に設けたＯ2センサ１７の検出信号に基づいて触媒上流側の目標空燃比を可変設定する。 - 特許庁

The O2 gas resolves the carbon compound having a high molecular weight such as siloxane and generates a molecule having a relatively small molecular weight such as H2O and CO2.例文帳に追加

Ｏ_2ガスはシロキサン等の分子量が高い炭素化合物を分解してＨ_2Ｏ及びＣＯ_2等の比較的分子量が小さい分子を生成する。 - 特許庁

However, the target quantity of the oxygen storage quantity is decreased when a lean state is detected by the second rear O2 sensor 5b, and it is increased when a rich state is detected.例文帳に追加

ただし、前記酸素ストレージ量の目標量を、第２のリアＯ２センサ５ｂによりリーン状態を検出したときは減少し、リッチ状態を検出したときは増大する。 - 特許庁

The axial offset of the curvature center O1 of a track groove 12 of an outer joint member and the curvature center O2 of a track groove 15 of an inner joint member are set to zero.例文帳に追加

外側継手部材のトラック溝１２の曲率中心Ｏ１と、内側継手部材のトラック溝１５の曲率中心Ｏ２との軸方向のオフセットを０とする。 - 特許庁

The titanium dioxide activates cathode reaction (2H++2e-+(1/2)O2→H2O) as auxiliary catalyst of platinum by irradiation of the ultraviolet rays so as to promote the cathode reaction.例文帳に追加

二酸化チタンは、紫外線を照射することによりカソード反応（２Ｈ^+＋２ｅ^-＋（１／２）Ｏ_2→Ｈ_2Ｏ）に対して白金の助触媒として活性化し、カソード反応を促進する。 - 特許庁

Leak of fuel in the inside as liquid fuel is inhibited at the first seal members O1, O3 and leak as evaporation gas is inhibited at the second seal members O2, O4.例文帳に追加

第１シール部材Ｏ１，Ｏ３では内部の燃料の液体燃料としての漏洩が抑制され、第２シール部材Ｏ２，Ｏ４ではエボパとしての漏洩が抑制される。 - 特許庁

A rotary axis O2 of the second throttle valve 18 is established in such a manner that the same crosses a rotary axis O1 of the first throttle valve 17 in a view of an intake passage longitudinal direction.例文帳に追加

第２のスロットルバルブ１８の回動軸心Ｏ2は、第１のスロットルバルブ１８の回動軸心Ｏ1に対して、吸気通路長さ方向に見て交叉状に設定してある。 - 特許庁

A process of manufacturing heat absorbing substrate wherein a large number of holes can be produced employing gas phase etching medium in equal proportion of O2, Ar and CCl2F2, and exposing the medium to the substrate, the substrate is placed near the sputterable component, and …effect sputtering, and complete etching are conducted. 例文帳に追加

多数の空孔を生成するように、ガス状エッチング媒体として等比率のO2、Ar、及びCCl2F2を使用し、該ガス状エッチング媒体に基板をさらすことからなる基板の製造方法において、基板をスパッタ可能な組成の近くに置きスパッタをさせ、エッチングすることを特徴とする熱吸収基板の製造方法。 - 特許庁

The reflecting electrodes 4 are so structured that floating electrodes O1, S1, O2 and S2 are arranged one by one along the propagation direction of a surface acoustic wave, that the floating electrodes O1, O2 are made to function as open type gratings, and that the floating electrodes S1, S2 are made to function as short-circuited gratings by electrically being connected to each other.例文帳に追加

反射電極４は弾性表面波の伝搬方向に沿って浮き電極Ｏ１、Ｓ１、Ｏ２、Ｓ２を順次配置し、浮き電極Ｏ１、Ｏ２を開放型グレーティングとして機能させ、浮き電極Ｓ１、Ｓ２は互いに電気的に接続して短絡型グレーティングとして機能させた構造とする。 - 特許庁

After HSG-Si 15a are formed on the surface of a polysilicon film 15, phosphorus is diffused in the HSG-Si 15a by performing heat treatment at a prescribed temperature by means of a phosphorus diffusing device in a state where the O2/POCl3 mol ratio is adjusted to 0.2-1.5 in the atmosphere of a mixed gas of POCl3 gas and O2 gas.例文帳に追加

ポリシリコン膜１５の表面にＨＳＧ−Ｓｉ１５ａを形成した後、リン拡散装置にてＰＯＣｌ_3ガスとＯ_2ガスとＮ_2ガスの混合ガス雰囲気下でＯ_2／ＰＯＣｌ_3モル比を０．２ないし１．５の範囲に調整した状態で所定の温度にて熱処理を行うことにより、ＨＳＧ−Ｓｉ１５ａ中にリンを拡散する。 - 特許庁

When the trunnion 14 and the power roller 8 are synchronized, to the offset in the direction of a head swing axial line (O2) from the non-speed change position, as shown in the figure at the same phase, they are fitted and rotated about the same axial line to perform speed change.例文帳に追加

トラニオン１４およびパワーローラ８をサーボピストン４２により同期して同位相で図示の非変速位置から首振り軸線（Ｏ_2 ）方向にオフセットさせると、これらが同軸線周りに傾転して変速を行う。 - 特許庁

