「edge method」に関連した英語例文の一覧と使い方(66ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for preventing an arch-state bending of a billet after cooling, caused by volume-expanding when the billet of a chromium-molybdenum steel having 0.28-0.48% carbon content after hot-rolling is air-cooled from about 900°C, by hindering the local generation of a bainite in about 500-600°C on the edge surface of the billet.例文帳に追加

炭素量が０．２８％〜０．４８％のクロムモリブデン鋼の熱間圧延後のビレットを略９００℃から空冷する際に、ビレットの端面が略５００〜６００℃で局部的なベイナイト生成を阻止して体積膨張による冷却後のビレットの弓状に曲がりを防止する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a brake disk, and a brake disk with high practicality, capable of suppressing an increase of manufacturing cost while maintaining desired performance even when a chamfered surface is formed on a corner part of an outer peripheral edge of the disk brake of which an outer peripheral shape repeats radial recesses and ridges.例文帳に追加

外周形状が径方向の凹凸の繰り返し形状であるブレーキディスクの外周縁の角部に面取り面を形成する場合においても、所期の性能を維持しつつ製造コストの上昇を抑制することができる、実用性の高いブレーキディスクの製造方法及びブレーキディスクを提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist for near-field exposure having good light efficiency and capable of reducing pattern edge roughness even in the case of a small thickness of an image forming photoresist layer and to provide a photolithography method characterized in including a step for exposing an image forming photoresist layer formed using the photoresist by near-field exposure.例文帳に追加

像形成用フォトレジスト層の層厚が小さくても光効率が良く、パターンエッジラフネスが低減できる近接場露光用のポジ型フォトレジストおよびこれを用いて形成した像形成用フォトレジスト層を近接場露光により露光する工程を含むことを特徴とする、光リソグラフィ方法を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing an inorganic oxide vapor-deposited film in which an inorganic oxide vapor-deposited layer is provided by using a vapor deposition mask on a substrate, vapor deposition is performed while no inorganic oxide is deposited on edge parts of the vapor deposition mask.例文帳に追加

基材上に蒸着マスクを用いて無機酸化物蒸着層を設ける無機酸化物蒸着フィルムの製造方法において、前記蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態で蒸着を行うことを特徴とする無機酸化物蒸着フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the SIMOX wafer of heating the silicon wafer to implant oxygen ions into the wafer, before carrying the silicon wafer into an ion implanting device, the silicon wafer edge is matched with the wafer holder using a dummy wafer and then the silicon wafer is carried into the ion implanting device to implant the oxygen ions into the wafer.例文帳に追加

シリコンウェーハを加熱して酸素イオンを注入するＳＩＭＯＸウェーハの製造方法において、シリコンウェーハをイオン注入装置内に搬入するに先立ち、該シリコンウェーハのエッジとウェーハ保持具との整合をダミーウェーハでとり、しかるのち該シリコンウェーハをイオン注入装置内に搬入して、酸素イオンの注入を行う。 - 特許庁

A reflected light from the multilayer optical disk is divided into a plurality of areas, divided light beams are focused on different positions of a photodetector, a focus error signal is detected by a knife edge method using some of the light beams, and a tracking error signal is detected by using some of the light beams.例文帳に追加

多層光ディスクからの反射光を複数の領域に分割し、分割された光ビームが光検出器上の異なる位置に焦点を結ぶとともに、分割された光ビームを複数個用いてナイフエッジ法によりフォーカス誤差信号を検出し、分割された光ビームを複数個用いてトラッキング誤差信号を検出する。 - 特許庁

To provide an optical component and method for manufacturing the same, that can avoid cracks and adhesion caused by the occurrence of a protrusion part at the periphery edge of a lens optical surface connected to the internal wall surface of the lens holder, upon pressing lens materials in a constitution of the optical component in which an optical lens and a lens holder are unified.例文帳に追加

