「etching fluid」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ETCHING FLUID COMPOSITION FOR METAL WIRING FORMATION FOR TFT-LCD例文帳に追加

ＴＦＴ−ＬＣＤ用金属配線形成のためのエッチング液組成物 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF FLUID INJECTION HEAD, MANUFACTURING METHOD OF FLUID INJECTOR AND ETCHING METHOD OF SILICON SUBSTRATE例文帳に追加

流体噴射ヘッドの製造方法、流体噴射装置の製造方法、及びシリコン基板のエッチング方法 - 特許庁

The etching plastic contains carbon dioxide fluid in a supercritical state or liquid state, and an etching solution.例文帳に追加

エッチング化成品は、超臨界状態または液体状態の二酸化炭素の流体と、エッチング溶液とを含む。 - 特許庁

Additionally, the optical fiber 12 is dipped in an etching solution 71 containing etching fluid 74 and an etched part 12'D is etched.例文帳に追加

そして、光ファイバ１２を、腐食液７４を含むエッチング溶液７１に浸し、被エッチング部分１２’Ｄをエッチングする。 - 特許庁

The etching droplet jetting device 10 comprises a two-fluid nozzle 9, an etching liquid pipe 17 and a compressed air pipe 18, which are connected to the two-fluid nozzle 9 and supply etching liquid and compressed air to the two-fluid nozzle 9.例文帳に追加

エッチング液滴噴射装置１０は、二流体ノズル９と、二流体ノズル９に連通接続され、二流体ノズル９にエッチング液および圧縮空気をそれぞれ供給するエッチング液配管１７および圧縮空気配管１８とを含んでいる。 - 特許庁

In the case that the temperature of the etching fluid is 30°, overetched quantity of the bus electrode 4b is relatively small and the inclination angle becomes relatively small compared to the case that the temperature of the etching fluid is 40°.例文帳に追加

蝕刻液の温度が40℃である場合より30℃である場合に、バス電極４bの過蝕刻される量が相対的に少なく、傾斜角が相対的に小さくなる。 - 特許庁

The scrubber device may be provided with a program controller which supplies a non-etching fluid to the frontside of the wafer whenever an etching fluid is supplied to the backside of the wafer.例文帳に追加

このスクラバ装置は、エッチング流体がウェーハの背面に供給されるときにウェーハの前面に非エッチング流体を供給するプログラム制御装置を備えていてもよい。 - 特許庁

To provide an etching fluid composition for metal wiring formation for TFT-LCD.例文帳に追加

ＴＦＴ−ＬＣＤ用金属配線形成のためのエッチング液組成物を提供する。 - 特許庁

Therefore, the etching amount is reduced, and bowing does not readily occur in the fluid channels 15 even in dry etching for an aspect ratio of R10 to R100.例文帳に追加

よって、エッチング量が小さくなり、アスペクト比がＲ１０〜Ｒ１００のドライエッチングでも、液流路１５にボーイングが発生し難い。 - 特許庁

In order to prevent the etching agent from getting into contact with the main surface of a substrate and/or to prevent excessive etching, the edge of the disk is brought into contact with a rinsing fluid (for example, by using a rinsing fluid nozzle or a trough filled with the rinsing fluid).例文帳に追加

エッチング剤が基板の主表面と接触することを防ぎ、かつ／または過度のエッチングを防ぐため、ディスクのエッジをリンス流体に接触させる（例えば、リンス流体ノズルまたはリンス流体で満たされたトラフを用いる）。 - 特許庁

The two-fluid nozzle 9 mixes the supplied etching liquid and air, generates droplets of etching the liquid and can jet them to the substrate W.例文帳に追加

二流体ノズル９は、供給されたエッチング液と空気とを混合してエッチング液の液滴を生成し、ウエハＷに向けて噴射できる。 - 特許庁

In carrying out etching of laminated films consisting of silver or a silver alloy by using an etching solution consisting of mixed acids composed of a phosphoric acid, nitric acid and acetic acid, the etching solution is made to flow and the flow intensity thereof is specified to a range from the fluid intensity at which the etching reaction starts up to the fluid intensity of 67% thereof.例文帳に追加

リン酸・硝酸・酢酸の混酸から成るエッチング溶液を用いて銀または銀合金から成る積層膜のエッチングを行う際に、エッチング溶液を流動させ、その流動強度は、エッチング反応が開始する境界の流動強度からその６７%の流動強度までの範囲であることを特徴とする。 - 特許庁

The etching apparatus comprises: an etching chamber 2 to be filled with an inert gas; and a spray unit 30 for spraying an etching fluid onto the article to be etched in the etching chamber 2 filled with the inert gas.例文帳に追加

