「laser pulse method」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of performing optical laser abrasion machining by using the laser beam from the laser oscillator 1 which continuously radiates light pulses of the large spatial intermittent energy density in the pulse radiation time below 1 pico second is so constituted that the laser beam from the laser oscillator 1 is divided 3 to plural beams and plural workpieces are simultaneously irradiated with the lasers by means of discrete optical systems by each of the respective divided beams.例文帳に追加

１ピコ秒以下のパルス放射時間で空間的時間的なエネルギー密度の大きい光パルスを連続放射するレーザ発振器１からのレーザ光を用いて光アブレーション加工を行う方法において、レーザ発振器１からのレーザ光を複数ビームに分割３し、これらの分割された各ビーム毎に個別の光学系を介して複数の被加工物を同時にレーザ照射し、加工するように構成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a plastic structural body having a structurally changed part precisely controlled without producing deteriorations such as void or crack by irradiating a plastic material with a super short pulse laser having ≤10^-12 sec pulse width even if the plastic material is a material easily producing deteriorations such as void or crack.例文帳に追加

プラスチック材料がボイドや亀裂等の劣化が生じやすい材料であっても、パルス幅が１０^−１２秒以下の超短パルスレーザーの照射により、ボイドや亀裂などの劣化を生じさせずに、精密に制御された構造変化部を有するプラスチック構造体を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and device for generating an ultrashort pulse light using a Raman resonator by which the rotation Raman spectrum resonating in the resonator can be preferentially generated, the threshold for the generation of the rotation Raman spectrum is decreased to increase the efficiency, higher order rotation Raman spectra can be generated and an ultrashort pulse laser light can be obtd.例文帳に追加

共振器内で共鳴する回転ラマン線を優先的に発生させることができるとともに、回転ラマン線の発生の閾値を下げ、効率を上げることができ、高次回転ラマン線を発生させ、超短パルスレーザー光を得ることができるラマン共振器を用いる超短パルス光発生方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a simplified and/or improved method for guaranteeing reliable identification display, and provide a device for responding to detection and identification of a signal, double, or multiple pulse state in soliton mode ultrashort pulse laser having optimized design and the desired number of components in regards to increased robustness, and compactness.例文帳に追加

信頼性のある識別表示を保証する簡易化された及び／又は改良された方法と、増加したロバスト性とコンパクトさに関して最適化された設計と所望のコンポーネント数を有する、ソリトンモードの超短パルスレーザーにおける単一、二重、又は多重パルス状態の検出と識別のための対応する装置とを提供すること - 特許庁

The inorganic material working method includes a step (A) in which continuous cracks are generated in a substrate formed of an inorganic material by irradiation with pulse laser beams so that a part of the irradiation range for each pulse overlaps each other, and a degenerated area is formed in peripheral parts of the cracks, and a step (B) of etching the degenerated area.例文帳に追加

（Ａ）パルスレーザー光をパルス毎の照射範囲の一部が重なりあうように照射することで無機材料基板に連続する亀裂を生じさせるとともに該亀裂の周辺部に変質領域を形成させる工程、及び（Ｂ）該変質領域をエッチング処理する工程を含む無機材料の加工方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device includes the steps of adding a rare gas to the semiconductor film formed on the surface of an insulator by using an ion doping method, and irradiating the semiconductor film in which the rare gas is added with a laser beam of a pulse oscillation in a rare gas atmosphere.例文帳に追加

絶縁表面上に形成された半導体膜に、イオンドーピング法を用いて希ガスを添加し、希ガスの雰囲気下において、希ガスが添加された半導体膜にパルス発振のレーザ光を照射することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a beam machining method, a device therefor and a manufacturing method of a touch panel substrate by which uniform machining small in scattering of a machining dimension is realized even when a speed of an object to be machined is changed in the case of machining by using a pulse laser beam.例文帳に追加

パルスレーザ光を用いて加工する場合に、加工対象物の速度が変化するときでも加工寸法のバラツキが少ない均一な加工を実現することができるビーム加工方法及びその装置、並びにタッチパネル基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the resin material coated with high resistivity metallic thin film includes a thin film formation process for forming the high resistivity metallic thin film containing Al and Mg on the surface of the resin base materia by a pulse laser deposition method using a target divided into a metal Al region and a metal Mg region.例文帳に追加