光学レンズとレンズホルダとが一体化された光学部品の構成で、レンズ素材を加圧成形する際に、レンズホルダの内壁面と接続されるレンズ光学面の外周端面のはみ出し部の発生による欠けや付着を防止することが可能な光学部品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for manufacturing a packaging bag having the same appearance as a flat bag package which is manufactured by a bag feeding/filling/packaging machine, and which has a fold on each side edge, by a vertical type bag manufacturing/filling/packaging machine which is low in cost in terms of packaging material and has high packaging ability.例文帳に追加

給袋充填包装機を使用して製造された、両側縁に折れ線があり扁平状になった袋包装体と同じ外観を持つ包装袋を、使用する包装資材のコストが低く済み、包装能力も高い縦型製袋充填包装機を使用して製造する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a pattern form, line edge roughness, resist temporal stability, and dry etching resistance, especially in lithography using electron beam, X-ray, or EUV light as a source of exposure light; and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。 - 特許庁

To provide an installation method of a manhole cover receiving frame that can install the cover receiving frame on a cylindrical base wall or a foundation adjusting layer of a manhole with high work efficiency in a face support state at a predetermined accurate height so that the upper edge surface of the cover receiving frame is substantially flush with the surrounding existing paved road surface.例文帳に追加

マンホールの筒状基壁又は基礎調整層上に蓋受枠をその上縁面が周辺の既設舗装路面と実質的に同じ高さになるように、作業性良く、所定の正確な高さに面支持状態で据え付けることを可能にするマンホール蓋受枠の据付工法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a bonded silicon wafer that automatically detects and eliminates a sticking defect such as a void even if there is the bonding defect in a peripheral edge region of the bonded silicon wafer, and to provide a device for manufacturing the bonded silicon wafer that can automatically eliminate the bonding defect.例文帳に追加

貼り合わせシリコンウェーハの周縁領域にボイド等の貼り合わせ欠陥があったとしても、かかる貼り合わせ欠陥を自動的に検出し、消失させることが可能な貼り合わせシリコンウェーハの製造方法及び、貼り合わせ欠陥を自動的に消失可能な貼り合わせシリコンウェーハ製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method of a pressure fixing system, in which high fixing property is obtained while reducing a pressure applied to an image support even when a toner having enough heat-resistant storage property is used, and an image defect such as image misalignment at an edge is prevented in a formed visible image.例文帳に追加

十分な耐熱保管性が得られるトナーを使用した場合にも、画像支持体に付与される圧力が軽減されながら高い定着性が得られ、さらに、形成される可視画像においてエッジ部の画像ずれなどの画像不良が発生しない圧力定着方式の画像形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has high sensitivity, high dissolving contrast, sufficient pattern profile, and sufficient line edge roughness performance, reduces a standing wave, and does not generate a development defect, and also to provide a film formed using the composition and a pattern forming method using the film.例文帳に追加

高感度、高溶解コントラストであり、良好なパターンプロファイル、良好なラインエッジラフネス性能を有し、定在波の低減が可能であり、且つ現像欠陥を発生しない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for position correction of a sensor in an image recording apparatus and an image forming apparatus, capable of keeping a stable detection accuracy, even when using a medium to be recorded having different thickness, concerning the image recording apparatus using a reflective photosensor for detecting an edge position of the medium to be recorded.例文帳に追加

被記録媒体のエッジの位置を検出するために反射型フォトセンサーを用いた画像記録装置において厚みの異なる被記録媒体を使用した場合でも安定した検出精度を保つことができる画像記録装置及び画像記録装置におけるセンサーの位置補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative tone development, which reduces line edge roughness, enhances in-plane uniformity of a pattern dimension and shows excellent bridge margin, so as to stably form a high precision fine pattern for manufacturing a highly integrated electronic device with high precision, and to provide a method for forming a pattern using the resist composition.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ラインエッジラフネスを低減し、パターン寸法の面内均一性を高め、更にはブリッジマージンに優れたネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In order to solve the above problem, relative to the abrasive grain in a conventional method pushed to the polishing surface plate, abrasive grain digging up treatment for newly and selectively polishing the surface of the surface plate on the periphery of the abrasive grain is performed, and equalization treatment for arranging the cutting edge height is further performed relative to the dug up abrasive grain.例文帳に追加

