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edge methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3574件
To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process.例文帳に追加
LIGAプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むX線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。 - 特許庁
In detecting a wobble signal from such an optical disk and demodulating the address information, a wobble information detecting method generates an even- ordered harmonic signals and a data clock, multiplies a reproduced wobble signal by the generated even-ordered harmonic signals, accumulates signals obtained by multiplication in each data clock and determines the code of digital information on the basis of an integrated value at the end edge of the data clock.例文帳に追加
ウォブル情報検出方法では、このような光ディスクからウォブル信号を検出してアドレス情報を復調する際に、偶数次の高調波信号及びデータクロックを生成し、再生したウォブル信号に対して生成した偶数次の高調波信号を乗算し、乗算して得られた信号をデータクロック毎に積算し、データクロックの終了エッジでの積算値に基づきデジタル情報の符号を判断する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a chucking jaw 5 having a hard metal insertion part 11 as a chucking edge for a drill chuck 1, etc., the chucking jaw 5 to be provided thereby and a device capable of realizing connection having durability between the chucking jaw and the hard metal insertion part on the drill chuck 1 having the chucking jaw 5 and capable of precisely and certainly arranging the hard metal insertion part.例文帳に追加
ドリルチャック(1)等のための、つかみエッジとしての硬質金属挿入部(11)を有するつかみあご(5)の製造方法、及び、これにより得られるつかみあご(5)、並びに、該つかみあご(5)を有するドリルチャックにおいて、つかみあごと硬質金属挿入部との間の耐久性を有する接続を実現することができ、また、精確に硬質金属挿入部を配置することができるものを提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition which is improved in line edge roughness, pattern profile, EUV light exposing sensitivity, and dissolution contrast, and is used in manufacturing processes of semiconductors such as ICs, circuit boards for such as liquid crystals and thermal heads, and in other photofabrication processes, and also provide a pattern forming method using this composition.例文帳に追加
IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide the jointing method for a piezoelectric vibrating element which reduces the manufacture cost by increasing the productivity by completing adhesion by single adhesive coating operation, when lead electrodes are led out to both the top and reverse surface sides of one end edge of the piezoelectric vibrating element are adhered onto two pads in a recessed part formed on a package in one to one relation.例文帳に追加
パッケージに形成した凹陥部内の2つのパッド上に、圧電振動素子の一端縁の表裏両面側に夫々導出されたリード電極を一対一の関係で対応付けて導電性接着剤により接着する際に、一回の接着剤塗布作業によって接着を完了することにより生産性を高めて製造コストを低減するようにした圧電振動素子の接合方法を提供する。 - 特許庁
To provide a coiling method of a cold-rolled steel strip for reducing the amount of plastic deformation of a sleeve whose unit price is inexpensive and the handling of which is easily performed and also preventing the edge wave of the inner coiled part of a coil by reducing stress applied to the sleeve by heating the sleeve to specified temperature taking the maximum reachable temperature into consideration before coiling the cold-rolled steel strip.例文帳に追加
スリーブの単価が安価でそのハンドリングを容易に行うことができる、冷間圧延鋼帯の巻取りに先立って、スリーブを鋼帯巻取り時の最高到達温度を考慮した所定温度に加熱してスリーブにかかる応力を小さくし、これによりスリーブの塑性変形量を少なくするとともにコイル内巻き部の耳伸びを防止する冷間圧延鋼帯の巻取り方法を提供する。 - 特許庁
To manufacture a high-efficiency milling and turning device for processing all forms including plastic material, particularly, for all distributed spectacle lenses and free forms, optionally, by preliminary processing of an edge part, in an extremely short period of time and with high cutting capacity, high surface accuracy, and a high-quality surface, most inexpensive, and fully automatic, and to provide a method thereof.例文帳に追加