不活性ガスが充満されるエッチングチャンバー２と、不活性ガスが充満されたエッチングチャンバー２で、エッチング種を噴射し被加工物に噴霧するスプレー装置３０とを備えているので、スプレー装置の詰りが無く、エッチングばらつきの発生を防止できる。 - 特許庁

To solve such a problem that a conventional etching process for patterning a thin film with fluid causes defects originating from foreign matters precipitated by a treatment fluid which is projected to the back side.例文帳に追加

薄膜パターンを流体によるエッチング処理工程では、裏面に照射した処理流体により異物が析出し、不良の原因となる。 - 特許庁

A substance under a supercritical state, in which the etching reaction species are contained, is used preferably as the treating fluid.例文帳に追加

処理流体としては、エッチング反応種を含有させた超臨界状態の物質が好適に用いられる。 - 特許庁

To reduce the difference in the etching rate between-various silicon oxide films to obtain excellent oxide removing efficiency, and to provide etching fluid useful on forming a cobalt silicide.例文帳に追加

各種酸化シリコン膜間のエッチング速度差が少なく、且つ酸化物の除去効率に優れ、特にコバルトシリサイドを形成する場合に有益なエッチング液を提供する。 - 特許庁

In this way, a mixed fluid containing a pure water liquid drop is ejected from a two-fluid slit nozzles 31 onto the surface of the substrate W where the etching liquid is almost eliminated, thereby substituting washing for substituting the etching liquid by pure water.例文帳に追加

これによって概ねエッチング液が除去された基板Ｗの表面に二流体スリットノズル３１から純水液滴を含む混合流体を吐出することによりエッチング液を純水に置換する置換水洗を行う。 - 特許庁

An article to be treated is exposed in a treating fluid containing etching reaction species, and the treating fluid is kept under a fluidized state to the article to be treated (a fourth step S4).例文帳に追加

エッチング反応種を含有する処理流体に被処理物を晒し、かつ被処理物に対して前記処理流体を流動させた状態に保つ（第４ステップＳ４）。 - 特許庁

Accordingly, an etching is conducted while the treating fluid in the vicinity of the article to be treated is heated intermittently and expanded and shrunk.例文帳に追加

これにより、被処理物近傍における前記処理流体を断続的に加熱して膨張、収縮させつつ、エッチングを行う。 - 特許庁

To provide a silica glass plate for a fluid circulation and its manufacturing method, wherein in particular in a plasma etching device, a reaction efficiency of a plasma etching or the like is good, and it is intended to miniaturize an assembly device of the plasma etching device or the like, and also a perforation process is facilitated.例文帳に追加

特に、プラズマエッチング装置において、プラズマエッチング等の反応効率がよく、プラズマエッチング装置等の組込み装置の小型化が図れ、かつ、孔明け加工が容易な流体流通用シリカガラス板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, all or some of the etching bath 11, etching liquid exhaust pipe 12, first-order reaction settling tank 14, and second-order reaction settling tank 16 are provided with the spraying means 32 through 35 which spray the impurities removal fluid 31 to the etching liquid 1 or etching drain 2, thereby triggering the settling reaction of the impurities 3.例文帳に追加

そして、エッチング槽１１、エッチング液排出管１２、一次反応沈澱槽１４、および二次反応沈澱槽１６の全部または一部に噴射手段３２〜３５を設け、不純物除去流体３１をエッチング液１またはエッチング排液２に噴射して、これらから不純物３が沈殿する反応を誘起する。 - 特許庁

A wet etching system for selectively forming a pattern on the substrate having the region covered with SAM and controlling an etching profile, includes (a) a fluid etching solution, and (b) additives having higher affinity for the region covered with the SAM than for the other region.例文帳に追加

ＳＡＭで覆われた領域を有する基板を選択的にパターン形成し、エッチング・プロファイルを制御する湿式エッチング・システムは、ａ）液状エッチング溶液と、ｂ）ＳＡＭで覆われた領域に対して他の領域よりも高い親和性を有する添加剤とを含む。 - 特許庁

As a result, these mixtures were roughly equal with the mixture prepared by the conventional techniques in the flatness of an etching surface, but the smell of acetic acid disappeared and it has been found that the working environment for manufacturing the etching liquid can be improved because of it and at the same time, recycling becomes easy to promote also about the disposal of the waste fluid of the etching liquid.例文帳に追加

その結果、エッチング面の平滑度ではほぼ同等であったが、酢酸臭が全くなくなり、そのために作業環境が改善出来ることがわかったこと、同時にエッチング液の廃液処理についても再利用が進めやすくなった。 - 特許庁

The first electrode and the second electrode excite the first fluid between the first position and the second position to form a second fluid, and the second fluid carries out surface treatment, activation, cleansing, photoresist ashing, or etching treatment against a material on the base.例文帳に追加