金属Ａｌ領域と金属Ｍｇ領域に分割されたターゲットを用いて、パルスレーザーデポジション法により、樹脂基材表面にＡｌ及びＭｇを含む高抵抗金属薄膜を形成する薄膜形成工程を備えた高抵抗金属薄膜被覆樹脂材料の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of reducing noise generated when exciting a transformer iron core produced using a grain-oriented electromagnetic steel sheet, in a method of manufacturing the steel sheet for reducing iron loss by irradiating a surface with a pulse laser and forming irradiation marks in a point sequence shape on the surface.例文帳に追加

パルスレーザを表面に照射して該表面上に点列状の照射痕を形成することにより鉄損を低減させる方向性電磁鋼板の製造方法において、該鋼板を用いて作製した変圧器鉄心を励磁する際に発生する騒音を低減する方途を提供する。 - 特許庁

The method for forming the thin film of diamond-like carbon on the substrate by a pulsed laser deposition method using the polymer as a target, is characterized by employing a linear structured polymer having a benzene ring in the molecule as a target, and irradiating the target with an ultraviolet-light pulsed laser having a pulse width of 50 ns or less.例文帳に追加

ポリマーをターゲットとして使用するパルスレーザーデポジション法によって基板上にダイヤモンド様炭素薄膜を形成する方法において、分子内にベンゼン環を有する線状構造ポリマーをターゲットとして使用し、これにパルス幅が５０ｎｓ以下の紫外光パルスレーザーを照射することを特徴とするダイヤモンド様炭素皮膜の形成方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the ferroelectric memory comprises the irradiation of pulse type laser beam 70 from the upper part of the ferroelectric capacitor 105 under a condition that at least the ferroelectric capacitor 105 is formed on a substrate 10.例文帳に追加

本発明に係る強誘電体メモリの製造方法は、基板１０上に少なくとも強誘電体キャパシタ１０５が形成された状態で、当該強誘電体キャパシタ１０５の上部からパルス状のレーザー光７０を照射すること、を含む。 - 特許庁

In the manufacturing method of the photoelectric conversion element which carries out photoelectric conversion, the photoelectric conversion element contains at least one transparent electrode film fabricated by a plasma-free EB evaporation or pulse laser evaporation apparatus.例文帳に追加

光電変換を行う光電変換素子の製造方法であって、前記光電変換素子が少なくとも１つの透明電極膜を有しており、前記透明電極膜をＥＢ蒸着装置またはパルスレーザー蒸着装置によってプラズマフリーで作製する。 - 特許庁

According to this method, pulse laser light is made to irradiate vertically or obliquely the joining surfaces of a frit glass part 4 jointing a panel part 2 of a cathode-ray tube with a funnel part 3 thereof, thereby instantaneously decomposing/vaporizing the frit glass (ablation).例文帳に追加

本発明の分離処理方法では、陰極線管のパネル部とファンネル部とを接合するフリットガラス部の接合面に対して、垂直方向または斜め方向からパルスレーザー光を照射し、フリットガラスを瞬間的に分解・蒸発させる（アブレーション）。 - 特許庁

To provide a method for dividing a wafer capable of establishing the process of forming a deteriorated layer in the wafer along a predetermined division line using a pulse laser beam, dividing the wafer into individual chips along the deteriorated layer and picking up the divided chips.例文帳に追加

パルスレーザー光線を用いてウエーハの内部に分割予定ラインに沿って変質層を形成し、この変質層に沿って個々のチップに分割するとともに、分割されたチップをピックアップするプロセスを確立することができるウエーハの分割方法を提供する。 - 特許庁

This method is characteristic of the relative displacement of a convergent point by the convergent irradiation of the compound semiconductor glass and pulse laser having the compound semiconductor consisting of more than two kinds of element in an expected position of the glass continuously and cyclically.例文帳に追加

２種以上の元素からなる化合物半導体を、ガラスの所望する位置に、連続的および／または周期的に有する化合物半導体ガラス、および、パルスレーザを集光照射し集光点を相対移動することを特徴とする該ガラスの製造方法。 - 特許庁

A method is provided which is employed to treat onychomycosis one or more small orifices bored to cross over the whole of a nail plate or etch it, for instance, by using of a pulse laser beam, and a composition containing an antifungal such as terbinafine administrated to the nail.例文帳に追加