特に、すべての流通している眼鏡レンズ用のプラスチック材料およびフリーフォームを含むすべての形状を、しかも場合によっては縁部予備加工によって、極めて短時間で、高い切削能力および高い表面精度および表面の高い質でもって、加工することができる、出来る限り安価な、全自動的な高性能フライス削り・旋削装置を製造し、このような方法を提供すること。 - 特許庁
The method of manufacturing the laminated substrate having a core layer which functions as a printed circuit board, and a build up layer having an edge and a wiring and electrically connected to the core layer includes a step of establishing the modulus of longitudinal elasticity of each layer, thickness of each layer and the modulus of longitudinal elasticity of each layer to make the modulus of the thermal expansion of the laminated substrate into predetermined value.例文帳に追加
プリント基板として機能するコア層と、絶縁部と配線部を有し、前記コア層に電気的に接続されるビルドアップ層とを有する積層基板の製造方法であって、前記積層基板の熱膨張率を所定の値にするために各層の熱膨張率、各層の厚さ及び各層の縦弾性係数を設定するステップを有することを特徴とする製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of forming fine pattern comprises the steps of covering a substrate including the photoresist pattern with the cover forming agent for obtaining the fine pattern, removing unwanted cover forming agent adhered to the end edge portion and/or rear surface of the substrate, thermally contracting the cover forming agent with the heat treatment and narrowing the interval between photoresist patterns by utilizing the thermal contracting operation, and removing the cover forming agent.例文帳に追加
ホトレジストパターンを有する基板上にパターン微細化用被覆形成剤を被覆する工程、基板の端縁部および/または裏面部に付着した不要な被覆形成剤を除去する工程、熱処理により該被覆形成剤を熱収縮させ、その熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間の間隔を狭小せしめる工程、および上記被覆形成剤を除去する工程を含む、微細パターンの形成方法。 - 特許庁
In the method for coating the travelling plastic film with the coating liquid by the applicator roll rotating in the direction reverse to the travelling direction of film, the edge part of the film is lifted up by a free roll to prevent the contact of the film with a non-coating part of both sides of the applicator roll and the free roll is provided only on the front side of the film coated with the coating liquid.例文帳に追加
走行するプラスチックフィルムにコーティング液を該フィルムの走行方向と逆方向に回転するアプリケーターロールでコーティングする方法において、フリーロールでフィルムのエッジ部を持ち上げてアプリケーターロール両端の非コーティング部分とフィルムとが接しないようにするコーティング方法であって、該フリーロールをフィルムにコーティング液を塗布する前方のみに設けることを特徴とするコーティング方法、及びその装置。 - 特許庁
To solve several problems based on a conventional two-folded process, such as difficulty in folding, causing expansion or deformation at a folding part, causing deformation or distortion at a side edge and impairing commodity value after production, concerning an air-permeable bag for packaging materials requiring air-permeability such as fresh foods and a method of producing the same.例文帳に追加
生鮮食品等の通気性が必要とされる被包装物を包装するための通気性袋とその製造方法に関し、従来の2つ折り工程に基づく種々の問題点、すなわち折り曲げが容易に行えないこと、折り曲げ部分に脹らみや変形が生じること、側端縁に変形や歪みが生じること、製造後の商品価値を損なうこと等の問題点を解決することを課題とする。 - 特許庁
This is a manufacturing method of a cold cathode for a discharge tube, which has a cold cathode at the tip of a lead sealed through the edge of a glass tube containing rare gas and mercury and has a processes of producing a mixed powder of titanium hydride powder and a high-melting point metal powder, and manufacturing a formed body with the mixed powder, and also sintering the formed body.例文帳に追加
希ガスや水銀を封入したガラス管の端部に封装された導入線の先端部に冷陰極を具備する冷陰極放電管における冷陰極の製造方法であって、水素化チタンの粉末と高融点金属の粉末とを混合して混合粉を作製する工程と、混合粉を成形して成形体を作製する工程と、成形体を焼結する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