第一電極、第二電極は第一位置と第二位置の間の第一流体を励起して第二流体を生成し、第二流体はベース上の物体に対し表面処理、活性化、洗浄、フォトレジスト灰化、あるいは、エッチング処理を実行する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid jet head capable of forming a fluid channel of a pressure generation chamber or the like by etching with high accuracy.例文帳に追加

圧力発生室等の流路をエッチングにより高精度に形成することができる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

Afterwards, an etching fluid is supplied to the surface 3 and the back 4 of the wafer W, and the surface 3 and the back 4 of the wafer W are etched.例文帳に追加

その後、ウエハＷの表面３および裏面４にエッチング液が供給されて、ウエハＷの表面３および裏面４がエッチングされる。 - 特許庁

The method for processing the substrate comprises a first step for jetting droplet generated by mixing alkaline fluid with gas by a first two-fluid nozzle 48 to the surface of a substrate W, and a second step for jetting droplets generated by mixing hydrochloric acid or etching fluid with gas by a second two-fluid nozzle 80 to the surface of the substrate.例文帳に追加

第１の二流体ノズル４８により、アルカリ性液と気体とを混合して生成される液滴を基板Ｗの表面へ噴射する第１の工程と、第２の二流体ノズル８０により、塩酸またはエッチング液と気体とを混合して生成される液滴を基板表面へ噴射する第２の工程とを有する。 - 特許庁

A first channel 9 communicates with an inflow hole 8 and an outflow hole 7 for etching provided on the cap structure 4, for the passage of an etching fluid 12 to a chamber 3 in which the MEMS element is housed.例文帳に追加

第１の流路９は、エッチング液１２の前記ＭＥＭＳ素子を収納した室３への通路として、前記キャップ構造４上に設けられたエッチングのための流入孔８、流出孔７と連通する。 - 特許庁

Furthermore, the etching apparatus promotes the movement of the etching fluid on the surface of the article to be etched, forms highly anisotropic pits at a higher speed, reduces the undercut, and finely and precisely etches the article, which is required in these days.例文帳に追加

また、被加工物表面でのエッチング種の移送を促進することができるので、より高速で異方性の高いエッチングを可能とし、アンダーカットを小さくし、昨今要求されている微細加工を精度よく行える。 - 特許庁

To provide a environmentally friendly cleaning fluid, capable of preventing corrosion of metal, and simultaneously capable of reducing an etching amount of a polysilicone.例文帳に追加

親環境的であり、金属の腐食を防止することができるのと同時に、ポリシリコンのエッチング量を減らすことができる洗浄液を提供する。 - 特許庁

Fluoric acid vapor is supplied onto the surface of the substrate W by a fluid umbrella nozzle 22 in the etching treatment of an oxide film formed on the substrate W.例文帳に追加

基板Ｗ上に形成された酸化膜のエッチング処理において、流体傘ノズル２２によりフッ酸蒸気が基板Ｗの表面に供給される。 - 特許庁

To provide a processing apparatus and a product manufacturing method for continuously and accurately monitoring a composition of a fluid such as a plating liquid, an etching liquid, etc. by using a simple method.例文帳に追加

めっき液やエッチング液といった流体の組成を簡単な方法で常時的確に監視できる処理装置および製品製造方法を提供する。 - 特許庁

A work as an object of processing is exposed to a processing fluid containing an etching reactant so as to undergo an etching treatment (a third step S3, a fourth step S4), and thereafter a processing chamber is reduced in internal pressure so as to make the processing fluid near the work lower in density than that at the fourth step S4 (a first step S1).例文帳に追加

エッチング反応種を含有する処理流体に被処理物を晒すことにより、当該被処理物のエッチング処理を行い（第３ステップＳ３、第４ステップＳ４）、その後、処理室内を減圧することにより、被処理物の近傍における処理流体の密度を第４ステップＳ４よりも低下させる（第１ステップＳ１）。 - 特許庁

To provide a method for treating an iron chloride based waste fluid capable of effectively recovering indium as a metal or its alloy from an iron chloride based waste fluid using a nitric acid-containing iron chloride based waste fluid not noticed heretofore as a treatment target in treatment of the iron chloride based waste fluid obtained by the etching or acid washing of a liquid crystal substrate or the like.例文帳に追加

液晶基板等をエッチング又は酸洗した塩化鉄系廃液の処理を行うに際し、これまで着目されていなかった硝酸を含有する塩化鉄系廃液を処理対象とし、当該塩化鉄系廃液からインジウムを金属単体又は合金として効果的に回収することが可能な塩化鉄系廃液の処理方法を提供する。 - 特許庁

Further, an environmentally harmful substance such as perchloric acid, an unstable component shortening the life of etching fluid, or a fluorine-based compound which corrodes glass of a substrate is unneeded.例文帳に追加

