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atmospheric gasesの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 37



例文

Thus, obtained low dew point fluoric raw material gases are passed through a plasma space 26 near an atmospheric pressure.例文帳に追加

こうして得られた低露点フッ素系原料ガスを大気圧近傍のプラズマ空間26に通す。 - 特許庁

The exhaust gases after purification are cooled at a cooling tower 30 and released to the atmospheric air.例文帳に追加

浄化後の排ガスは冷却塔30で冷却された後に大気中に放出される。 - 特許庁

To provide environment safe to human and objects by adsorbing and removing various pollutant gases such as fumigation gas remaining after fumigation treatment, volatile organic compounds (VOC), or atmospheric pollutant gases, safety controlling after fumigation of a refrigerator, adsorbing and removing VOC or atmospheric pollutant gases occurring from building materials of new houses or after reforming.例文帳に追加

薫蒸処理した後の残留した薫蒸ガスおよびVOC、大気汚染ガス等の各種汚染ガスを吸着除去し、収蔵庫の薫蒸処理後の安全管理や、新築、リフォーム後の建材等から発生するVOCや大気汚染ガスを吸着除去して、人や物に対して安全な環境を提供する。 - 特許庁

To provide environment safe to human and objects by adsorbing and removing various pollutant gases such as fumigation gas remaining after fumigation treatment, volatile organic compounds (VOC), or atmospheric pollutant gases, safety controlling after fumigation of a refrigerator, adsorbing and removing VOC or atmospheric pollutant gases to be generated from building materials of new houses or after reforming.例文帳に追加

薫蒸処理した後の残留した薫蒸ガスおよびVOC、大気汚染ガス等の各種汚染ガスを吸着除去し、収蔵庫の薫蒸処理後の安全管理や、新築、リフォーム後の建材等から発生するVOCや大気汚染ガスを吸着除去して、人や物に対して安全な環境を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a method for separating gases and its apparatus which can effectively remove impurities from the exhaust gases discharged from a semiconductor production device using krypton, xenon, and neon as atmospheric gases and can recycle the krypton and other gases for reuse.例文帳に追加

クリプトンやキセノン、ネオンを雰囲気ガスとする半導体製造装置から排出される排ガスから不純物を効果的に除去して前記クリプトン等を循環再利用することが可能なガス分離方法及び装置を提供する。 - 特許庁


例文

The prevention of the global warming is to remove and sweep the greenhouse gases of carbon dioxide gas CO_2 and methane gas CH_4 remaining at high atmospheric altitude.例文帳に追加

地球温暖化防止は、大気の高々度に残留する炭酸[化1]CO_2とメタンガス[化2]CH_4の温室効果ガスの除去、清掃である。 - 特許庁

To provide a decomposition method of gases capable of obtaining a stable discharge when high humidity gas is decomposed by an atmospheric plasma method.例文帳に追加

大気圧プラズマ法により、湿度の高いガスを分解処理する場合において、安定した放電を得る。 - 特許庁

Gases are defined as substances whose vapor pressures exceed 300 kPa (absolute pressure) at 50°C, or that evaporate completely at standard atmospheric pressure (101.3 kPa) and a temperature of 20°C, according to GHS 1.2.例文帳に追加

50℃において蒸気圧が300kPa(絶対圧)を超えるか、または標準気圧(101.3kPa)、20℃において完全にガス化する物質が「ガス」と定義されている(GHS1.2)。 - 経済産業省

A metal film is deposited on the semiconductor substrate 10 so as to cover the gate electrode 34 and the side wall insulation film 41, the semiconductor device 10 is placed in atmospheric gases, the metal film is heated by heat conduction of atmospheric gases from front and rear faces of the semiconductor substrate 10, respectively, thereby forming a metal silicide film.例文帳に追加

ゲート電極34及び側壁絶縁膜41を覆うように半導体基板10に金属膜を堆積し、半導体基板10を雰囲気ガス中に載置して、半導体基板10の表面及び裏面のそれぞれから雰囲気ガスの熱伝導により金属膜を加熱して金属シリサイド膜を形成する。 - 特許庁

