「active alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Similarly, an insulating layer under a pixel electrode on an active matrix substrate is removed to form a groove, the pixel electrode is formed so as to cover the groove and the groove is made the alignment means instead of a slit.例文帳に追加

同様にアクティブ基板上の絵素電極下の絶縁層を除去して溝を形成し、この溝を覆うように絵素電極を形成してスリットに代えて溝を配向手段とする。 - 特許庁

An alignment film 43 is formed on the active matrix substrate 20 having a TFT 14 in each pixel, and an insulating film 44 having dispersion of conductive fine particles is formed on the counter posed substrate 40.例文帳に追加

画素毎にＴＦＴ１４を備えたアクティブマトリクス基板２０には配向膜４３を形成し、対向基板４０には、導電性微粒子を分散させた絶縁膜４４を形成する。 - 特許庁

To provide a means for evaluating the crystallinity of a crystalline semiconductor film, which forms an active area of a TFT after the formation thereof and further, provide a TFT using the crystalline semiconductor film, by enhancing the alignment property of the film which is obtained by crystallization of an amorphous semiconductor film.例文帳に追加

ＴＦＴ形成後にその活性領域を形成する結晶質半導体膜の結晶性を評価する手段を提供することを第一の目的とする。 - 特許庁

A rotary machine such as a gas turbine 10 includes an active rotor alignment clearance control system of separately arranging a plurality of actuators 30 around one or more of rotor shaft bearings 50.例文帳に追加

ガスタービン１０などの回転機械が、複数のアクチュエータ３０が１つ以上のロータシャフトベアリング５０の周囲に離隔して配置された、能動的ロータアライメントクリアランス制御システムを含む。 - 特許庁

An alignment mark M for performing pattern formation by irradiating electron beam is formed so as not to penetrate an active Si layer 53 to prevent charge-up in a box layer 52.例文帳に追加

電子線照射によるパターン形成を行うためのアライメントマークＭは、活性Ｓｉ層５３を貫通することのないように形成し、ボックス層５２におけるチャージアップを防ぐようにした。 - 特許庁

The IPS type active matrix liquid crystal display device 1 has pixel electrodes each composed of a 1st comb-type electrode 6 and a 2nd comb-type electrode 7 having different alignment angles.例文帳に追加

ＩＰＳ方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置１において、画素電極を配向角度の異なる第１の櫛歯状電極６および第２の櫛歯状電極７から構成する。 - 特許庁

Between the active matrix substrate 100a and the counter substrate 100b, the counter substrate 100b having an alignment regulating structure 21 has a dielectric structure 30 made of the same dielectric material as the alignment regulating structure 21, between a signal line 18 and a counter electrode 12.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板１００ａおよび対向基板１００ｂのうち、配向規制構造体２１を有する対向基板１００ｂは、配向規制構造体２１と同一の誘電体材料から形成された誘電体構造体３０を信号配線１８と対向電極１２との間に有する。 - 特許庁

In the liquid crystal device, an interlayer insulation layer 191 on the lower layer side of an active matrix substrate AM and a protective film 45 equivalent to a substrate for an alignment layer 46 and a protective film equivalent to a substrate for an alignment layer of a counter substrate OP are all insulation layers formed with a polysilazane coated film.例文帳に追加

液晶装置１において、アクティブマトリクス基板ＡＭの下層側層間絶縁膜１９１、および配向膜４６の下地に相当する保護膜４５と、対向基板ＯＰの配向膜４７の下地に相当する保護膜４４は、いずれもポリシラザン塗布膜から形成した絶縁膜である。 - 特許庁

In an optoelectronic assembly 10 in which one or more beam paths 24 are to be aligned with a corresponding number of active optical elements, the cooperation between flexible alignment features 38 and fixed alignment features 36 achieves elastic averaging so as to provide the target accuracy.例文帳に追加

１つまたは複数のビーム路２４が、これと対応する数の能動光学素子とアライメントされる光電子アセンブリ１０において、柔軟なアライメント形状３８と固定したアライメント形状３６との間の協働により目標精度を提供するように、弾性平均が達成される。 - 特許庁

The reflective liquid crystal display device has: an active matrix substrate 61 having pixel switches mounted thereon; a substrate 62 opposite thereto; and a vertical alignment liquid crystal layer 39 interposed between both substrates 61, 62.例文帳に追加