上記の問題を解決するために、研磨定盤の押し込まれた従来方法の砥粒に対して、新たに砥粒周辺の定盤表面を選択的に研磨する砥粒掘り起こし処理を行い、更に掘り起こされた砥粒に対してその切れ刃高さを揃えるための均一化処理を行うようにした。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a brake disk having an outer peripheral shape with radial projections and recesses formed repeatedly in the circumferential direction, the process having superior productivity wherein a curved face section can be formed uniformly over the entire perimeter of each outer peripheral edge of the disk body and no chamfering step is required for deburring.例文帳に追加

径方向の凹凸が周方向に繰り返される凹凸繰り返し形状の外周形状を持つブレーキディスクの製造方法であって、ディスク本体の外周エッジ部に全周に亘って均等に曲面部を形成でき、バリ取りのための面取り工程を不要とした生産性に優れた方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining method and a laser beam machining device where a laser light emitted to a conical reflection face is reflectively emitted to the outer circumferential face, the inner circumferential face and the part around the edge face of a cylindrical material arranged at the central position, and is further circulated in a high speed scan, and the respective faces are subjected to deformation working, surface treatment, heat treatment and welding.例文帳に追加

円錐状の反射面に照射されるレーザ光線を中心位置に配置する筒状材の外周面や内周面・端面周囲に反射照射させるとともに高速スキャンで周回させて各面を変形加工・表面処理・熱処理・溶着させるレーザ加工方法とレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer container with oxygen absorbability in which an intermediate layer with oxygen absorbability in a cut edge of a mouth portion is securely and effectively covered and protected with resin without damaging the reliability in sealing the mouth portion in the multilayer container of oxygen absorbability with a intermediate layer with oxygen absorbability, and a method for producing the same.例文帳に追加

酸素吸収性中間層を備えた酸素吸収性多層容器において、口部の切断端縁における酸素吸収性中間層が、口部の密封信頼性を損なうことなしに、樹脂で確実且つ有効に隠蔽され且つ保護されている酸素吸収性多層容器及びその製法を提供するにある。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus in which curling in both edge caused during treatment with liquid ammonia is suppressed, the shrinkage stress produced during the treatment can further be controlled to a specified value and the treating time with liquid ammonia can be changed.例文帳に追加

液体アンモニア処理中に発生する両耳部のカールを抑制し、さらに処理時に発生する収縮応力を任意の応力値に制御可能とすることが可能で、かつ両耳部にカールが発生しない場合においては、その液体アンモニア処理時間の変更を可能とするする方法、及び装置を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the polarizing plate is also provided, in which after chip-cutting the polarizing plate in the laminated state as the above, advantageously, in the state in which the adhesive layer is formed at least on one outside thereof, especially, outside the cycloolefin based resin film layer, the polarizing plate is manufactured by performing cutting work of the outer peripheral edge part.例文帳に追加

上のように積層された状態で、有利にはその外側の少なくとも一方、特にシクロオレフィン系樹脂フィルム層の外側に粘着剤層を形成した状態で、偏光板をチップカットした後、その外周端部を切削加工することにより、偏光板を製造する方法も提供される。 - 特許庁

A manufacturing method of the splice member 100 used in a large structure comprises a step of boring a hole 103 in the work 100, and a step of performing chamfering, deburring, countersinking, and other finishing by the cutting tip 122 on an edge part 105 on a back side 104 of the hole 103.例文帳に追加