例文

To provide a gas removing apparatus of a clean room facility capable of surely removing harmful gases contained in the atmospheric air and harmful gases generated in the clean room.例文帳に追加

外気中に含まれる有害ガス及びクリーンルームで発生した有害ガスを確実に除去できるクリーンルーム設備のガス除去装置を提供する。 - 特許庁

例文

In the heat treatment method for treating the silicon wafer (W) by heat in an atmospheric gas, the oxygen gas is included only in the atmospheric gas to be fed to the rear face of the silicon wafer (W) out of atmospheric gases fed to the front and rear faces of the silicon wafer (W).例文帳に追加

シリコンウェーハWを雰囲気ガス中で熱処理するシリコンウェーハの熱処理方法であって、前記シリコンウェーハの表面S側及び裏面R側に供給する雰囲気ガスのうち、裏面側に供給する雰囲気ガスにのみ酸素が含まれている。 - 特許庁

The United Nations Framework Convention on Climate Change (UNFCCC) was adopted in 1992 at the Rio Earth Summit. In response to the increasing concentrations of atmospheric greenhouse gases and the resulting global warming and negative impacts on the natural ecosystem, it seeks to stabilize the atmospheric concentration of greenhouse gases.例文帳に追加

気候変動枠組条約は、大気中の温室効果ガスの増大が地球温暖化を招き、自然の生態系等に悪影響を及ぼすおそれがあることを背景に、大気中の温室効果ガスの濃度を安定化させることを目的とする条約で、1992年にリオ・デ・ジャネイロで開催された地球サミットで合意された。 - 経済産業省

A gas inside a sealed container 2 is vacuum-exhausted through a chip pipe 3 disposed in a connection piping 5, the sealed container 2 is charged with low-pressure sealing gases through the chip pipe 3 and after the sealed container 2 is sealed by fusing the chip pipe 3, alternative gases different from the sealing gases are introduced to the connection piping 5, thereby returning the pressure in the connection piping 5 to an approximately atmospheric pressure.例文帳に追加

接続配管5に配置したチップ管3を介して封入容器2内の気体を真空排気し、チップ管3を介して封入容器2に低圧の封入ガスを充填し、チップ管3を溶断して封入容器2を封止した後、接続配管5に、封入ガスと異なる代替ガスを導入して、接続配管5を略大気圧に復圧する。 - 特許庁

To provide an apparatus for analyzing trace amount of impurities in gases, capable of efficiently measuring trace amounts of various impurities in various high-purity gases, by integrally combining an atmospheric pressure ionization mass spectrometer for measuring trace amounts of impurities at ppb to sub-ppb levels in the various high-purity gases with a gas chromatograph.例文帳に追加

各種高純度ガス中のppb〜サブppbレベルの微量不純物の測定に有効な大気圧イオン化質量分析計とガスクロマトグラフとを一体的に結合させることにより、各種高純度ガス中の各種微量不純物を効率よく測定することができるガス中の微量不純物の分析装置を提供する。 - 特許庁

In the heat treatment method of the silicon wafer for heat- treating a silicon wafer W in an atmospheric gas, the atmospheric gases that are of different kinds or under different conditions are supplied to front and back sides S and R of the silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウェーハWを雰囲気ガス中で熱処理するシリコンウェーハの熱処理方法であって、前記シリコンウェーハの表面S側と裏面R側とに互いに異なる種類又は条件の前記雰囲気ガスを供給する。 - 特許庁

An electric discharge is caused through the medium of a prescribed gas at the atmospheric pressure or at a pressure in the vicinity of the atmospheric pressure, and through the atmosphere of the electric discharge, the surface of a material to be treated is exposed to an excitation constituted in the prescribed gas or active species gases such as ion or the like.例文帳に追加

