「The O2」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The conical rollers 4 are rotatably supported around a center axis O2 by a spacing plate 5, and intervals between the adjacent conical rollers 4, 4 are kept constant.例文帳に追加

それら円錐状ころ４、４、…を間隔保持板５によって中心軸線Ｏ２を中心に回転自在に支持し、隣り合う円錐状ころ４、４どうしの間隔を一定に保持するようにした。 - 特許庁

When inspection is requested, by grouping a plurality of related inspection requests O1, O2, the medical examination department terminal 12 can issue a relational instruction to the request information management server 14.例文帳に追加

診療科端末１２は、検査依頼を際に、関連する複数の検査依頼Ｏ１，Ｏ２をグループ化して、依頼情報管理サーバ１４に向けて関連付け指示を発行することができる。 - 特許庁

The first display controller 32d displays so that an object O2 corresponding to buildings 1a, 1b, and an object O3 corresponding to the unit spaces become a tree structure T on a control screen.例文帳に追加

第１表示制御部３２ｄは、管理画面上に、建物１ａ，１ｂ，・・・に対応するオブジェクトＯ２および単位空間に対応するオブジェクトＯ３をツリー構造Ｔとなるように表示する。 - 特許庁

The receiving part receives the biasing force which has been received by the drum shaft 120 from the contact part 143 of the conductive plate 140, accordingly, both the center axis O2 of the drum shaft 120 and the center axis O1 of the drum body 110 can be coincident with each other without causing inclination therebetween.例文帳に追加

ドラム軸１２０が導通板１４０の接点部１４３から受ける付勢力を受け部が受けるので、ドラム軸１２０の中心軸Ｏ２がドラム本体１１０の中心軸Ｏ１に対して傾くことなく両中心軸同士を一致させることができる。 - 特許庁

The composite metal oxide which is represented by general formula of Li_x[(Li_yMn_1-y)_zM_1-z]O_2 and composed of an oxide having O2 structure is used as the positive electrode active material of the lithium secondary battery.例文帳に追加

Ｌｉ_ｘ｛（Ｌｉ_ｙＭｎ_１−ｙ）_ｚＭ_１−ｚ｝Ｏ_２の一般式で表され、Ｏ２構造を有する酸化物から構成される複合金属酸化物を、リチウム二次電池の正極活物質として用いる。 - 特許庁

At calculating the sub FB correction quantity FBsub, a difference DVoxsm between an estimation value Voxsm of the output value Voxs calculated by inputting the difference DAF between a catalyst model A13 and a O2 sensor model A14 is calculated.例文帳に追加

サブＦＢ補正量FBsubの算出に際し、差DAFを触媒モデルＡ１３及びＯ２センサモデルＡ１４に入力して算出される出力値Voxsの推定値Voxsmと、出力値Voxsとの差DVoxsmが算出される。 - 特許庁

The deburring head 2 includes the roll-like brush member 20 rotatable around a brush axis O1, and a pivoting support member 26 supporting the brush member 20 so as to freely be pivoted around a pivot O2.例文帳に追加

バリ取りヘッド２は、ブラシ軸心Ｏ１回りに回転自在なロール状のブラシ部材２０と、ブラシ部材２０を旋回軸心Ｏ２回りに旋回自在に支持する旋回支持部材２６とを有する。 - 特許庁

When a movable rail 232 is moved in the horizontal direction on a fixed block 231, the workpiece axial line O2 in agreement with a spindle axial line O1 is shifted to an insertion hole 22 on the second workpiece side W2.例文帳に追加

固定ブロック部２３１上にて移動レール部２３２を左右方向へ移動させることにより、スピンドル軸線Ｏ１と一致するワーク軸線Ｏ２を第二ワークＷ２側の挿通孔２２に変更する。 - 特許庁

20 sccm SiH4, 20 sccm SiF4, 7 sccm B2H6, 100 sccm O2 and 400 sccm Ar are introduced in the chamber 102 and the interior of the chamber 102 is set at a pressure of 0.01 to 10 Torr.例文帳に追加

各々２０ｓｃｃｍのＳｉＨ_4とＳｉＦ_4と，７ｓｃｃｍのＢ_2Ｈ_6と，１００ｓｃｃｍのＯ_2と，４００ｓｃｃｍのＡｒを処理室１０２内に導入し，０．０１Ｔｏｒｒ〜１０Ｔｏｒｒにする。 - 特許庁

A stopper 22 coupled to the antenna main body 20 is formed with a conductor section 50 and a lock section 51A, and a center axis O2 of the conductor section 50 is tilted from a center axis O1 of the antenna main body 20 by an angle θ.例文帳に追加

