「activation region」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To achieve a higher activation rate in an ion-implanted region of a silicon carbide semiconductor device.例文帳に追加

炭化珪素半導体装置のイオン注入領域において更なる高活性率化を図る。 - 特許庁

The average value of the wiring width of the activation analysis region is calculated as AEI_A(x).例文帳に追加

活性上解析領域の配線幅の平均値をＡＥＩ＿Ａ（ｘ）として計算する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device without a small concentration of electric field at a corner portion 6 of an activation region 2.例文帳に追加

活性化領域２のコーナー部分６への電界集中が少ない半導体装置を提供する。 - 特許庁

Then, the activation heat treatment of impurities is made to form a diffusion layer region.例文帳に追加

そして、不純物の活性化熱処理を行い、拡散層領域を形成する。 - 特許庁

As described above, since activation annealing is performed by use of the radiant heat, it is possible to reduce a difference in temperatures between an end of an activation region and an element isolation region, similarly to the case of using a diffusion furnace.例文帳に追加

このように、輻射熱を用いて活性化アニールが行われるため、活性領域端と素子分離領域との温度差は、拡散炉を用いた場合と同様に小さくすることができる。 - 特許庁

The composite material further has an activation region in which the composite material is half-elastically expansible by stretching, and a non-activation region in which the composite material is rigid.例文帳に追加

複合材料は、更に、延伸によって、複合材料が半弾性的に伸長可能である活性化領域と、複合材料が剛性である非活性化領域とを有する。 - 特許庁

On the region not to be the activation region, a silicon oxide film 15A thicker than the silicon oxide film 15B is formed.例文帳に追加

一方、活性化領域とならない領域にはシリコン酸化膜１５Ｂよりも厚いシリコン酸化膜１５Ａが形成される。 - 特許庁

Since the activation of the impurity region is made by the above method, the impurity region can be activated without losing crystallizability.例文帳に追加

不純物領域の活性化を上記の方法で行うことにより結晶性を損なうことなく活性化することができる。 - 特許庁

With this activation of the movement within the region of students as a jump-start, it is expected that the movement of people within the region will spread to high-quality human resources (see Figure 2-1-31).例文帳に追加

こうした留学生の域内移動の活発化を契機として、高度人材等へ域内の「ヒト」の移動が広がることが期待される（第2-1-31図）。 - 経済産業省

(b) Upon contact with an anti-estrogen substance which inhibits the function of the transcriptional activation region AF2 of the wild type estrogen receptorα but not inhibiting the function of the transcriptional activation region AF1 thereof, being capable of activating the transcription of a gene under the transcriptional regulation by the transcriptional regulation region containing an estrogen response sequence.例文帳に追加

（ｂ）野生型ERαの転写活性化領域AF2の機能を抑制するが転写活性化領域AF1の機能は抑制しないタイプの抗E物質と接触すると、E応答配列を含む転写制御領域の転写制御下にある遺伝子の転写を活性化する。 - 特許庁

To suppress extension of dislocation generated in activation thermal treatment at a high concentration impurity region by lowering stress generated around pattern edge without performing activation thermal treatment at high temperature for long hours.例文帳に追加

高温で長時間の活性化熱処理を行うことなく、パターンエッジ部周辺に発生する応力を軽減することにより高濃度不純物領域の活性化熱処理で発生する転位の拡張を抑制する。 - 特許庁

On the other hand, in the operating region in which the catalyst 12 temperature is over the activation level, the control device 25 executes the injection of the fuel appropriately.例文帳に追加

一方、電子制御装置２５は、触媒１２の温度が上記活性化温度以上になる運転領域にあっても、燃料の噴射を適宜実行する。 - 特許庁

Also, in the inactive region 21, an electrical activation rate X or injected ions is 1%≤X≤30%.例文帳に追加

また、不活性領域２１において、注入されたイオンの電気的な活性化率Ｘは１％≦Ｘ≦３０％である。 - 特許庁

By making the catalyst in the approximately saturated state by previous adsorption of oxygen, activation of purification is improved in the low temperature region during starting or the like.例文帳に追加