大規模構造物に用いられる添接部材１００の製造方法は、加工対象１００に孔１０３を明ける工程と、ドリル１２０を孔１０３から引き抜くにあたり、孔１０３の背面１０４側縁部１０５に、切削チップ１２２によって面取り、バリ取り、皿もみその他の仕上げ加工を施す工程とを含む。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor chip, capable of preventing a wire bonding electrode on a press-fitting head or a semiconductor chip from being contaminated due to a die attach film flowing from the external edge of the semiconductor chip and moving up to the upper surface of the semiconductor chip, in joining the semiconductor chip to a surface to be joined.例文帳に追加

半導体チップを被接合面へ接合する際に、半導体チップの外縁から流出したダイアタッチフィルムが半導体チップの上面に這い上がって圧着ヘッドや半導体チップ上のワイヤボンディング用電極を汚損することのない半導体チップの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used in the manufacturing step of a semiconductor such as an IC, in manufacturing step of a circuit board such as liquid crystals and thermal heads, and other photofabrication steps, having an excellent resolution and line edge roughness; and to provide a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method further comprises the steps of laminating the plate-like materials so that the cut-off faces are superposed in a state in which the bark sides are directed in the same direction or in a state in which the mark sides are directed in opposite directions, laminating the materials, then cutting off the edge parts to form the glued laminated timbers 8, 9.例文帳に追加

これらの板状素材を、木表側が同一方向を向いた状態で、あるいは木表側が互いに相反する方向を向いた状態で、それぞれの切り落とし面どおしが重なるように積層して貼り合わせた後、端縁部分を切り落とすことにより、集成材８，９を形成する。 - 特許庁

To provide means for infiltrating a resin up to the most top edge of a needle-like recess of a transfer board in a method comprising laminating a bio-degradable resin material on a transfer board having a needle-like recess, and by softening at a suitable temperature and then imbedding the resin into the needle-like recess by pressing, and cooling slowly.例文帳に追加

針形状凹部を有する転写版上に、生分解性樹脂材を積載して適度な温度に保持して軟化させた後、所定時間プレスして針形状部に樹脂を埋設させてから徐冷する方法において、転写板の針形状凹部の最先端部まで樹脂を浸透させる手段を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device for sticking a semiconductor wafer to a dicing tape through a die attaching film is formed of a step cutting the semiconductor wafer and the die attaching film to form the die, and fixing the die to the substrate thereafter, a semi-cured part is formed on the entire periphery of the peripheral edge of the die in a frame shape by ultraviolet light irradiation.例文帳に追加

半導体ウエハをダイアタッチフィルムを介してダイシングテープに貼り付け、ついで半導体ウエハ及びダイアタッチフィルムを切断してダイを形成し、その後ダイを基板に固定する半導体装置の製造方法において、ダイの周縁全周に枠状に紫外光照射によって半硬化部分を形成する。 - 特許庁

To provide a transfer roller for achieving excellent image formation by holding a leading edge of a transfer material, by transferring an image on an image carrier to the transfer material without bringing a grasping member into contact with the image carrier, and by surely peeling the transfer material after transfer, and to provide an image forming method.例文帳に追加

転写材の先端を保持し、把持部材を像担持体に接触させることなく像担持体上の像を転写材に転写し、転写後に転写材の剥離を確実に行い、良好な画像形成を行うことができる転写ローラーおよび画像形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a conveying device and a conveying method, capable of decreasing the installation area of the device, and conveying a plate-shaped conveying object without damaging the part other than edge parts without using a protector for protecting that part of the conveying object.例文帳に追加

装置の設置面積を小さくすることができ、しかも板状の搬送対象物を、この搬送対象物の縁部を除く残余の部分を損傷から保護するための保護体を用いなくても、前記残余の部分を損傷させることなく、搬送することができる搬送装置および搬送方法を提供する。 - 特許庁

The end face processing method of a POF includes a step in which a blade 14 with a linear edge line is moved in a direction vertical thereto to cut the POF 1 with pressure and a step in which, after cutting the POF 1 with pressure, the cut end face 16a is pressed against a heated mirror-finished surface plate for shaping.例文帳に追加