Since the center O2 of the control shaft is offset with respect to one side from a position immediately below the center O1 of the crankshaft, an interface 35 between the main bearing cap 23 and the bulkhead 22 is inclined correspondingly.例文帳に追加

コントロールシャフトの中心Ｏ２がクランクシャフトの中心Ｏ１の直下から一方にオフセットしているので、これに対応して、メインベアリングキャップ２３とバルクヘッド２２との接合面３５が傾斜している。 - 特許庁

The manufacturing method is as follows: for a specified time of about several seconds after the start of the etching, the flow rate of CHF3 is raised and the flow rate of O2 is dropped, relative to those flow rates in the usual etching.例文帳に追加

エッチング開始後、数秒間程度の所定の時間、通常のエッチングのときのＣＨＦ_3 の流量およびＯ_2 の流量に対して、ＣＨＦ_3 の流量を大きくし、Ｏ_2 の流量を小さくする。 - 特許庁

The position of the support portion 15 is adjusted with respect to a base 11, and the tilt of the holder 20 is adjusted to align an optical axis O2 of the collimate light with a reference optical axis O1 of the base 11.例文帳に追加

ベース１１に対して支持部１５の位置を調整し、ホルダ２０の傾きを調整することで、コリメート光の光軸Ｏ２をベース１１の基準光軸Ｏ１に一致させることができる。 - 特許庁

The breather chamber 47 is preferably formed integrally with a generator cover 15 in a position facing the balancer axis O2 in the axis direction, and the outlet 63 side end part of the balancer shaft 31 is projected into the breather chamber 47.例文帳に追加

ブリーザ室４７は、好ましくは、バランサ軸芯Ｏ2と軸芯方向に対向する位置に、ジェネレータカバー１５と一体成形し、該ブリーザ室４７にバランサ軸３１の出口６３側の端部を突出させる。 - 特許庁

When the second casing 52 is turned with respect to the first casing 50, the mirror 56 is turned around the optical axis O1, and the ROSA 30 is turned while being positioned on the optical axis O2.例文帳に追加

第２の筐体５２を第１の筐体５０に対して回動させた場合、ミラー５６は光軸Ｏ１の周りに回動し、ＲＯＳＡ３０は光軸Ｏ２上に位置した状態で回動する。 - 特許庁

Light beams from the strobe light source 6 pass through the optical path O1 and illuminate the fundus oculi R similarly to observation light beams, and the reflected beams pass through the optical paths O2, O3 and form an image on the back-and-white video camera 18.例文帳に追加

ストロボ光源６からの光束は、観察光束と同様に光路Ｏ１を通って眼底Ｒに照明され、その反射光は光路Ｏ２、Ｏ３を通って白黒ビデオカメラ１８に結像する。 - 特許庁

The chromium phosphate compd. concentrated and distributed in the vicinity of the boundary with the plating layer functions as a barrier layer checking the intrusion of corrosion factors (H2O, Cl, O2-, or the like) into base steel and strengthens its corrosion resistance.例文帳に追加

めっき層との界面近傍に濃化分布した燐酸クロム化合物は、腐食因子（H__２O，Ｃｌ^−，Ｏ^２−等）が素地鋼へ浸入するのを阻止するバリヤー層として機能し、耐食性を強化する。 - 特許庁

In an arc welding method of galvanized steel plates in which the arc welding is of low heat input and high deposition, the input energy Pw per the feed amount of a welding wire is ≥0.4 and ≤0.65, and the weld metal deposit Ft of the welding wire per thickness of the steel plate is ≥2.5 and ≤6.0.例文帳に追加

亜鉛めっき鋼板のアーク溶接において、前記アーク溶接が低入熱・高溶着な溶接方法であり、溶接ワイヤの供給量あたりの投入エネルギーPwが0.4以上、0.65以下であり、鋼板の板厚当たりの溶接ワイヤの溶着金属量Ftが2.5以上、6.0以下であり、さらに前記アーク溶接のシールドガス中の成分がAr、CO2、O2からなり、O2≦６体積％で且つ３０体積％≦CO2＋5×O2≦１００体積％の関係を満たすことを特徴とする亜鉛めっき鋼板のアーク溶接方法。 - 特許庁

The state of the output terminal O2 is the logical addition of (the state of the input terminal I2 of the first slave unit 1_11) OR (the state of the input terminal I2 of the second slave unit 1_12) OR...OR (the state of the input terminal I2 of the eighth slave unit 1_18).例文帳に追加

また、出力端子Ｏ２の状態は、（第１の子機１_１１の入力端子Ｉ２の状態）ＯＲ（第２の子機１_１２の入力端子Ｉ２の状態）ＯＲ・・・ＯＲ（第８の子機１_１８の入力端子Ｉ２の状態）の論理和である。 - 特許庁

When the CO concentration determining section 5a in a controller 5 makes a decision that the CO concentration detected by the CO sensor 3 is higher than a specified level or when the O2 concentration determining section determines that an O2 concentration detected based on the thermoelectromotive force of the element 2 is lower than a specified level, a solenoid valve control section 5d closes a solenoid valve 28.例文帳に追加