大気圧またはその近傍の圧力下において、所定のガスを媒体にして放電を生じさせ、その放電雰囲気により、前記ガス中に形成される励起もしくはイオン等の活性種ガスに被処理材の表面を曝露する。 - 特許庁

To stably form plasma while reducing the usage of rare gas such as gaseous helium, and other gases permitting a glow discharge under the atmospheric pressure.例文帳に追加

ヘリウムガスなどの希ガスやその他の大気圧下でのグロー放電が可能なガスの使用量を削減しつつ安定にプラズマを生成することを目的としている。 - 特許庁

To perform surface treatment of upper and lower surfaces of a burned object by different atmospheric gases with different oxygen concentrations and nitrogen concentrations, in an open type (normal pressure type) burning furnace.例文帳に追加

開放型(常圧型)の焼成炉において、被焼成物の上面と下面とを酸素濃度と窒素濃度を変えた異なる雰囲気ガスにて表面処理すること。 - 特許庁

Consequently, the aluminum electrodes can be so prevented from contacting the humidity of the atmospheric air and the harmful gases which are retained in the periphery of each semiconductor device 10 as to be able to suppress the corrosions and the discolorations of the aluminum electrodes.例文帳に追加

これにより、保管中の、アルミ電極と半導体装置10の周囲に滞留する大気中の湿気および有害ガスとの接触を防ぐことができ、アルミ電極の腐食や変色を抑制することが可能になる。 - 特許庁

The temperature control chamber 13 switches between a high-vacuum state of vacuum exhaustion, and a state of introducing inert gases and increasing atmospheric pressure, in a short cycle approximately with several seconds.例文帳に追加

温度制御室13は、真空排気される高真空状態と、不活性ガスが導入され気圧の高い状態とを、だいたい数秒以内の短時間サイクルで相互に切り替えることができる。 - 特許庁

Bubbles forming in the liquid resulting from dissolved atmospheric gases or the gas discharge from an apparatus element exposed to the liquid are detected and removed so that they do not interfere with the exposure, to cause burning defects on the substrate.例文帳に追加

溶解した大気ガスに由来するか又は液体に曝された装置要素からのガス放出に由来する、液体中で発生する気泡が、露光に干渉して基板上の焼き付け欠陥を招かないように検出されかつ除去される。 - 特許庁

To obtain a light source for gas analyzer which is capable of maintaining a stable amount of light emission, can be constituted at a low cost with a long life, and does never become an ignition source for atmospheric gases.例文帳に追加

安定した発光量を維持でき、かつ、長寿命でありながらコスト安に構成でき、しかも雰囲気ガスの点火源となることのないガス分析計用光源を得る。 - 特許庁

A rare gas and a reactive gas are introduced into the respective reaction vessels 1 as the gases for plasma generation, and further, glow discharge is generated inside the respective reaction vessels 1 under the pressure in the vicinity of the atmospheric pressure.例文帳に追加

希ガスと反応性ガスをプラズマ生成用ガスとして各反応容器1に導入すると共に大気圧近傍の圧力下で各反応容器1内にグロー放電を発生させる。 - 特許庁

Furthermore, an introduction pipe 15 is connected to the mixing chamber 10, and also to a gas inlet 18 of a film-forming apparatus 17 which is a kind of a atmospheric-pressure plasma CVD apparatus, through a concentration-measuring portion 16 for the source gases.例文帳に追加

更に、導入配管15が上記ミキシングチャンバ10に接続され、原料ガスの濃度計測部16を通り常圧プラズマCVD装置の一種である成膜装置17のガス導入口18に接続されている。 - 特許庁

An introducing part 12 of atmospheric gases of Ar or the like is formed in a heat-treating chamber 5, and a volume variable member 30 as a gas supply device is connected via a joint member 20.例文帳に追加

加熱処理室5にはArなどの雰囲気ガス導入部12が形成され、またジョイント部材20を介してガス供給装置としての容積可変部材30が接続されている。 - 特許庁

Achieving the emission reduction commitments under the Kyoto Protocol in developed countries is the first and most primary step toward realizing the ultimate goal of stabilizing the atmospheric concentration of greenhouse gases under the UNFCCC.例文帳に追加