プラスチック光ファイバの端面処理方法は、エッジラインが直線状である刃１４を、当該エッジラインと垂直な方向に動かしてプラスチック光ファイバ１を押し切るステップと、プラスチック光ファイバ１を押し切った後、加熱した鏡面板に押し付けて押し切った端面１６ａを整形するステップと、を備える。 - 特許庁

In this manufacturing method, the conductive layer 2 of a semi- insulating substrate 1 is element-isolated into a required patterning shape through mesa etching and left inside an element formation area, an insulator such as ozone is ion-implanted to step part 4, formed at the peripheral edge part of the conductive layer 2 by mesa etching and the step part 4 is constructed as an electrical insulating body.例文帳に追加

半絶縁性基板１の導電層２をメサエッチにより必要なパターニング形状に素子分離して素子形成領域１ａ内に残し、メサエッチにより導電層２の周縁部に形成される段差部４にオゾン等の絶縁物をイオン注入し、段差部４を電気絶縁体として構築する。 - 特許庁

With respect to a method for applying a coating agent to a continuously running plastic film by rolls rotated reversely to the running film, the surface speed of the rolls is kept faster than the running speed of the plastic film and the meniscus in the upstream side and the downstream side in the film moving direction is made continuous at the coating edge part.例文帳に追加

連続走行するプラスティックフィルムに、塗剤を走行フィルムに対しリバース回転させたロールで塗布する方法において、ロールの表面速度をプラスティックフィルムの走行速度より速くし、かつフィルム進行方向の上流側、下流側のメニスカスを塗布端部で連続させることを特徴とする塗布方法。 - 特許庁

To provide a workpiece which is cut with a laser beam cutting device with which fingers or the like are not hurted by the edge generated on the outer circumferential surface of a product member which is cut from the workpiece with a laser beam and which makes the productivity of the product member improve, and a method for chamfering the product member which is cut from that workpiece.例文帳に追加

加工物からレーザーによって切断される製品部材の外周表面に発生するエッジで指等を傷つけずに、且つ、製品部材の生産性を向上させるレーザー切断装置で切断される加工物及びその加工物から切断される製品部材の面取り方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a method for inspecting a thin plate using an electromagnetic ultrasonic probe 10 equipped with a magnet body for generating a magnetic field on the surface of the thin plate and a coil arranged in the magnetic field and transmitting and receiving plate waves, the electromagnetic ultrasonic probe 10 is arranged at either one of both edge parts of the thin plate S.例文帳に追加

薄板表面に磁界を発生させる磁石体と、前記磁界に配置され板波を送受信するためのコイルとを具備する電磁超音波探触子１０を使用して薄板を検査する方法であって、電磁超音波探触子１０を薄板Ｓの両エッジ部のいずれか一方に配置することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a metallic sheet for containing a filler, which has ripples made by deformation processing at a side edge area of the sheet, or a filler having a metallic sheet of this type, with the same speed as in manufacturing a conventional metallic sheet for containing a filler or a filler without substantial change, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

シート側縁領域で変形加工された波皺を有する金属充填材シート或いはこのタイプの金属充填材シートを有する充填材を従来の金属充填材シート又は充填材と同等の速度で実質的な改変なく製造することのできる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing a baglike container in which the groove part is formed near an injection port part, the groove part is molded on the inside face of the film forming the baglike container by being overlapped, the defect in the groove part is inspected, the edge part of the film is sealed so as to be cut in a prescribed shape, and the baglike container is manufactured.例文帳に追加

注口部の近傍に溝部を形成した袋状容器の製造方法であって、重ね合わせて袋状容器を形成するフィルムの内側面に前記溝部を成形し、かつ、この溝部における欠陥を検査し、その後、前記フィルムの縁部をシールし、所定の形状に裁断して袋状容器を製造する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which no defective pixel etc. occurs by suppressing the occurrence of defective insulation caused by an edge (a shape of the upper electrode broken at some midpoint of a dielectric material) etc. of an upper electrode in a capacitor, and to provide a liquid crystal display device, a flat panel display device and a method for manufacturing them.例文帳に追加