また、コントローラ５のＣＯ濃度判定部５ａがＣＯセンサ３によって検知したＣＯ濃度を所定レベル以上と判定した場合や、コントローラ５のＯ_２濃度判定部が熱電源素子による熱起電力に基づいて検出したＯ_２濃度を所定レベル以下と判定した場合には、電磁弁制御部５ｄが電磁弁２８を閉弁する。 - 特許庁

Then, H2+O2 mixed gas is burnt so that H2O (steam) can be formed and introduced to the furnace, and an SiO2 film can be prepared on an Si surface.例文帳に追加

続いて、Ｈ_2 ＋Ｏ_2 混合ガスを燃焼させてＨ_2 Ｏ（水蒸気）を形成し炉内に導入して、Ｓｉ表面にＳｉＯ_2 膜を作製する。 - 特許庁

Positions of center O2 and O4 of gear holes 10 and 11 are displaced to the right side in the figure, or a high-pressure port side from the center O1 of a shaft hole 17 and the center O3 of a shaft hole 18.例文帳に追加

ギヤ穴１０、１１の中心Ｏ２，Ｏ４の位置をシャフト穴１７の中心Ｏ１シャフト穴１８の中心Ｏ３よりも、図面右側である高圧ポート側にずらすようにした。 - 特許庁

A central axis O1 of the drum 32, and a central axis O2 of the drum 42 are set on the same straight line L1, and a first conveying line 11A is arranged between both the drums.例文帳に追加

前記成形ドラム３２の中心軸線Ｏ１と、成形ドラム４２の中心軸線Ｏ２とを同一直線Ｌ１上に設定し、両ドラムの間に第１搬送ライン１１Ａを配設する。 - 特許庁

An oscillation axis 22a of the operating lever 22 is journaled to a rectangular plate-like bearing seat 22' fixed to the rear surface of the front cap 23 in such a way as oscillatable around the oscillation axis O2'.例文帳に追加

前方キャップ２３の裏面に固着された矩形板状の軸受座２２’に、操作レバー２２の揺動軸２２ａが揺動軸線Ｏ２’周りで揺動可能に軸支されている。 - 特許庁

The compressor satisfies the all necessary conditions of air separation device raw material air, and satisfies at least a part of compression for the O2 enriched product gas from the air separation device.例文帳に追加

この圧縮機は、空気分離装置原料空気の全ての必要条件を満たし、且つ、空気分離装置からのＯ_2富化製品ガスのための圧縮の少なくとも一部を満足させる。 - 特許庁

The retaining section 4 rotatably retains the spherical portion 22 of the change lever 2, thereby the change lever 2 is rotated around a first rotating shaft O1 and a second rotating shaft O2.例文帳に追加

保持部４は、チェンジレバー２の球状部２２を回転自在に保持することにより、チェンジレバー２は、第１回転軸Ｏ１及び第２回転軸Ｏ２夫々を回転の軸にして回転する。 - 特許庁

In a second process, the rotation center of the cutter is lifted up to a position O2 where depth of the other end 6a becomes equal to the set value D, and the cutter is moved in parallel with the axis of the spool so as to keep this position to cut the corner of the other end.例文帳に追加

そして、第２工程で、上記他端６ａの深さが設定値Ｄになる位置Ｏ２にカッターの回転中心を持ち上げ、この位置を保つようにカッターをスプールの軸と平行に移動させ、他端の角を切削する。 - 特許庁

The grindstone 2 has a rotation axis O2 which is tilted relative to the rotation axis O1 of the drive board 1 and grinds the workpiece W supported by the carrier 3, the drive board 1, and the guide 24.例文帳に追加

前記砥石２は、前記駆動定盤１の回転軸心Ｏ１に対して傾斜した回転軸心Ｏ２を有し、前記キャリア３、駆動定盤１、およびガイド２４によって支持されているワークＷを研削する。 - 特許庁

In the system for producing a semiconductor, where an SiO2 film is formed on a substrate by supplying TRIES gas and O2 gas into a reaction chamber 1 loaded with a substrate, a section 5 for making TRIES gas and O2 merge is provided immediately in front of the reaction chamber 1 and the gas merging section is provided with a turbulence generating means 10.例文帳に追加

基板を装填した反応室１内にＴＲＩＥＳガスとＯ_2ガスとを供給して基板上にＳｉＯ_2膜を形成する半導体製造装置において、反応室１の直前にＴＲＩＥＳガスとＯ_2ガスとを合流させるガス合流部５を設け、そのガス合流部に乱流発生手段１０を設けた。 - 特許庁

In the work support member 2, the outer peripheral surface 21 is a circle with a smaller diameter than the reference stage 1, and one face side in the axial direction is provided with a work mount part 22 set based on the center O2.例文帳に追加

ワーク支持部材２は、外周面２１が基準ステージ１よりも小径の円形状であって、軸方向の一面側に、中心Ｏ２を基準にして設定されたワーク取り付け部２２を有する。 - 特許庁