触媒に予め酸素を吸蔵させて略飽和状態としておくことで、始動時などの低温域における浄化活性が向上する。 - 特許庁

To provide a drive control device for enabling selective activation in a region, in which the efficiency of the first and second source of power are high.例文帳に追加

第１動力源および第２動力源が効率の高い領域で選択的に作動させられる車両用駆動制御装置を提供する。 - 特許庁

To treat gas collected in a temperature region less than a catalyst activation temperature inside a furnace in a continuous kiln used in a burning process in manufacturing a plasma display panel.例文帳に追加

触媒の活性化温度未満の温度領域で捕集した脱バインダーガスを炉内で処理する。 - 特許庁

This activated powder is obtained by activation of wollastonite and, in 29Si-NMR measurement, has peaks in the region at or exceeding -88.0 ppm.例文帳に追加

ウォラストナイトを活性化してなり、^29Ｓｉ−ＮＭＲ測定において、−８８．０ｐｐｍ以上にピークを有する活性粉体。 - 特許庁

To provide a heat treatment method capable of performing activation of junction in a deep region without causing warpage or cracking of a substrate.例文帳に追加

基板に反りや割れを生じさせることなく深い接合の活性化を行うことができる熱処理方法を提供する。 - 特許庁

A wiring width profile is acquired from image data to be measured, and the dimensions of a lower layer, such as, the width and pitch of the activation region are acquired from a design database; and an activation analysis region is set with the width and pitch acqired, and the position from an end of the image is denoted as (x).例文帳に追加

測定対象の画像データから、配線幅プロファイルを取得し、設計データベースから活性化領域の幅やピッチなどの下層レイヤの寸法を取得し、活性上解析領域を幅、およびピッチで設定し、画像の端からの位置をｘとする。 - 特許庁

When activation annealing is performed to a source region 14 and a drain region 15 of a polysilicon layer 11, the amount of hydrogen can be reduced in diffusing from the second gate insulating film 17 to a channel region 13 of the polysilicon layer 11.例文帳に追加

ポリシリコン層11のソース領域14およびドレイン領域15の活性化アニールの際に、第２ゲート絶縁膜17からポリシリコン層11のチャネル領域13へと拡散する水素量を低減できる。 - 特許庁

In the process for producing the electrode material of an electric double-layer capacitor by performing alkali activation of a mixture of a carbonaceous material and an alkali compound, the temperature region in a system for performing alkali activation is 600°C-900°C, and the inside of the system for performing alkali activation is under inert atmosphere having a pressure of 0.11 MPa or higher.例文帳に追加

炭素質物質とアルカリ化合物を含む混合物をアルカリ賦活してなる電気二重層キャパシタ用電極材の製造方法において、アルカリ賦活を実施する系内の温度域が６００℃から９００℃であり、アルカリ賦活を実施する系内が圧力０．１１ＭＰａ以上の不活性雰囲気下である電気二重層キャパシタ用電極材の製造方法。 - 特許庁

The activation of an impurity region in a semiconductor substrate is carried out by means of emission of an electromagnetic wave whose principal spectrum peak exists in a wavelength region of 1.1 μm or shorter.例文帳に追加

半導体基板中の不純物領域の活性化を波長１．１μｍ以下の領域に主たるスペクトラムのピークをもつ電磁波の照射で行うようにした。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device excellent in productivity capable of efficiently performing the activation of a dopant and the reduction of contact resistance in a source region and a drain region.例文帳に追加

ソース領域及びドレイン領域における不純物の活性化及びコンタクト抵抗の低減を効率良く行うことができる、生産性に優れた半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the trench 14, thin silicon oxide films 15B are formed in a region to be a transistor activation region on the N-type semiconductor layer 12.例文帳に追加

トレンチ１４において、Ｎ−型半導体層１２のうちトランジスタの活性化領域となる領域には薄いシリコン酸化膜１５Ｂが形成される。 - 特許庁

Heat treatment for activation is performed under a state where the n^-type epitaxial layer 2, the source region 4 and the drain region 5 are covered with the silicon oxide film 6.例文帳に追加