京都議定書に定められた先進国の削減約束の達成は、温室効果ガスの大気中濃度の安定化という気候変動枠組条約の究極的な目的達成のための重要な第一歩である。 - 経済産業省

Then, while maintaining the above treatment temperature T1 of the silver wire 20, atmospheric exchange is repeated three or more times by evacuating the gas surrounding the silver wire 20 to produce a vacuum atmosphere and then feeding the helium and hydrogen gases to produce a mixed atmosphere.例文帳に追加

その後、銀線20を700℃以上融点未満の処理温度T1に維持しつつ、銀線20の周辺を排気により真空雰囲気とした後、ヘリウムガスおよび水素ガスを供給して混合雰囲気とする雰囲気交換を3回以上繰り返す。 - 特許庁

The film forming method, which forms a semiconductor layer containing arsenic by epitaxial growth, has a term when elevates a flow of an arsine (AsH_3) among film forming gases supplied into an epitaxial growth atmosphere adjusted to the atmospheric pressure from zero to a predetermined flow in the beginning of film forming.例文帳に追加

ヒ素を含有する半導体層をエピタキシャル成長により形成する成膜方法であって、成膜初期に、大気圧に調整されたエピタキシャル成長雰囲気内に供給する成膜ガスのうちアルシン(AsH_3)の流量を0から所定流量にまで上昇させる期間を有する。 - 特許庁

To provide a plasma-discharge processing apparatus and method therefor whereby the density of atomic oxygen radicals is improved properly and the control of a plasma-discharge processing is made at a low cost, in the plasma-discharge processing performed under a nearly atmospheric pressure by using the mixed gas of nitrogen and oxygen gases.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で窒素ガスと酸素ガスとが混合された混合ガスを用いて行うプラズマ放電処理で、原子状酸素ラジカルの密度を的確に高めることができ、かつ安価に制御を行うことが可能なプラズマ放電処理装置およびプラズマ放電処理方法を提供する。 - 特許庁

At the time of forming a BPSG film in an atmospheric pressure CVD system 100, a settling process is performed at first such that TES gas, TMOP gas and TEB gas, among film deposition gases, are supplied at a high concentration to a dispersion head 152 and O_3 gas is not supplied to the dispersion head 152.例文帳に追加

常圧CVD装置100において、BPSG膜を形成する際、まず、安定化工程として、ディスパージョンヘッド152に対して、成膜ガスのうち、TEOSガス、TMOPガス、TEBガスを高濃度で供給し、O_3ガスについてはディスパージョンヘッド152に供給しない。 - 特許庁

The plastic resin is discharged from a lip 71 in a tube shape, but, at this time, the tip of the lip is released under an atmospheric pressure, critical conditions are broken, the carbon dioxide and nitrogen gas are made into gases, and the reaction products is foamed as a foaming nucleating agent to form fine foam cells.例文帳に追加

プラスチック樹脂は、リップ71からプラスチック樹脂がチューブ状に吐出されるが、この時、リップの先端が大気圧下に開放されているので、臨界条件が破れて炭酸ガス及び窒素ガスが気体となり、反応生成物を発泡核剤として発泡し、微細な発泡セルを形成する。 - 特許庁

The gases from the plurality of measuring points 10, 20, 30 in a remote site are transferred to detectors by gas detectors 110, 120, a piping switching device 130 and a distributor 140 in an APCI-MS (atmospheric pressure chemical ionization mass spectrometer), and the gasses are detected in the real time.例文帳に追加

APCI−MS(大気圧化学イオン化質量分析計)によるガス検知機110、120、配管切換装置130、分配装置140により、遠隔地点の複数計測点10、20、30からのガスを検知機へ移送し、リアルタイムでガスの検知を行う。 - 特許庁