反射型液晶表示装置は、画素スイッチが配置されるアクティブマトリクス基板６１と、その対向基板６２と、両基板６１、６２の間に挟持される垂直配向型の液晶層３９とを有する。 - 特許庁

A glass substrate 101 being an active matrix substrate and a resin film substrate 102 being a counter electrode are opposingly arranged on a surface of an alignment controlling layer 132, and a liquid crystal layer 110A is arranged therebetween.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板であるガラス基板１０１と対向電極である樹脂フィルム基板１０２が、配向制御膜１３２の面で対向配置され、これらの間に液液晶層１１０Ａが配置される。 - 特許庁

The lens array is directly formed on the substrate so that a light source array 12 is very easily positioned to the lens array by alignment keys 23 when the optical active component is connected to the substrate.例文帳に追加

光学作動部品が基板に接続されるときに、光源アレイ２２がアライメントキー２３によって非常に容易にレンズアレイに位置合わせされるように、レンズアレイは、直接に基板に形成される。 - 特許庁

To provide a vertical alignment active matrix liquid crystal display element with which a picture with excellent quality is displayed by regularly fall-aligning liquid crystal molecules in each pixel with application of a voltage.例文帳に追加

各画素の液晶分子を電圧の印加により規則的に倒れ配向させ、良好な品質の画像を表示することができる垂直配向型のアクティブマトリックス液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

The electrode substrate for a liquid crystal display device includes an electrode disposed so as to correspond to an active area 6 on an insulating substrate, an alignment layer disposed covering at least the electrode, and a projection P disposed outside the active area on the insulating substrate, wherein the projection P is disposed so as to cross a conveyance direction T where the electrode substrate is conveyed in rubbing the alignment layer.例文帳に追加

絶縁基板上のアクティブエリア６に対応して配置された電極と、少なくとも電極を覆うように配置された配向膜と、絶縁基板上のアクティブエリア外に配置された突起Ｐと、を備えた液晶表示装置用の電極基板であって、突起Ｐは、配向膜をラビング処理する際に電極基板を搬送する搬送方向Ｔに交差するように配置されたことを特徴とする。 - 特許庁

The active matrix type liquid crystal device having a plurality of rectangular pixels 5 arranged in a matrix has a pair of substrates disposed opposing to each other, a liquid crystal disposed between the pair of substrates and capable of showing both of splay alignment and bend alignment, and a gate line 3a formed on one of the substrates.例文帳に追加

マトリクス状に配列された複数の矩形の画素５を有するアクティブマトリクス型の液晶装置は、対向して配置された一対の基板と、一対の基板の間に配置された、スプレイ配向又はベンド配向のいずれの配向状態をも取りうる液晶と、一方の基板上に形成されたゲート線３ａと、を備える。 - 特許庁

As regards a ferroelectric liquid crystal display device A, in a lower substrate 20 pixel electrodes 12 and active elements 10 are formed on a transparent substrate 14 and an alignment layer 8 is laminated thereon, and in an upper substrate 19 a common electrode 4 and an alignment layer 6 are successively laminated on a transparent substrate 2.例文帳に追加

強誘電性液晶表示装置Ａによれば、下基板２０においては透明基板１４上に画素電極１２とアクティブ素子１０とを形成し、これらの上に配向膜８を積層し、さらに上基板１９においては、透明基板２上に共通電極４と配向膜６とを順次積層する。 - 特許庁

A pattern formed on an active matrix substrate having pixel parts, which is one of a pair of substrates arranged opposite to each other, is formed as a first marker for alignment, and an opening part on a light-shielding film formed on a counter substrate, which is the other one of the pair of substrates, is formed as a second marker for alignment.例文帳に追加

対向して配置された一対の基板の一方であり、画素部を有するアクティブマトリクス基板上に形成されたパターンを位置合わせのための第１のマーカーとして形成し、一対の基板の他方である対向基板上に形成された遮光膜の開口部が位置合わせのための第２のマーカーとして形成されている。 - 特許庁

A liquid crystal panel 1 comprises an active matrix substrate 3 and a counter substrate 4, both provided with alignment layers 46, 49 treated with homogeneous alignment, placed opposite to each other with a specified gap d, and a liquid crystal 39 enclosed between these substrates, and is constructed with a reflective electrically controlled birefringence (ECD) mode.例文帳に追加