そして、シリコン酸化膜６によってｎ^-型エピ層２、ソース領域４及びドレイン領域５を覆った状態で活性化のための熱処理を行う。 - 特許庁

A heat treatment used for forming the base region 9 can be also used as heat treatment for activation of impurities to form a high resistance region from the polycrystalline silicon film 3.例文帳に追加

このため、ベース領域９形成のための熱処理工程を、多結晶Ｓｉ膜３により高抵抗部を形成するための不純物活性化のための熱処理にも使うことができる。 - 特許庁

A segment where a gate wiring pattern and an activation region overlap on each other is extracted as a gate pattern from the input mask design data 601 in a gate region extraction section 603.例文帳に追加

入力されたマスク設計データ６０１からゲート配線パタンと活性化領域とが重なり合う部分をゲート領域抽出部６０３でゲートパタンとして抽出する。 - 特許庁

The device of controlling speed of the elevator is activated by a three-phase modulation control of the inverter, and is switched from the three-phase modulation control to a two-phase modulation control at a first predetermined speed of ≤30 [m/min] which is an increasing acceleration region (jerk region) immediately after activation.例文帳に追加

インバータの三相変調制御により起動し、起動直後の加加速領域（ジャーク領域）である３０［ｍ／ｍｉｎ］以下の第一の所定速度で、三相変調制御から二相変調制御に切り替える。 - 特許庁

Then, a B.B activation flag is set for a specified region of a RAM 25 (step 132) and the possible frequency of playing in the R.B mode during the B.B game is set for the specified region of the RAM 25 (step 133).例文帳に追加

次に、Ｂ・Ｂ作動中フラグをＲＡＭ２５の所定領域にセットし（ステップ１３２）、Ｂ・Ｂゲーム中のＲ・Ｂゲーム遊技可能回数をＲＡＭ２５の所定領域にセットする（ステップ１３３）。 - 特許庁

The p/n-inversion region caused by thermal donor generation is formed at a depth position not contacting the device activation region and the depletion region to be formed so as to contact therewith when heat treatment at 450°C for one hour is applied, and the depth position exceeds 8 μm from the surface.例文帳に追加

前記サーマルドナー発生に起因するｐ／ｎ反転部は、４５０℃にて１時間加熱する処理を行った場合に、デバイス活性領域およびそれに接して形成される空乏層領域には接しない深さ位置に形成され、そして、その深さ位置は、表面から８μｍを超えるものである。 - 特許庁

It follows that through an assisted activation of electron beam, without a special focusing mask, the high electric field region (figure not illustrated) is selectively formed in a gap insulating layer region 4 formed at the notch portion and it becomes possible that the electron is emitted solely from the formed high electric field region.例文帳に追加

この結果、電子線アシスト活性化により、特別な絞りマスクを用いずとも切り欠き部に形成されたギャップ絶縁層領域４の中に高電界領域（図不図示）を選択に形成し、形成されたこの高電界領域からのみ電子を放出させることが可能となった。 - 特許庁

The extracellular RTK antagonist is a biological molecule or a small molecule that inhibits activation of the receptor tyrosine kinase by interacting with the extracellular binding region of the receptor.例文帳に追加

細胞外ＲＴＫアンタゴニストは、受容体の細胞外結合領域と相互作用することにより受容体チロシンキナーゼの活性化を抑制する生物学的分子または小分子である。 - 特許庁

To actualize a reduction of HC due to early activation of a catalyst and after-burn by greatly delaying an ignition timing while avoiding the instability of combustion in a high speed region.例文帳に追加

点火時期の大幅な遅角によって、触媒の早期活性化と後燃えによるＨＣ低減を実現するとともに、高速域での燃焼の不安定化を回避する。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing method which enables ion implantation of dopant to a deep region to result in activation without increasing a heat load and without using a high-energy ion implantation device.例文帳に追加

半導体の製造に際し、熱負荷を増大させることなく、また、高エネルギーのイオン注入機を必要とすることなく深い領域までドーパントを注入して活性化することを可能にする。 - 特許庁