キャパシタにおける上部電極のエッジ（上部電極が誘電体材料の途中で途切れるような形状）などが原因となり発生する絶縁不良を抑制し、画素欠陥などが生じない半導体装置、液晶表示装置、平面表示装置およびそれらの製造方法を提供すること。 - 特許庁

This method for producing the cabbage roll comprises preparing a cabbage leaf having at least one cut made in the leaf edge direction from the vicinity of the core along the leaf vein, folding the cabbage leaf into a belt-like shape, and rolling meat ingredients having meat as the main raw material followed by tying to make the cabbage roll.例文帳に追加

本発明によるロールキャベツの製造方法は、芯に近い部分から葉脈に沿って葉先方向に切れ目を少なくとも一つ入れたキャベツ葉を用意し、該キャベツ葉を折り重ねて帯状として、これにより、食肉を主原料とする肉具を巻いて縛ることによって、ロールキャベツとすることを含んでなる。 - 特許庁

This display device is constituted so that a counter electrode potential Vcom corresponding to the interval between a picture signal wiring S1 and a picture signal wiring S3072 has an inclination between the input edge side and the termination side of the scanning signal based on an optimum counter electrode potential to be obtained by a flicker minimum value deciding method.例文帳に追加

フリッカー最小値決定法で求められる最適対向電極電位に基いて、走査信号の入力端側と終端側との間、ここでは画像信号配線Ｓ１と画像信号配線Ｓ３０７２との間、に対応する対向電極電位Ｖｃｏｍに傾斜を持たせるように構成する。 - 特許庁

To provide a curvature of field aberration correcting imaging apparatus that can satisfactorily correct curvature of field aberrations of an imaging optical system while suppressing the manufacturing cost, and that can obtain image information such that an image is sharp from the center of a subject to a peripheral edge part, and a curvature of field aberration correcting method.例文帳に追加

製造コストを抑えながら、撮像光学系の像面歪曲収差を良好に補正して、被写体の中心から周縁部まで全体にわたって鮮明な画像情報を取得することができる像面歪曲収差補正撮像装置及び像面歪曲収差補正方法を提供する。 - 特許庁

When a resist film is formed on the upper surface of the substrate 10 by using a spin coating method etc., the resist film falls toward the end surface 10c of the substrate 10 since the inclined surface 11 is provided in the peripheral edge region 10a of the substrate 10, so that swelling 20a of a surface of the resist film 20 is suppressed.例文帳に追加

基板１０の上面にスピンコート法等を用いてレジスト膜を形成すると、基板１０の周縁部領域１０ａにおいては傾斜面１１が設けられているので、レジスト膜が基板１０の端面１０ｃ方向に落ち込み、レジスト膜２０表面の盛り上がり２０ａが抑制される。 - 特許庁

To provide an electrophotographic carrier and a developer, having superior durability and capable of forming a precise image having no edge effect for a long period of time, without inducing color contamination, and to provide an image forming method that uses the developer, a process cartridge and an image forming apparatus mounting the process cartridge.例文帳に追加

耐久性に優れ、エッジ効果の生じないキメの細かい画像を長期にわたり形成することができ、色汚れの生じない良好な電子写真用キャリア及び現像剤を提供すること、また、該現像剤を用いた画像形成方法、プロセスカートリッジ、及び該プロセスカートリッジを搭載した画像形成装置。 - 特許庁

To provide a plinth block, a foundation, and a base, and a structure and a method of joining the base to a structure body capable of easily connecting in short time the base adjacent to an entrance floor to the structure body such as floor members, edge members, and foundation in an increased airtight state.例文帳に追加

玄関土間に隣接する基礎と、この基礎上に設置される床部材、框材、土台等の構造物本体とを気密性を高めた状態で、容易にかつ短期間で接合することができる台輪、土台、基礎と構造物本体の接合構造および基礎と構造物本体の接合方法を提供すること。 - 特許庁