液晶パネル１は、いずれも平行配向処理が施された配向膜４６、４９を備えるアクティブマトリクス基板３および対向基板４が所定の間隔ｄを隔てて対向するとともに、これらの基板間に液晶３９が封入されて反射型の電界制御複屈折モード（ＥＣＤ／Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ ＣｏｎｔｒｏｌｌｅｄＢｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ ｍｏｄｅ）に構成されている。 - 特許庁

Then, a pattern forming process is carried out for the transparent conductive layer, a source and a drain are formed, an active layer is formed in such a manner that the source, the drain, and the dielectric layer are covered, and a self-alignment TFT structure is completed.例文帳に追加

次に、該透明導電層にパターン形成プロセスを実行して、ソースとドレインとを形成し、ソース、ドレイン、及び誘電体層を覆うようアクティブ層を形成して、自己整合ＴＦＴ構造体が完成する。 - 特許庁

The liquid crystal panel 1 is constituted to be of reflective electric field control double refraction mode (ECD mode) wherein a liquid crystal is homogeneously arrayed between an active matrix substrate and a counter substrate respectively applied with parallel alignment.例文帳に追加

液晶パネル１は、いずれも平行配向処理が施されたアクティブマトリクス基板および対向基板の間で液晶がホモジニアス配列した反射型の電界制御複屈折モード（ＥＣＤモード）に構成されている。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor array in which alignment is easy and a sealing layer of a high yield is included in formation of the sealing layer on a semiconductor layer, and to provide its manufacturing method and an active matrix display.例文帳に追加

半導体層上の封止層形成において、アライメントが容易かつ歩留まりの高い封止層を有する薄膜トランジスタアレイおよびその製造方法、ならびにアクティブマトリスクディスプレイを提供することにある。 - 特許庁

In an active matrix type liquid crystal panel (P) as shown in figure, a picture display is performed by arranging an alignment control layer at least at the part of a pixel and by applying a reset voltage and a writing voltage to the control layer.例文帳に追加

図に示すようなアクティブマトリクス型の液晶パネルＰにおいて、少なくとも画素の部分に配向制御層を配置し、リセット電圧の印加及び書き込み電圧の印加によって画像表示を行う。 - 特許庁

To provide an active matrix type liquid crystal display device having a structure with uniform and excellent alignment and being formed a planarizing film in a display area, for realizing a large storage capacitance with a small area and achieving a high aperture ratio.例文帳に追加

表示領域に平坦化膜が形成された配向が均一で良好な構造で、蓄積容量を小面積で大きく確保し、高開口率化できるアクティブマトリクス型液晶表示装置の提供。 - 特許庁

Silanol groups photochemically reacting with liquid crystal molecules 50a are reduced by making a silane compound react with OH parts existing on the surface of the alignment layer 16 of the silanol groups to be reaction active sites.例文帳に追加

反応活性サイトとなるシラノール基のうち配向膜１６の表面に存在するＯＨ部分にシラン化合物を反応させておくことによって、液晶分子５０ａと光化学反応するシラノール基を低減する。 - 特許庁

To carry out welding to connect an optical active element such as a light emitting element and a light receiving element to an optical fiber while increasing the welding strength of an optical element module and keeping positional accuracy after alignment.例文帳に追加

発光素子や受光素子のような光能動素子と光ファイバを接続するために、光素子モジュールの溶接強度を増すと共に、調芯後の位置精度を保ちながら溶接することを目的とする。 - 特許庁

The liquid crystal device is suitably constructed as the so-called vertical alignment mode liquid crystal device and has the active elements such as TFDs, transparent electrodes with a polygonal or nearly circular two-dimensional shape and constructing a part of the pixel electrodes and wires to connect the active elements and the transparent electrodes formed on the element substrate side.例文帳に追加

いわゆる垂直配向方式の液晶装置として好適に構成され、素子基板側にＴＦＤなどのアクティブ素子と、平面形状が多角形又は略円形であり画素電極の一部を構成する透明電極と、アクティブ素子と透明電極とを接続する配線とが形成されている。 - 特許庁

To reduce the number of alignment mark processing step during the formation of an active layer of a silicon film in a crystalline state, which is necessary for various circuits, on an insulating substrate that constitutes a flat display device, and thereby to achieve a high throughput and a low cost.例文帳に追加

平面表示装置を構成する絶縁基板上に、各種の回路に必要な性能の結晶状態のシリコン膜を能動層形成時のアライメントマーク加工工程を削減して、高スループット、低コスト化を実現する。 - 特許庁