To shorten the starting time of a reformer by heating a catalyst to an activation temperature region in a short time without decreasing the durability of the catalyst inside a carbon monoxide shift reaction part.例文帳に追加

一酸化炭素シフト反応部内の触媒の耐久性を低下させることなく同触媒を短時間にて活性温度域まで加熱して、改質装置の起動時間を短縮する。 - 特許庁

This plasma generating means 32 is provided to the furnace flange 4 near the gas supplying pipe 7 to supply the gas which requires activation with plasma and forms a plasma generating region 26 within the furnace flange.例文帳に追加

このプラズマ生成手段３２は、プラズマによる活性化を必要とするガスを供給するガス供給管７の近傍の炉口フランジ４に設け、炉口フランジ内にプラズマ生成領域２６を形成する。 - 特許庁

The gate electrodes 24a and 24b are formed after activation annealing (heat treatment) for activating impurities introduced into source region and drain regions.例文帳に追加

また、ゲート電極２４ａ、２４ｂは、ソース領域およびドレイン領域に導入された不純物を活性化する活性化アニール（熱処理）をした後に形成される。 - 特許庁

To obtain sufficient energy necessary for activating an impurities injection region of a semiconductor film formed on a glass substrate even if a laser beam for the activation is applied from the bottom side of the substrate.例文帳に追加

ガラス基板上に形成された半導体薄膜の不純物注入領域を活性化のためのレーザビームをガラス基板の下面側から照射しても、活性化に必要なエネルギーを十分に得ることができるようにする。 - 特許庁

To enable the sufficient diffusion of impurities in a gate electrode and the sufficient activation of impurities in a diffusion region while inhibiting the damage of an Si substrate due to a stress applied to the Si substrate by a heat treatment.例文帳に追加

熱処理によりＳｉ基板にかかるストレスによるＳｉ基板の損傷を抑えつつ、ゲート電極の不純物の十分な拡散、拡散領域の不純物の十分な活性化ができるようにする。 - 特許庁

In succession, while a photoresist 8 and the film 107 are used as a mask, p-type dopant ions are ion-implanted, activation annealing operation is then executed, and a p-type diffused region 12 is formed in the lower part of the trench 9.例文帳に追加

引き続き、フォトレジスト８，第１の層間絶縁膜１０７をマスクにして、ｐ型ドーパントイオンをイオン注入した後、活性化アニールを施すことで、トレンチ９の下方にｐ型不純物拡散領域１２を形成する。 - 特許庁

To obtain an equipment neutron activation analysis method for accurately obtaining measurement result even at a micro region while excluding contamination factors originating, especially from, environment and an analysis instrument.例文帳に追加

特に環境や分析用器具由来のコンタミネーション要因を排除しながら微量域でも正確な測定結果の求まる機器中性子放射化分析法を得る。 - 特許庁

To provide a method and/or a procedure for nondestructively determining the degree of activation and active doping profile of a partially activated doped semiconductor region.例文帳に追加

部分的に活性化されたドープ半導体領域の活性化の程度および活性ドーピングプロファイルを非破壊的手法で決定するための方法及び／又は手順を提供する。 - 特許庁

To stably manufacture a semiconductor device by measuring the size of a gate electrode on the activation region of a circuit pattern or a QC pattern, with high accuracy in a size inspection stage.例文帳に追加

寸法検査工程において、回路パターンまたはＱＣパターンの活性化領域上のゲート電極寸法を高精度に計測し、半導体装置を安定して製造する。 - 特許庁

The third activation treatment is carried out under the condition that the impurity concentration distribution gradient of the P-N junction be steeper than that of the first impurity diffusion region.例文帳に追加

そのｐｎ接合部における不純物濃度分布勾配が、第１の不純物拡散領域よりも急峻になる条件で第３の活性化処理を行う。 - 特許庁

To prevent deterioration in an engine activation and instability of idling by adjusting an engine valve to a specific intermediate valve lift region during malfunction due to failure of an electric actuator.例文帳に追加

電動アクチュエータの故障による作動不良時には、機関弁を所定の中間バルブリフト領域に制御して、機関始動性の悪化とアイドル回転の不安定化などを防止する。 - 特許庁