アンテナ本体２０に結合されたストッパー２２を導体部５０と抜止部５１Ａで形成し、導体部５０の中心軸Ｏ２をアンテナ本体２０の中心軸Ｏ１に対して角度θ傾ける。 - 特許庁

The heater 10b for an O2 sensor 10 and an ECU 20 receive feed from a battery 11 through a first feed route L1 and a second feed route L2.例文帳に追加

Ｏ２センサ１０用のヒータ１０ｂ及びＥＣＵ２０は、それぞれ第１給電経路Ｌ１及び第２給電経路Ｌ２を介して、バッテリ１１から給電されている。 - 特許庁

Further, auxiliary decomposition gas of one or more of H2, O2 and H2O is preferably added to the waste gas.例文帳に追加

更に、本発明の好ましい態様に係る排ガスの処理方法は、更に排ガスにＨ_2、Ｏ_2及びＨ_2Ｏのいずれか１種以上の分解補助ガスを添加することを特徴とする。 - 特許庁

The power source, obtained from a terminal TM3, is supplied as a power source for drive oscillators O1, O2, pulse width modulation circuits P1, P2 and a drive circuit D.例文帳に追加

端子ＴＭ_3から得られる電源は、発振器Ｏ１、Ｏ２、パルス幅変調回路Ｐ１、Ｐ２およびドライブ回路Ｄを駆動するための電源として供給される。 - 特許庁

A segment ring comprises four segment 1, 2, 3, 4 parted from one another at positions near points O1, O2, O3, O4 where the bending moments of tunnel cross-sectional forces become zero.例文帳に追加

トンネル断面力の曲げモーメントが０になる点Ｏ１、Ｏ２、Ｏ３、Ｏ４に近い位置で四分割した４個のセグメント１、２、３、４で１セグメントリングを構成する。 - 特許庁

When output SVO2 of an O2 sensor 18 provided in a downstream side fluctuates greatly during perturbation of air fuel ratio, it is judged that the three-way catalyst is deteriorated.例文帳に追加

下流側に設けらたＯ２センサ１８の出力ＳＶＯ２が空燃比のパータベーション中に大きく変動する場合に、三元触媒１４ａが劣化していると判定する。 - 特許庁

The Ru film, a lower electrode material to be deposited on the sidewall and the bottom of the deep hole in which the capacitive element for accumulating information is formed, is formed on the condition that the ratio of flow rate (Ru(C2H5C5H4)2/O2) of a material be 10% or higher.例文帳に追加

情報蓄積用容量素子が形成される深い孔の側壁および底部に堆積すべき下部電極材料であるＲｕ膜を、原料の気化流量比（Ｒｕ（Ｃ_2Ｈ_5Ｃ_5Ｈ_4）__2／Ｏ_2）が、１０％以上となる条件で成膜する。 - 特許庁

This device is furnished with a front A/F sensor 4 to detect an air-fuel ratio of exhaust gas flowing into a catalyst 3a, a first rear O2 sensor 5a to detect oxygen concentration of exhaust gas flowing out of the first catalyst 3a and a second rear O2 sensor 5b to detect oxygen concentration of exhaust gas flowing out of a second catalyst 3b.例文帳に追加

触媒３ａに流入する排気の空燃比を検出するフロントＡ／Ｆセンサ４と、第１の触媒３ａから流出する排気の酸素濃度を検出する第１のリアＯ２センサ５ａと、第２の触媒３ｂから流出する排気の酸素濃度を検出する第２のリアＯ２センサ５ｂとを備える。 - 特許庁

A cutter holder 39 for holding a cutter 37 to be movable relatively to the workpiece W fixed to the workpiece mounting tool 25 and rotatable around the rotation axis O2, is further provided on the workpiece mounting tool 25.例文帳に追加

ワーク取付具２５上に固定されたワークＷに対して相対移動可能にかつ回転軸線Ｏ２周りに回転可能にカッタ３７を保持するカッタホルダ３９をワーク取付具２５上にさらに設ける。 - 特許庁

An ECU 10 determines whether the O2 sensor 20 is prior to factory shipments or after factory shipments and controls the energization of the heater differently depending on whether it is prior to factory shipments or after factory shipments, on the basis of determination results.例文帳に追加

ＥＣＵ１０は、このＯ2センサ２０について工場出荷前か工場出荷後かを判定し、その判定結果に基づいて、工場出荷前と工場出荷後とで異なるヒータ通電制御を実行する。 - 特許庁

An out-of-axis photographing beam passing an out-of-axis focus detection area C set up on the outside of the axis of a photographing optical system is deflected to the optical axis O2 side of the focus detecting optical system by a condenser lens part 24b.例文帳に追加