This cutting method of the frame comprises: the first step of forming a stamping portion having a first curve R1 in a part of the external shape according to the stamping; and the second step of cutting a part of the frame by making a cutting edge 31s abut along a cutting line 31 including a second curve intersecting the first curve R1 to connect it to the stamping portion.例文帳に追加
本発明のフレームの切断方法は、フレームの打ち抜き加工により、外形の一部に第一の曲線部R1を有する打ち抜き部を形成する第一の工程と、上記第一の曲線部R1と交差する第二の曲線部を含む切断ライン31に沿って切断刃31sを当接することにより、上記打ち抜き部に接続させて上記フレームの一部を切断する第二の工程と、を有すること特徴とする。 - 特許庁
The method of bookbinding by piling the signatures is carried out by supplying prescribed signatures P, Q at the same time to the signature piling apparatus L provided with a paper folding knife R from the symmetrical direction to pile the signatures to be positioned right under the paper folding knife R part, folding in half by the descent of the paper folding knife R and after that, cutting three sides except the double folded edge part.例文帳に追加
紙折り用ナイフRを具えた折丁重ね合わせ装置Lに対して、その対称的な方向から所定の折丁P,Qを同時に供給することによって、当該紙折り用ナイフR部分の真下に位置するように重ね合わせ、当該紙折り用ナイフRの降下に基づきこれを二つ折りし、然る後、その二つ折り縁を除いた自余の三辺に対する裁断処理を施すようにした折丁を重ね合せて製本するための方法。 - 特許庁
To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
遠紫外光、EUV、電子線等、特にArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
A method of manufacturing a scintillator panel including a fluorescent layer, a substrate for supporting the fluorescent layer, and a reflective layer disposed between the fluorescent layer and the substrate includes a step of forming an insulating layer on the substrate, a step of forming the reflective layer on the insulating layer in a state in which an edge part of the insulating layer is masked, and the step of forming the fluorescent layer on the reflective layer.例文帳に追加
蛍光体層と、前記蛍光体層を支持するための基材と、前記蛍光体層と前記基材との間に配置された反射層と、を備えたシンチレータパネルの製造方法は、前記基材の上に絶縁層を形成する工程と、前記絶縁層の端部をマスキングした状態で前記絶縁層の上に前記反射層を形成する工程と、前記反射層の上に前記蛍光体層を形成する工程とを含む。 - 特許庁
The method for manufacturing a casing for an electronic device including a metallic body and a plastic antenna lid includes the steps of: manufacturing a metallic body having at least one latching portion formed on one edge; and integrally molding a plastic antenna lid on the metallic body by insert molding and forming at least one latching means on a boundary of the metallic body and the plastic antenna lid.例文帳に追加
金属製本体と、プラスチック製アンテナカバーと、を含む電子装置の筐体の製造方法において、一方の側辺に少なくとも1つの係合部が形成されている前記金属製本体を準備するステップと、インサート成型方法で前記金属製本体とプラスチック製アンテナカバーとを一体に成型し、且つ前記金属製本体とプラスチック製アンテナカバーとが結合する個所に少なくとも1つの係合手段を形成するステップと、を含む。 - 特許庁
A method for setting the polyline to three dimension data, constituted of the polygon mesh comprises steps for preparing a known image FT, corresponding to position information with the polygon mesh; for setting two dimensional polyline PLS on the image FT; and for setting three dimensional polyline PLT, by editing the polygon mesh PM so that a polygon edge constituting the polygon mesh PM is present in the position corresponding to the two dimensional polyline PLS.例文帳に追加
ポリゴンメッシュで構成される3次元データへのポリラインの設定方法であって、ポリゴンメッシュとの位置情報の対応が既知の画像FTを準備するステップと、画像FT上に2次元のポリラインPLSを設定するステップと、設定された2次元のポリラインPLSに対応した位置にポリゴンメッシュPMを構成するポリゴンのエッジが存在するように、ポリゴンメッシュPMを編集して3次元のポリラインPLTを設定するステップとを有する。 - 特許庁