全体の爪甲を横切るか爪甲をエッチングする、一つもしくはそれ以上の小さいオリフィスを例えばパルスレーザービームにより形成し、そして例えば抗真菌剤を、例えばテルビナフィンを、含有する組成物を爪に投与することにより、爪甲真菌症を処置する方法を提供する。 - 特許庁

The recording method for the optical information recording medium which records and reproduces information by using laser light is characterized by that projection parts are provided at respective rise parts of a recording waveform in pulse-train format.例文帳に追加

レーザ光を用いて情報の記録および再生を行う光情報記録媒体の記録方法であって、パルストレイン形式の記録波形のそれぞれの上昇部に凸部を設けたことを特徴とする光情報記録媒体の記録方法である。 - 特許庁

There is provided a method for treating onychomycosis by forming with e.g. pulse laser beam, one or more small orifices traversing the entire nail plate or etching the nail plate, and administering to the nail, a composition containing e.g. an antifungal, e.g. terbinafine.例文帳に追加

全体の爪甲を横切るか爪甲をエッチングする、一つもしくはそれ以上の小さいオリフィスを例えばパルスレーザービームにより形成し、そして例えば抗真菌剤を、例えばテルビナフィンを、含有する組成物を爪に投与することにより、爪甲真菌症を処置する方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming periodic structures includes a nozzle hole plate 20 which is made of metallic materials and whose outer surface is irradiated with and scanned by a pulse laser to form and radially extend periodic grooves 250, which are composed of a plurality of fine rows of grooves, on the outer surface.例文帳に追加

周期構造の形成方法では、金属材料からなる噴孔プレート２０の外表面にパルスレーザーを照射及び走査して、微細な複数列の溝からなる周期溝２５０が外表面において放射状に延びるように形成するものである。 - 特許庁

The method of manufacturing the thin-film transistor loading board includes at least a step of forming an amorphous oxide thin film 13 as the active layer on the plastic board 10 or above the plastic board, and the step of irradiating the amorphous oxide thin film 13 in at least the active layer with a pulse laser 20.例文帳に追加

プラスチック基板１０の上又はその上方に活性層となるアモルファス酸化物薄膜１３を形成する工程と、少なくとも活性層となる部分のアモルファス酸化物薄膜１３に向けてパルスレーザー２０を照射する工程とを少なくとも有する。 - 特許庁

To provide stable recording performance in high speed recording by decreasing the number of transmission lines from a conventional transmission method and by circumventing deterioration of recording performance due to transmission line properties at increase of the recording speed, when recording pulse information is transmitted to a laser driver on an optical pickup in an optical disk.例文帳に追加

光ディスクで、ピックアップ上のレーザードライバへの記録パルス情報を伝送する際に、従来の伝送方法から伝送線路数を減少させ、かつ記録速度の高速化において伝送路特性による記録性能の劣化を回避して高速記録における安定した記録性能を提供する。 - 特許庁

A region except a partial region of the electrically conductive layer 21 is masked, and the electrically conductive layer 21 is coated with a carbon film 13 made of any of a graphite film; a diamond-like carbon (DLC) film; or a diamond film by a pulse laser deposition (PLD) method.例文帳に追加

そして、当該導電層２１の一部領域を除く領域をマスキングして、パルスレーザーディポジション（ＰＬＤ）法などによって、前記導電層２１をグラファイト膜、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、ダイヤモンド膜の何れかからなるカーボン膜１３でコーティングする。 - 特許庁

The processing method for patterning the thin film subjects a piezoelectric film composed of the thickness several μm formed on the substrate to microfabrication by irradiating the piezoelectric film with a laser of an oscillation wavelength near 500 nm and a pulse width of pico second or below at ≥20 GW/cm^2 per unit area from the piezoelectric film side.例文帳に追加

基板上に形成された厚さ数μｍからなる圧電素子膜に対し、前記圧電素子膜側から発振波長が５００ｎｍ近傍でパルス幅がピコ秒以下のレーザを単位面積当り２０ＧＷ／ｃｍ^２以上で照射を行い前記圧電素子膜に微細加工を施すことで解決できる。 - 特許庁

In order to manufacture the optical delay circuit, a method is used by which a prescribed part on an optical waveguide substrate 1 is irradiated with a femtsecond laser light of which the pulse width is 1 ps or shorter and a waveguide is formed by changing the refractive index of the focused point.例文帳に追加