撮影光学系の軸外に設定された軸外焦点検出領域Ｃを通過する軸外撮影光束は、コンデンサレンズ部２４ｂにより焦点検出光学系の光軸Ｏ２側へ偏向される。 - 特許庁

A bent part 131a is formed on the periphery of the plate material 131, and a projection 131b is formed to be swollen on a plane part 131c being the largest plane part and on lines O1 and O2 being almost center of the plane part 131c.例文帳に追加

板材１３１には周縁に曲げ部１３１ａが形成され一番広い面部である平面部１３１ｃに当該面部の略中心をなす直線Ｏ１，Ｏ２上に突起部１３１ｂが膨出形成されている。 - 特許庁

When the resist 3 of an upper layer has been eliminated, etching gas is changed for mixture gas of O2 gas and N2 gas, the resist 1 of a lower layer is etched, by using the SiO2 film 2 as a mask, and a pattern of an SiO2 film is transferred to the resist 1 of a lower layer.例文帳に追加

上層のレジスト３が消滅したら、エッチングガスをＯ_2 ガスとＮ_2 ガスとの混合ガスに換え、ＳｉＯ_2 膜２をマスクにして下層のレジスト１をエッチングし、ＳｉＯ_2 膜のパターンを下層のレジスト１に転写する。 - 特許庁

The assembly of the many ceramic tubes 5 is fixed by an adhesive 7 while arranged densely such that the centers O1, O2, O3, O4 of four adjacent ceramic tubes 5 become the vertexes of a square.例文帳に追加

前記多数のセラミック管５の集合体は隣接する４つのセラミック管５…の中心Ｏ１、Ｏ２、Ｏ３、Ｏ４が正方形の頂点となるように稠密配置された状態で接着剤７で固着されている。 - 特許庁

Then the flow rate of CHF3 and the flow rate of O2 are returned to those flow rates in the usual etching, and the silicon oxide film 4 is etched to form silicon oxide films 4a, 4b, 4c of hard masks.例文帳に追加

その後、ＣＨＦ_3 の流量およびＯ_2 の流量を通常のエッチングを行うときの流量に戻して、シリコン酸化膜４のエッチングを行うことにより、ハードマスクとなるシリコン酸化膜４ａ，４ｂ，４ｃを形成する。 - 特許庁

An ejection port 14 and the heating element 18 are arranged with a center O2 of the ejection port 14 being shifted in a direction towards the ejection port 14 from an ink supply port 11 with respect to a center O1 of the heating element 18.例文帳に追加

そして、吐出口１４の中心Ｏ２が、発熱素子１８の中心Ｏ１に対してインク供給口１１から吐出口１４に向かう方向にずれて吐出口１４及び発熱素子１８が配置されている。 - 特許庁

A target air-fuel ratio KCMD to feedback-control the O2 output value SVO2 is calculated such that the converted output deviation SVO2P will be zero, and the calculated target air-fuel ratio KCMD is used to control the exhaust gas air-fuel ratio A/FEX.例文帳に追加

変換された出力偏差ＳＶＯ２Ｐが０になるように、Ｏ２出力値ＳＶＯ２をフィードバック制御するための目標空燃比ＫＣＭＤを算出し、これを用いて排ガス空燃比Ａ／ＦＥＸを制御する。 - 特許庁

In the first flange 130, a receiving part 132 projecting toward the second flange 139 beyond the contact part 143 in the extending direction of the drum shaft 120 is formed so as to receive the drum shaft 120 on the opposite side of the contact part 143 across the center axis O2 of the drum shaft 120.例文帳に追加

第一フランジ１３０は、ドラム軸１２０の中心軸Ｏ２を挟んで接点部１４３の反対側でドラム軸１２０を受けるように、ドラム軸１２０の延びる方向において接点部１４３よりも第二フランジ１３９側へ突出する受け部１３２が形成されている。 - 特許庁

In conducting a film-forming process on a wafer W by introducing a film-forming gas containing SiH4 gas, O2 gas and Ar gas into a process chamber 2 while plasma is generated in the process chamber 2, SiH4 gas is fed only from a top nozzle 20, and O2 gas and Ar gas are fed from the top nozzle 20 and from a side nozzle 24.例文帳に追加

処理チャンバ２内にプラズマを発生させた状態で、ＳｉＨ_4ガスとＯ_2ガスとＡｒガスとを含む成膜ガスを処理チャンバ２内に導入し、ウェハＷの成膜処理を行う場合、まず、ＳｉＨ_4ガスをトップノズル２０のみから供給すると共に、Ｏ_2ガス及びＡｒガスをトップノズル２０及びサイドノズル２４から供給する。 - 特許庁