また、過塩素酸のような環境有害物質、エッチング液の寿命を短縮させる不安定な成分、または基板のガラスを腐蝕させるフッ素系化合物が不要となる。 - 特許庁

Successively, Si_2F_6 deposited on the substrate surface, formed accompanying the etching treatment, can be removed effectively by rinsing the substrate, using a fluid to which methanol or methanol and water are added to SCF as a second treatment fluid.例文帳に追加

続いてＳＣＦにメタノールまたはメタノールと水を添加した流体を第２処理流体として用いて基板をリンス処理することにより、エッチング処理に伴い生成され基板表面に残留付着するＳｉ_２Ｆ_６が効果的に除去される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a new organic electroluminescent element capable of resolving a variety of problems occurring when etching with an etching fluid by using a photoresist, while maintaining the merit of the accuracy of a pattern in a conventional photolithography method.例文帳に追加

従来のフォトリソグラフィー法におけるパターンの精度が優れている点を維持しつつも、フォトレジストを使用してエッチング液によりエッチングする際に生じ得る種々の懸念を極力解消し得る、新たな有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

When the nozzle 18 are formed on the fluid passage substrate 16 by etching, a notch section 34 for exposing the electric signal input/output terminal 32 of the heating element substrate 14 is formed.例文帳に追加

流路基板１６にノズル１８等をエッチングで形成する場合に、発熱素子基板１４の電気信号入出力端子３２を露出させる切欠部３４も形成する。 - 特許庁

Further, as an etchant or a cleaning fluid flows in the groove 12a and overflows therefrom to flow on the back of the wafer 13, too, the etching residue is removed and the shortage of cleaning on the back of the wafer 13 is solved.例文帳に追加

また、エッチング液、洗浄液が溝１２ａを流れ、そこからあふれてウェハ１３の裏面も流れるので、ウェハ１３の裏面のエッチング残り、洗浄不足が解消される。 - 特許庁

An Sio_2 film, formed on a substrate surface can be efficiently removed by etching the substrate using a fluid to which a mixed liquid containing hydrogen fluoride, ammonium fluoride and isopropyl alcohol, is added to supercritical carbon dioxide(SCF) as first treatment fluid.例文帳に追加

超臨界二酸化炭素（ＳＣＦ）にフッ化水素、フッ化アンモニウムおよびイソプロピルアルコールを含む混合液を添加した流体を第１処理流体として用いて基板をエッチング処理することにより基板表面に形成されたＳｉＯ_２膜が効率良く除去される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a finely-processed metallic product, which efficiently processes a metal so as to acquire superior properties with high accuracy by using a binary fluid etching technique of simultaneously spraying both of an etching liquid and a gas from the same nozzle to spray the etching liquid in a mist form, and to provide the finely-processed metallic product made by the manufacturing method.例文帳に追加

金属の微細加工を、同一ノズルからエッチング液と気体の双方を同時に噴射し、エッチング液が霧状に噴射される２流体エッチングにより行う方法において、加工特性が高く、効率よく高精度に行うことのできる金属微細加工製品の製造方法およびその製造方法により作られた金属微細加工製品を提供する。 - 特許庁

In the case that temperature of etching fluid is from 30° to 70°, the bus electrode 5b is overetched from an end of a photoresist pattern 30 by about a second width d2 which is shorter than a first width d1 and becomes to have an inclination angle β of 40° to 49°.例文帳に追加

蝕刻液の温度が30℃である場合、バス電極４bはフォトレジストパターン30の末端から第1幅d１より短い第2幅d２ほど過蝕刻され、約40〜49°の傾斜角βを有するようになる。 - 特許庁

The space layer 12 is formed, by bringing a fluid light-absorbing substance into contact with a side face of the first contact layer 4, and conducting laser etching by emitting laser light from the opposite side thereof.例文帳に追加

この空間層１２は、第１のコンタクト層４の側面に流動性光吸収物質を接触させ、その反対側からレーザ光を照射してレーザエッチングを行なうことにより形成される。 - 特許庁

To provide a cooling device for cooling a supercritical treating fluid few in site near critical point liable to be etched and low in danger even in the case when damage due to the etching is generated by any chance.例文帳に追加

腐食されやすい臨界点近傍の部位が少なく、万が一腐食による破損が生じた場合でも危険性のない超臨界処理流体を冷却する冷却装置を提供する。 - 特許庁

The X-ray reflection device includes a plurality of curved slits, formed by dry etching a silicon wafer and an X-ray reflection plane, formed by grinding each sidewall of the plurality of slits using a magnetic fluid.例文帳に追加

Ｘ線反射装置は、シリコンウェハをドライエッチングして複数の曲線状のスリットを形成し、前記複数のスリットの各側壁を磁性流体を使って研磨してＸ線反射面を形成して得られる。 - 特許庁