このような光遅延回路を製造するためには、光導波路基板１の所定の部位にパルス幅が１ｐｓ以下のフェムト秒レーザ光を照射し、該集光点における屈折率を変化させることにより光導波路を形成する方法を用いることができる。 - 特許庁

A sonic wave is generated along the surface or inside of a substance by a theory of an induction light scattering method using a short pulse laser and the sonic speed of the sound wave, which is formed from the time response of reflected or diffracted light when probe light is applied to the sound wave formed place, and heat conductivity are measured at the same time.例文帳に追加

本発明では、短パルスレーザーを用いた誘導光散乱法の原理にて物質の表面または内部に音波を生成し、その場所にプローブ光を入射した際の反射光または回折光の時間応答から生成した音波の音速と熱伝導率の同時測定を行う方法である。 - 特許庁

The conductive pattern manufacturing method irradiates a laser beam L of an ultrashort pulse whose width is less than 1 picosecond in a predetermined pattern to a light-permeable conductive layer a including an ultrafine inorganic conductive fiber provided in at least one side of an insulating base material 11 via condensing means 42.例文帳に追加

本発明の導電パターンの製造方法は、絶縁性基材１１の少なくとも一方の面に設けられた、極細の無機導電繊維を含む光線透過性導電層ａに、集光手段４２を介してパルス幅１ｐ秒未満の極短パルスのレーザ光Ｌを所定のパターンで照射する。 - 特許庁

In the method and a device for adjusting the resistance of a resistor, the core diameter of an optical fiber 25 is selected and a cut groove 7 is formed in the resistance adjusting part 6 on the resistor film 3 of a resistor 10 using YAG pulse laser light.例文帳に追加

抵抗器の抵抗値を調整する抵抗調整方法及び抵抗調整装置にＹＡＧパルスレーザ光を用いて光ファイバ２５のコア径を選択して抵抗器１０の抵抗膜３上の抵抗調整部６にカット溝７を形成する。 - 特許庁

This hair discoloring method is characterized in that pulse laser light whose wavelength is 600 to 1,200 nm is irradiated to hair on condition that fluence is 1x10^-11 to 0.1 J/cm^2, and energy rigidity is 50 W/cm^2 to 2G W/cm^2.例文帳に追加

本発明の脱色方法は、毛髪に、波長６００〜１２００ｎｍのパルスレーザー光を、フルエンスが１×１０^−１１〜０．１Ｊ／ｃｍ^２、且つ、エネルギー強度が５０Ｗ／ｃｍ^２〜２ＧＷ／ｃｍ^２となる条件で照射することを特徴とする。 - 特許庁

At a first process of the method for working the catheter, parts where a first group of wires W_a crosses with a second group of wires W_b above and below, that is a mesh cross part, in the metal mesh 34 in an area E to be welded which is set at the distal end of the catheter 30 are irradiated with a pulse laser beam for welding.例文帳に追加

第１工程では、カテーテル３０の先端部に設定された溶接領域Ｅ内の金属メッシュ３４において第１組のワイヤＷ_aと第２組のワイヤＷ_bとが上下に交差する部分つまりメッシュ交差部に、溶接用のパルスレーザ光を照射してスポット溶接を施す。 - 特許庁

In the manufacturing method of a conductive pattern forming substrate, a laser beam L of extremely short pulses with the pulse width being less than 1p second is irradiated in a given pattern on a transparent conductive layer A_1, made of an organic conductor formed on at least one surface of a transparent base material A_2.例文帳に追加

本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、透明基材Ａ_２の少なくとも一方の面に形成された有機導電体製の透明導電層Ａ_１に、パルス幅１ｐ秒未満の極短パルスのレーザ光Ｌを所定のパターンで照射する。 - 特許庁

To provide an information recording method and an information recording device to a super-resolution optical recording medium capable of optimizing recording pulses, when applying laser beams modulated in recording pulse trains according to recording data when recording onto the super-resolution optical recording medium.例文帳に追加

超解像光記録媒体への記録時に、記録データに応じて記録パルス列に変調されたレーザ光を照射する際の、記録パルスを最適化することができる超解像光記録媒体への情報記録方法及び情報記録装置を提供する。 - 特許庁

In a two-photon optical micro-shaping method, the beam from a near infrared pulse laser beam source is passed through a mirror scanner and condensed to the interior of a photosetting resin using a lens to induce two-photon absorption to cure the resin only in the vicinity of a focal point.例文帳に追加