An organic semiconductor layer 7 is formed by applying an organic semiconductor solution, produced by dissolving an organic semiconductor material in a solvent, by ink jet method so that an edge 71 of the organic semiconductor solution thus applied is located between a source electrode 5 and a drain electrode 6, and the center of an application region is located at a position shifted from the just intermediate position between the source electrode 5 and the drain electrode 6.例文帳に追加
有機半導体層7は、インクジェット法によって、有機半導体材料を溶媒に溶解した有機半導体溶液を塗布して形成され、塗布された有機半導体溶液の縁部71が、ソース電極5とドレイン電極6間に配置されるように、ソース電極5とドレイン電極6間のちょうど中間位置よりずらした位置に、塗布領域の中心が位置するように、有機半導体溶液を塗布することを特徴とする。 - 特許庁
According to the fitting producing method, an inside core 30 is arranged so as to form a peripheral edge of the panel 20, and an outside core 40 is connected to the outside of the inside core 30 by means of a plurality of cross members 51.例文帳に追加
パネル20の周辺部の縁になるように内側芯材30を配設し、内側芯材30の外側に外側芯材40を複数の横手材51により連結し、つぎに、内側芯材30、複数の横手材51および外側芯材40を複数の表面材60で挟んだ状態で、複数の表面材60を内側芯材30、複数の横手材51および外側芯材40に接着してフラッシュ構造を構成することを特徴とする建具の製造方法。 - 特許庁
To provide a mirror polishing method for grinding silicon wafer without causing machining damage such as scratching and forming a deteriorated layer by machining on a grinding silicon wafer surface, causing little surface roughness, generating little rolled edge, obtaining a high flatness easily, needing little amount of polishing, improving a throughput, having no problem in treating etching waste liquid and causing no damage to a polishing device and jigs.例文帳に追加
研削シリコンウエハ表面にスクラッチや加工変質層の形成などの加工ダメージを与えることがなく、表面粗さが小さく、エッジ部ダレの発生も少なく、高平坦度が容易に得られ、必要研摩量も少なくて済み、スループットが向上し、しかも、エッチング廃液の処理問題もなく、さらにアルカリ廃液の処理問題ならびに研摩装置および治具の損傷等もない研削シリコンウエハの鏡面研摩方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
In a manufacturing method of an optical element to manufacture an optical element by transferring a reversed shape of a mold to a resin using the mold, a bank is formed at an edge portion of the mold to control a height of an optical element molded item or not only the bank but also a groove is formed to control a height of a laminate of the optical element molded item and a substrate.例文帳に追加
成形型を用い、該型の反転した形状を樹脂に転写形成して光学素子を製造する光学素子の製造方法において、前記成形型の端部に土手を形成し、該土手によって光学素子成形品の高さを制御し、あるいは前記土手と共に前記成形型に溝形状を形成し、該溝形状によっては光学素子成形品と基板を貼り合わせたときの高さを制御するようにして光学素子を製造する。 - 特許庁
The method for manufacturing the transfer medium 58 formed by sticking ink transferable to a target to a film 13 includes steps for sticking ink to the film 13, sticking an adhesive liquid annularly along the edge of a transfer region A within the transfer region A with the ink stuck to the film 13, and sticking the adhesive liquid by jetting to an inside region C inside a peripheral region B to which the adhesive liquid is stuck.例文帳に追加
ターゲットに対して転写可能なインクをフィルム13に付着させた転写媒体58を製造するための転写媒体製造方法において、フィルム13に対してインクを付着させる段階と、フィルム13におけるインクが付着した転写領域A内であって、該転写領域Aの縁部に沿って環状に接着液を付着させる段階と、接着液が付着した周縁領域Bの内側の内側領域Cに接着液を噴射により付着させる段階とを備える。 - 特許庁
The method includes the steps of: creating essentially parallel alternating phase shift regions aligned with the critical width segments and extending beyond ends of at least some of the critical width segments; enclosing the integrated circuit layout and the alternating phase shift regions with a boundary; extending the alternating phase shift regions to an edge of the boundary; and creating the alternating phase shift/mask based on the alternating phase shift regions.例文帳に追加
この方法は、これらのクリティカルな幅のセグメントに整列し、かつこれらクリティカルな幅のセグメントの少なくとも一部の端部を越えて延長する本質的に平行な交互位相シフト領域を生成することと、集積回路レイアウトおよび交互位相シフト領域をバウンダリで取り囲むことと、交互位相シフト領域をこのバウンダリのエッジまで延長することと、その後、これらの交互位相シフト領域に基づいて交互位相シフト・マスクを生成することとを含む。 - 特許庁
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