In the decomposition method of gases by means of atmospheric plasma discharge, two or more kinds of dielectric materials are filled in a discharge space, wherein the first kind dielectric material has a dielectric constant of100 and the second kind dielectric material has a dielectric constant of ≥500.例文帳に追加

大気圧プラズマ放電によるガスの分解処理方法において、放電空間内に2種以上の誘電体物質が充填されており、そのうち1種目の誘電体物質は比誘電率が100以下、2種目は比誘電率が500以上であることを特徴とするガスの分解処理方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the subproduct is selectively deposited on the substrate of a low temperature so as not to be stuck inside the chamber of the dry etching device, thereby avoiding maintenance cycle reduction caused by atmospheric variations and particle generation that is the demerit when using depository production gases.例文帳に追加

また、副生成物は温度の低い基板へ選択的に堆積するためドライエッチング装置のチャンバー内には付着せず、デポ生成ガスを使用した場合のデメリットである、雰囲気変動およびパーティクルの発生による、メンテサイクルの短命化を回避できる。 - 特許庁

To provide a discharge plasma processor and a processing method using the same which continuously and stably generates a uniform glow discharge plasma substantially under the atmospheric pressure to form a thin film, using not only a single process gas but a plurality of process gases, and can deal with complicated processes in etching, ashing steps, etc.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で均一なグロー放電プラズマを継続して、安定して発生させ、単一の処理ガスのみならず複数の処理ガスを用いた薄膜形成、エッチング処理、アッシング処理等の工程における複雑な処理にも対応できる放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法の提供。 - 特許庁

To improve economical efficiency by diverting a part of a gas for a heating zone to a preheating zone in a system where the preheating zone and the heating zone are divided and proper but different atmospheric gases are supplied respectively to both zones so that a high quality sintered metal is obtained by rapidly eliminating the carbon component in the preheating zone and treating with strong reducing force in the heating zone.例文帳に追加

予熱部と加熱部とを区画して、両者に対しては夫々に適切な相互に異なる雰囲気ガスを供給することにより、予熱部においては炭素成分の消失が速やかになり、加熱部においては強い還元力でもって良質の焼結金属が得られるようにしたものであっても、予熱部においては上記加熱部のガスを流用できるようにして経済的にするものである。 - 特許庁

例文

Statements in the Communique, as listed below, indicates China’s active stance towards climate change. ① China recognizes Japan’s proposal to at least halve the world’s greenhouse gas emissions by 2050, and it will study the means and measures required to achieve the ultimate goal of the United Nations Framework Convention on Climate Change (UNFCCC), which is to stabilize the atmospheric concentration of the greenhouse gases at a level that would prevent dangerous anthropogenic interference with the climate system. ② Both parties share the common understanding that Japan and China will actively participate in talks to increase the effectiveness of the process and the framework until 2012 and beyond 2013, and contribute to attaining beneficial results at the Conference of the Parties to the UNFCCC (COP) and the Conference of the Parties serving as the meeting of the Parties to the Kyoto Protocol (COP/MOP), scheduled to be held in Copenhagen, Denmark, at the end of 2009. ③ China regards the Japanese sector-based approach in setting and implementing emissions reduction targets and cutting emissions as an important idea.例文帳に追加

本声明においては、①中国側は、日本の2050年までに少なくとも半減という見解を留意し、各国と共に、気候変動枠組条約の、気候系に対して危険な人為的干渉を及ぼすこととならない水準において大気中の温室効果ガスの濃度を安定化させるとの究極的な目的を実現させる方法及び措置を検討していくことを表明、②日中両国は、2012年まで及び2013年以降の実効的なプロセス及び枠組みを強化する交渉に積極的に参加することで、2009年末コペンハーゲンで行われる気候変動枠組条約及び京都議定書の締約国会議で結果が出せるようにするとの共通認識に達したこと、③中国側は、セクター別アプローチが排出削減指標又は行動を実施する重要な手段であると表明、等、中国も気候変動問題に関して積極的な姿勢を見せている。 - 経済産業省

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