近赤外パルスレーザ光源からの光をミラースキャナーを通した後、レンズを用いて光硬化性樹脂中に集光させ、２光子吸収を誘起することによって焦点近傍のみにおいて樹脂を硬化させることを特徴とする２光子マイクロ光造形方法。 - 特許庁

The circuit forming method for the three-dimensional circuit forming board forms a circuit by forming a conductive thin film 2 consisting of a conductor on an insulating base material 1, and removing a non-circuit part 11 of the thin film 2 by using an ultra short pulse laser.例文帳に追加

３次元回路形成基板において、絶縁性基材１上に導電体からなる導体薄膜２を形成し、この導体薄膜２の非回路部分１１をレーザにより除去して回路を形成する超短パルスレーザを用いた回路形成方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the light receiving element with the reflective structure includes the processes of: forming the photoelectric conversion layer of the Si crystal on the substrate; and changing the part of the Si crystal forming the photoelectric conversion layer into the a-Si layer by laser irradiation using a short-pulse laser and forming the reflective structure composed of the multilayer film of a-Si/c-Si.例文帳に追加

また、反射構造を備えた光受光素子の製造方法を、 基板上にＳｉ結晶による光電変換層を形成する工程と、 前記光電変換層を形成するＳｉ結晶の一部を、短パルスレーザによるレーザ照射によってａ−Ｓｉ層に変質させ、ａ−Ｓｉ／ｃ−Ｓｉによる多層膜で形成された反射構造を形成する工程と、 を有する構成とする。 - 特許庁

Next, the implantation surface is irradiated with a YAG laser by the double pulse method to activate phosphor implanted in the semiconductor substrate 1 electrically, and the crystal defects in a region from the irradiation surface of laser light to a depth corresponding to 5-30% of a thickness of the whole thinned wafer are recovered, thus the soft recovery is achieved.例文帳に追加

次いで、その注入面にダブルパルス法でＹＡＧレーザを照射し、半導体基板１の中に注入されたリンを電気的に活性化させるとともに、レーザ光の照射面から、薄板化されたウェハー全体の厚さの５〜３０％に相当する深さまでの領域の結晶欠陥を回復させて、ソフトリカバリーとする。 - 特許庁

Then, YAG laser is irradiated by the double pulse method in the implantation side so as to electrically activate the phosphorus implanted in the semiconductor substrate 1, and therewith to recover the crystal defects in the region from the irradiated plane by the laser ray to the depth corresponding to 5-30% of the whole thickness of the thinned wafer, thus making it a soft recovery.例文帳に追加

次いで、その注入面にダブルパルス法でＹＡＧレーザを照射し、半導体基板１の中に注入されたリンを電気的に活性化させるとともに、レーザ光の照射面から、薄板化されたウェハー全体の厚さの５〜３０％に相当する深さまでの領域の結晶欠陥を回復させて、ソフトリカバリーとする。 - 特許庁

In the method for machining a material by super-short pulse laser beams, a circuit substrate 3 with metal layers 2a and 2b and an organic material layer 1 laminated thereon and an electronic circuit formed in a plurality of layers is irradiated with femto-second laser beams 11 to form an aperture 5 to arrange a conductor to connect the electronic circuits on each layer to each other.例文帳に追加

本発明の超短パルスレーザーによる材料加工方法においては、金属層２ａ、２ｂと有機材料層１とが積層されかつ複数層に亘って電子回路が形成された回路基板３に対してフェムト秒レーザー１１を照射して、各層の電子回路を互いに接続する導体を配線するための孔５を形成する。 - 特許庁

To realize a method for laser ionization mass spectrometry that performs operations such as classification of spectra according to pulses and computation with use of a signal of ions (index ions) generated through interaction between pulse laser light and either the surface of a substrate or the interface between a sample and the substrate and thereby attempts to extract a desired signal and filter out undesirable background noise, and to realize a substrate for the sample.例文帳に追加

パルスレーザー光と基板の表面または試料と基板の界面との相互作用により発生するイオン（指標イオン）の信号を利用してパルス毎のスペクトルに分類または演算などの操作を施し、望ましい信号の抽出や望ましくないバックグラウンドノイズの除去を行うようにしたレーザーイオン化質量分析法及びその試料用の基板を実現する。 - 特許庁

In the recording and reproducing method, (1) when recording or reproduction is made by radiating the phase-change optical information recording medium, which has at least a recording layer on a substrate having a spiral or concentric guiding groove, with a condensed laser beam in a pulse form, a laser beam spot form on the recording medium is changed at recording and at reproduction.例文帳に追加