After the temperature of the semiconductor wafer reaches approximately 1,200°C, the wafer is fixed at the stopped position, and oxidation or diffusion process is carried out, while stopping feeding of nitrogen gas and instead, feeding oxygen gas (O2) to the semiconductor wafer.例文帳に追加

そして、半導体ウエハの温度が約１２００゜Ｃに達した後は、停止位置に固定した状態で、窒素ガスの供給を停止し、代わりに酸素ガス（Ｏ2）を半導体ウエハに供給しながら、酸化または拡散処理を行う。 - 特許庁

The upper section of the line O is composed of a curved line O1 having the parameter T as a shared inflection point and having the parameter L as an end point and of a curved line O2 having the parameter R as an end point.例文帳に追加

輪郭線Ｏの上部分は、輪郭パラメータＴを共通の変曲点として有し輪郭パラメータＬを終端点として有する曲線Ｏ１と、輪郭パラメータＲを終端点として有する曲線Ｏ２によって構成される。 - 特許庁

In the gripper 26 of a handle control section 20, the sectional profile of the grip is formed into the shape in which a couple of arcs having the curvature centers O1 and O2 and also different curvature radii R and (r) are connected with each other.例文帳に追加

本発明の手元操作部２０の把持部２６は、断面輪郭形状が、把持部２６の内側に曲率中心Ｏ1 、Ｏ2 を有する曲率半径Ｒ、ｒの異なる二つの円弧を連結した形状に形成される。 - 特許庁

The center positions in the longitudinal direction of first and second chuck tables 311, 312 represented by line segments L2, L3 are offset in the longitudinal direction with respect to the positions of the rotational axial centers O1, O2 of first and second rotating members 321a, 322a.例文帳に追加

線分Ｌ２，Ｌ３で示す第一及び第二のチャックテーブル３１１，３１２の長手方向の中心位置は、第一及び第二の回転部材３２１ａ，３２２ａの回転軸心Ｏ１，Ｏ２の位置に対し長手方向にオフセットされている。 - 特許庁

A consonant processing part 2 detects a consonant part included in the voice signal from the mixture signal I on the basis of features of the spectrum envelope of the mixture signal I, the power of a specific band, etc., and separates the mixture signal I into a consonant signal Vc and the other signal O2.例文帳に追加

子音処理部２では、混合信号Ｉのスペクトル包絡の特徴や特定帯域のパワー等に基づいて混合信号Ｉから音声信号に含まれる子音部分を検出し、混合信号Ｉを子音信号Ｖｃとその他の信号Ｏ２とに分離する。 - 特許庁

After F10 adhering to the WSi exposed region on the inner surface of the contact hole is removed, during the formation of the capacity contact hole by heating the semiconductor substrate in nitrogen by means of a lamp annealing unit, O2 gas is introduced to form an oxide film 9 on the bottom of the contact hole.例文帳に追加

半導体基板をランプアニール装置で窒素中加熱することにより、容量接続孔形成時に接続孔内壁のＷＳｉ露出領域に付着したＦ１０を除去した後、Ｏ_２ガスを導入して接続孔底部に酸化膜９を形成する。 - 特許庁

The projection portion 4L has an opposing surface formed in a circular arc shaped face centering on the rotating axis O2 to approach and face the installing section 15b of the lock claw cover 15L over the whole rotating range of the board case 10.例文帳に追加

突出部４Ｌは、基板ケース１０の回動全範囲にわたってロック爪カバー１５Ｌの取付部１５ｂに対向して接近できるように、その対向面が回動軸線Ｏ２を中心とする円弧状面をなすように形成されている。 - 特許庁

Thus, even when the board case 10 rotates around the rotating axis O2, a fraudulent deed to try to remove the lock claw cover 15L by operating the cover attaching screws 15f with a tool such as a screw driver inserting between the installing end 15b and the projection portion 4L can be prevented.例文帳に追加

基板ケース１０が回動軸線Ｏ２周りで回動しても、取付部１５ｂと突出部４Ｌとの間にねじ回し工具を差し込んでカバー取付用ビス１５ｆを操作し、ロック爪カバー１５Ｌを取り外そうとする不正行為を阻止できる。 - 特許庁

When the unmanned carrier is put in turning operation to the right along the branch guide tape 13, the turning operation of the unmanned carrier is controlled so that the center position O2 of the guide sensor 23 may meet an inner edge 13a of the branch guide tape 13 in the turning direction.例文帳に追加