To provide a self alignment method wherein a semiconductor memory array of floating gate memory cells is formed on a semiconductor substrate which has a plurality of insulting regions which are arranged being isolated and has active regions which are arranged on the substrate in parallel practically with each other in a row direction.例文帳に追加

隔置された複数の絶縁区域及び基板上に設けられる行方向で実質的に互いに平行な能動区域を有する、半導体基板に浮動ゲートメモリセルの半導体メモリアレイを形成する自己整列方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which a contact hole can be opened in a self-alignment manner and the problem of an electric leakage between an active region and a well can be solved in a CMOS (complementary metal oxide semiconductor) transistor device with a dual gate electrode.例文帳に追加

デュアルゲート電極を備えるＣＭＯＳトランジスタ装置において、自己整合的にコンタクトホールの開口を可能とし、活性領域とウェルとの間の電気的リークの問題を解消できるような、半導体装置を提供する。 - 特許庁

A thickness of the first index matching layer 70 in an area corresponding to the first alignment mark 81 provided in the inactive area Aa2 is different from a thickness of the first index matching layer 70 in the active area Aa1.例文帳に追加

ここで、非アクティブエリアＡａ２内に設けられた第１アライメントマーク８１に対応する領域における第１インデックスマッチング層７０の厚みは、アクティブエリアＡａ１における第１インデックスマッチング層７０の厚みと異なっている。 - 特許庁

To obtain a structure wherein a hollow portion is formed between a translucent member and an active element on a semiconductor substrate, without applying heavy load and conducting a pattern alignment at the jointing of the translucent member and the semiconductor substrate.例文帳に追加

光透過性部材と半導体基板上の能動素子との間に中空部分を形成する構造を得るために、光透過性部材と半導体基板との接合時に、高荷重を掛けること及びパターン合わせを不要にする。 - 特許庁

To provide an active matrix substrate wherein photolithographic alignment of a terminal pad in a terminal disposing direction can be largely secured and the breakage of an insulating film due to deflection of an insulation substrate generated when a driver for driving a liquid crystal is mounted is suppressed.例文帳に追加

端子配設方向に対する端子パッドのフォトアライメントを大きくとることができ、また、液晶駆動用のドライバを実装する際の絶縁性基板のたわみによる絶縁膜の割れが抑止されるアクティブマトリクス基板を提供する。 - 特許庁

The alignment state of liquid crystal is made to be switched electrically by arranging not only the electrodes 3 in the active area 14 arranged in an ordinary liquid crystal display panel but also dummy electrodes 3a for refresh in the outside of the area 14.例文帳に追加

通常の液晶表示パネルで配置されているアクティブエリア１４内の電極３だけでなく、該エリア１４外にもリフレッシュ用ダミー電極３ａを配置して、電気的に液晶の配向状態を切り換えられるようにする。 - 特許庁

When coupling a coated optical fiber (11) to a waveguide type optical element (12), a position of a connection interface (12A) is firstly determined by the active alignment as an aligned position when a maximum optical output (I_0) can be obtained from the wavguide type optical element (12).例文帳に追加

光ファイバ（１１）と導波路型光素子（１２）との結合時、まずアクティブアライメントにより、導波路型光素子（１２）から最大の光出力（Ｉ_０）が得られるときの接続面（１２Ａ）の位置を調心位置として決める。 - 特許庁

To provide a transflective multi gap system liquid crystal display apparatus of an active matrix type wherein alignment disorder of a liquid crystal due to an electric field caused by a switching element or the like can be effectively suppressed and high quality display free from coloring can be obtained.例文帳に追加

半透過反射型マルチギャップ方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置において、スイッチング素子等に起因する電界による液晶の配向乱れを効果的に抑制でき、かつ色付きのない高画質表示が得られる構成を提供する。 - 特許庁

To reduce the variation of auxiliary capacitance when mis-alignment occurs between an auxiliary capacitance electrode and a pixel electrode in an active matrix type liquid crystal display panel wherein an anode oxide film is formed on a part of the.surface of the auxiliary capacitance electrode.例文帳に追加

補助容量電極の一部の表面に陽極酸化膜が形成されたアクティブマトリクス型液晶表示パネルにおいて、補助容量電極と画素電極との間にアライメントずれが生じた場合の補助容量の変化を低減する。 - 特許庁