（１）螺旋又は同心円状の案内溝を有する基板上に、少なくとも記録層を有する相変化型光情報記録媒体に対し、集光したレーザービームをパルス状に照射して記録再生を行うに当り、記録媒体上でのレーザービームスポット形状を記録時と再生時とで変える記録再生方法。 - 特許庁

To provide a pattern drawing method and a pattern drawing device which are capable of realizing uniform exposure without elongating a drawing time even if an energy variation is large in the pulse laser beam of a light source when a gray scale is reproduced through the frequency of overlapping spots in the laser beam drawing device using a digital mirror device.例文帳に追加

デジタルミラーデバイスを用いたレーザビーム描画装置におけるスポットの多重回数でグレースケールを再現する場合に、光源のパルスレーザ光のエネルギーばらつきが大きくても、描画時間が長くならずに、均一な露光量を得ることが可能なパターン描画方法、及びパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the plastic circuit element irradiates the electric conduction part provided at the plastic structure with the laser with a pulse width of ≤10^-12 sec in the state of focusing on it, to partially dissociate and cut off the electric conduction part to form the electric conduction circuit by the laser non-irradiation part in the electric conduction part.例文帳に追加

また、プラスチック回路素子の製造方法は、パルス幅が１０^−１２秒以下のレーザーを、プラスチック構造体に設けられている電気導通部に焦点を合わせて照射し、電気導通部を部分的に解離切断して、前記電気導通部におけるレーザーの非照射部により電気導通回路を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a polysilicon thin film for TFTs, in which a combination of a continuous-wave laser beam having a wavelength range of red light to near-infrared light and a pulse laser beam having a wavelength range of visible light to ultraviolet light is used to transform an amorphous silicon thin film deposited on a substrate into a polycrystalline silicon thin film.例文帳に追加

赤色から近赤外線領域の連続発振レーザビームと可視光線から紫外線領域のパルスレーザビームを組み合わせ、基板上に蒸着された非晶質状態のシリコン薄膜を多結晶状態のシリコン薄膜に変換するＴＦＴ用多結晶シリコン薄膜を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a joining method capable of maintaining a stable joined state without causing any cracks or joining deviation due to ambient temperature and secular change, in the method of joining two members using a filament region that is generated in a non-joining substance by ultrashort light pulse laser beam, and also to provide a method of manufacturing a joined body by using this method.例文帳に追加

超短光パルスレーザービームにより非接合物質内で生じるフィラメント領域を用いて２つの部材を接合する方法において、環境温度や径時変化によってクラックや接合外れが生じることのない、安定した接合状態を維持できる接合方法、および、これを用いた接合体の製造方法を得ること。 - 特許庁

An amorphous oxychalcogenide system thin film 102 is grown on a substrate 101 comprising a YSZ substrate, a MgO substrate, or the like, by the pulse laser deposition method and the sputtering method, and a single-crystal oxychalcogenide system thin film 103 is formed by crystallizing the amorphous oxychalcogenide system thin film 102 by the reactive solid-phase epitaxial growth method.例文帳に追加

ＹＳＺ基板やＭｇＯ基板などからなる基板１０１上にパルス・レーザ・デポジション法やスパッタリング法などによりアモルファスオキシカルコゲナイド系薄膜１０２を成長させ、このアモルファスオキシカルコゲナイド系薄膜１０２を反応性固相エピタキシャル成長法により結晶化させることにより単結晶オキシカルコゲナイド系薄膜１０３を形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing ferroelectric thin film comprises a process to form a fine crystal core 40 of an oxide, by irradiating an amorphous oxide thin film 30 formed on a substrate 10 with pulse layer beam or lamp beam and a process to form a ferroelectric 50, through crystallization of the oxide by irradiating the thin film including fine crystal core 40 with the pulse laser beam or a lamp beam.例文帳に追加

本発明に係る強誘電体薄膜の形成方法は、基板１０上に形成された非晶質の酸化物薄膜３０にパルス状のレーザー光またはランプ光を照射して当該酸化物の微結晶核４０を形成する工程と、前記微結晶核４０を有する薄膜にパルス状のレーザー光またはランプ光を照射して前記酸化物を結晶化させて強誘電体５０を形成する工程と、を含む。 - 特許庁