無人搬送車が分岐誘導テープ１３に沿って右方向へ旋回動作される場合には、誘導センサ２３の中心位置Ｏ２を前記分岐誘導テープ１３の旋回方向の内側の端縁１３ａに一致するように無人搬送車の旋回動作を制御する。 - 特許庁

The on-chip lenses L1A and L1B are arranged by applying small scaling to the array pitch of the photodiodes 2 from the center of the light receiving surface of the solid-state image sensor 11 toward the periphery thereof, with reference to the position where the center LC of the on-chip lens overlaps the centers O1C, O2C of the corresponding openings O1, O2.例文帳に追加

さらに、オンチップレンズＬ１Ａ、Ｌ１Ｂを、そのオンチップレンズの中心ＬＣと、対応する開口部Ｏ１、Ｏ２の中心Ｏ１Ｃ、Ｏ２Ｃとが重なる位置を基準として、固体撮像素子１１の受光面の中央部から周辺部へ向って、フォトダイオード２の配列ピッチに対して微小スケーリングをかけて配列する。 - 特許庁

The sleeve 17 has a cylindrical body 17a being parallel to the first axis O1 being the center axis of the driving shaft 24 and extending along the second axis O2 eccentric from the first axis O1, and a flange 17b formed in the cylindrical body 17a.例文帳に追加

スリーブ１７は、駆動軸２４の中心軸である第１軸心Ｏ１と平行であって第１軸心Ｏ１から偏心した第２軸心Ｏ２に沿って延在する筒状体１７ａと、筒状体１７ａに形成されるフランジ１７ｂとを有している。 - 特許庁

The organic matter elimination mechanism 30 supplies a very small amount of an oxygen- family gas such as O2 and O3 gases between the substrates before the substrate W is thrown into the reaction chamber 1, and additionally supplies an nitrogen N2 gas between the substrates W for eliminating the organic matters from the substrate W.例文帳に追加

有機物除去機構３０は、基板Ｗを反応室１に投入する前に、基板Ｗ間に微量の酸素系ガス（Ｏ_2、Ｏ_3ガス等）を供給したうえで、さらに基板Ｗ間に窒素Ｎ_2ガスを供給して基板Ｗから有機物を除去する。 - 特許庁

The level shifter circuit 3 of the output driving circuit st1 outputs a voltage signal acquired by converting the voltage level of the pulse 61, and a voltage signal acquired by converting the voltage level of the pulse 71, from the output terminals O1 and O2, respectively.例文帳に追加

出力駆動回路ｓｔ１のレベルシフタ回路３は、パルス６１の電圧レベルを変換して得られる電圧信号を出力端子Ｏ１から、パルス７１の電圧レベルを変換して得られる電圧信号を出力端子Ｏ２から、それぞれ出力する。 - 特許庁

Since the shaft center O1 and the shaft center O2 are separated from each other at a distance L1 and arranged in parallel with each other, a locus of a cylinder linear 23 and a locus of the piston 3 come close to each other and separate from each other in places.例文帳に追加

軸心Ｏ１と軸心Ｏ２とは、距離Ｌ１離間すると共に平行に配設されているので、シリンダライナー２３の軌跡とピストン３の軌跡には近接した領域と離間した領域とが存在する。 - 特許庁

When a shift lever 2 is operated further from a D-position to an A1 direction, the shift lever 2 is turned again around an axis O2 of a rotating shaft 22 and changed over and held into the manual transmission mode with the effect of a holding part.例文帳に追加

シフトレバー２をＤポジションからさらにＡ１方向に操作すると、シフトレバー２は回転軸２２の軸線Ｏ２の周りに再び回動し、保持部の作用により手動変速モードに切り換え保持される。 - 特許庁

The catalyst is a metalloaluminophosphate molecular sieve having the empirical formula (ELxAlyPz)O2 (wherein SL is a metal such as silicon or magnesium; x, y, and z are the mole fractions of EL, Al, and P respectively).例文帳に追加

触媒は（ＥＬ_xＡｌ_yＰ_z）Ｏ_2の実験式で示される金属アルミノリン酸塩モレキュラーシーブであり、この式でＥＬはケイ素またはマグネシウムなどの金属であり、ｘ、ｙ、及びｚはそれぞれＥＬ、Ａｌ及びＰのモル分率である。 - 特許庁

A cut is given to the cover 12 to enable a portion corresponding to a first opening O1 of the cover 12 and a portion corresponding to a second opening O2 to be opened and closed independently, respectively.例文帳に追加

蓋体１２には切り込みが入っており、蓋体１２の第１の開口部Ｏ１に対応する部分と第２の開口部Ｏ２に対応する部分とが、各々独立に開閉可能となっている。 - 特許庁