To reduce or eliminate an image defect such as light absence and a black stain due to a deficiency in alignment control power as to an active matrix substrate used for a liquid crystal display device whose pixel electrode such of an IPS(in-plain switching) type, etc., has a wiring structure.例文帳に追加

IPS（イン・プレイン・スイッチング）タイプ等の画素電極が配線構造を持つ液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板において、配向規制力不足に起因する光ヌケおよび黒シミの画像不良を低減するかまたはなくす。 - 特許庁

To enhance positional accuracy using a simple structure, without conducting active alignment, in an optical connecting device for joining an optical waveguide with an optical fiber, and to enable a fiber block holding the tip end of the optical fiber to be easily attached to and detached from a guide.例文帳に追加

光導波路と光ファイバを接続する光接続装置において、簡単な構成でアクティブ調芯することなく位置精度を高いものとし、光ファイバの先端部を保持したファイバブロックをガイドに容易に抜き差しできるようにすること。 - 特許庁

Since the defect is corrected in the state of the active matrix substrate before lamination with counter substrate, no influence is added to the refractive index or transmittance of a glass substrate or a color filter forming part or on the alignment of a liquid crystal, or defective products are not sent to the succeeding processes.例文帳に追加

対向基板との貼り合わせ前のアクティブマトリクス基板の状態で欠陥修正を行うので、ガラス基板やカラーフィルタ形成部の屈折率や透過率の影響、液晶配向への影響等がなく、後工程に不良品が流れない。 - 特許庁

To resolve the difficulty of the alignment for bonding the active layer of a GaN-based semiconductor laser element to the side of its heat sink, although a light intercepting electrode for reducing its amplified spontaneous emission light is required to be formed on its transparent insulating substrate.例文帳に追加

透明で絶縁性基板を用いたＧａＮ系半導体レーザでは、自然放出光を減少させるために基板に遮光電極を設ける必要があるが、活性層をヒートシンク側に接着するための位置合わせが困難になる。 - 特許庁

An LED using a group III nitride light emitting active region deposited on a base layer on a substratum exhibits improved optical characteristics regarding the base layer which has a thickness greater than 3.5 μm and grown on the substratum in which alignment is shifted intentionally.例文帳に追加

基層上のベース層に堆積させたIII族窒化物発光活性領域を用いたＬＥＤは、３.５μｍより大きい厚さを有する、意図的に位置合わせをずらした基層の上に成長させたベース層について向上した光学的特性を示す。 - 特許庁

The number of manufacturing processes for the alignment marks for aligning the photo resist pattern for forming the active region of the high voltage semiconductor device is reduced, and failure generated when an element separating film is subsequently formed is removed in advance, so that the manufacturing processes are made easier.例文帳に追加

高電圧半導体装置の活性領域を形成するためのフォトレジストパターンをアラインするためのアラインメントマークの製造工程の数を減少させ、後続に素子分離膜を形成するときに発生する不良を事前に除去して製造工程が容易である。 - 特許庁

As a result, since a margin with respect to the alignment deviation of the electrode 8 and the electrode 16 becomes large, the pitch of the electrode 8 can be made small even in an active matrix type liquid crystal display device using a plastic substrate and pixel electrodes can be made high in definition.例文帳に追加

このため、画素電極８及び接続電極１６のアライメントずれに対するマージンが大きく、プラスチック基板を用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置においても、画素電極のピッチを小さくすることができ、高精細化を図ることができる。 - 特許庁

The silane compound is made to react with a hydroxyl group (-OH group) existing on the surface of the alignment layer 16 of the silanol groups to be reaction active sites to form a reaction layer 31 and the silanol groups photochemically reacting with the liquid crystal molecules 50a are reduced.例文帳に追加

反応活性サイトとなるシラノール基のうち配向膜１６の表面に存在する水酸基（−ＯＨ基）にシラン化合物を反応させておくことによって反応層３１を形成し、液晶分子５０ａと光化学反応するシラノール基を低減する。 - 特許庁

A reset voltage for aligning the liquid crystal molecules to rise almost vertical to the substrate surface is applied across electrodes of homogeneous alignment type active matrix liquid crystal display elements, and the a write voltage according to write data is applied across the electrodes.例文帳に追加

ホモジニアス配向型のアクティブマトリックス液晶表示素子の電極間に、前記液晶分子を前記基板面に対して略垂直に立上り配向させるリセット電圧を印加し、その後、前記電極間に書込みデータに応じた書込み電圧を印加する。 - 特許庁