| 例文 |
layer processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3235件
Based on the decision results by the decision means, a control means carries out processing about a function assigned to the layer wherein the detection target is positioned.例文帳に追加
制御手段は、判定手段の判定結果に基づいて、検出対象物が位置しているレイヤに割り付けられている機能についての処理を行う。 - 特許庁
An antireflection processing layer is formed by bonding a film with minute irregularity to at least a player side face 90a of the bulged section 90.例文帳に追加
膨出部90の少なくとも遊技者側面90aには、微小な凹凸を有するフィルムを貼り付けてなる反射防止処理層が設けられている。 - 特許庁
A cavity is formed between the electric wiring and the substrate at a part of the wiring in a length direction by removing a surface layer part of the substrate with wet processing.例文帳に追加
基板の表層部をウェット処理で除去することにより、配線の長さ方向の一部において、配線と基板との間に空洞を形成する。 - 特許庁
After the principal plane of the sapphire substrate having the (11-22) semipolar plane is subjected to unevenness processing, the AlN, GaN, or AlGaN buffer layer is formed.例文帳に追加
(11−22)半極性面を有するサファイヤ基板の主面上に、凹凸加工を施した後、AlN,GaN又はAlGaNバッファ層を形成する。 - 特許庁
To provide the silver halide photographic sensitive material superior in rigidity and improved in occurrence of edge stains and adhesion of an emulsion layer at the time of development processing.例文帳に追加
剛度に優れるとともに、現像処理した場合のエッジ汚れと乳剤層膜付きが改善されたハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁
This substrate 2 is manufactured by a method of successive alignment processing in three mutually different directions D1, D2, and D3, of the aligning layer 8 after disposition of the projection 9.例文帳に追加
この基板2は、突起9配置後の配向膜8を、相異なる3方向D1,D2,D3に順次配向処理する方法により製造される。 - 特許庁
Since a three-layer ciphered communication protocol is used for carrying out the radio communication between the on-vehicle device and the server 1, the processing load of cipher communication is reduced.例文帳に追加
車載装置と料金サーバ1との間の無線通信には、3層の暗号化通信プロトコルを使用するので、暗号通信の処理負荷が小さくなる。 - 特許庁
To provide a substrate layer and a pressure-sensitive adhesive sheet suitable for use in processing aggregates of electronic components such as cutting and polishing and a manufacturing process of electronic components using them.例文帳に追加
電子部品集合体の切断・研削等の加工に適した基材層、粘着シート、およびそれを用いた電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
Since the build-up 52 is transported abutting on the turn guide in a development processing stage, the occurrence of the film peeling of the emulsion layer 50 is suppressed.例文帳に追加
この盛り上がり部52が、現像処理工程におけるターンガイドに当たって搬送されるため、乳剤層50の膜剥がれの発生が抑えられる。 - 特許庁
A portion 8 where the frame 3 passes through, in the wet layer 6 is subjected to the oil-repelling processing, and the other oil-dipping part 10 is impregnated with viscous oil.例文帳に追加
ウェット層6の中で、枠体3が貫通する部分8に撥油加工を施し、残りの浸油部10にはビスカスオイル等の油を含浸させる。 - 特許庁
Consequently, recesses 65 and 67 are formed by etching processing on the surface opposite to the overcoat 55 set at the end by the side of the magneto-resistance effect film of the electrode layer.例文帳に追加
これにより、電極膜の磁気抵抗効果膜側の端部における、保護膜55と対向する面には、エッチング加工された凹部65、67が形成される。 - 特許庁
The substrate processing apparatus inspects whether the trial coated layer 900 is uniformly formed in accordance with the thickness and judges the condition of a slit nozzle 41.例文帳に追加
基板処理装置は、当該厚さ寸法に基づいて試行塗布層900が均一に形成されているかを検査し、スリットノズル41の状態を判定する。 - 特許庁
In the case of receiving the request of the agent advertisement message, the high-order layer processing part 132 prepares the agent advertisement message and outputs it to the transmission part 134.例文帳に追加
上位レイヤ処理部132は、エージェント広告メッセージの要求を受け取った場合、エージェント広告メッセージを作成して送信部134に出力する。 - 特許庁
To provide a method for recirculating slurry continuously during CMP processing without causing any damage on the layer of a semiconductor wafer and/or contamination thereof.例文帳に追加
半導体ウエファの層を損傷および/または汚染することなく、スラリーをCMP処理中に連続的に再循環する方法を提供する。 - 特許庁
Particularly a preferred photoresist can exhibit reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting the resist layer during immersion lithography processing.例文帳に追加
本発明の特に好ましいフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中のレジスト層と接触する液浸液中への、レジスト物質の滲出を低下させることができる。 - 特許庁
To prevent the serious problem that results in sticking and cutting of an ink ribbon by printing a coloring matter layer after overcoating when a print processing of a thermal sublimation type printer is performed.例文帳に追加
熱昇華型プリンタの印刷処理時にオーバーコート後に色素層を印刷してインクリボンの貼り付き、切断に至る重大問題を未然に防ぐ。 - 特許庁
To prevent generation of portion which is not subjected to rubbing processing due to irregularity formed on the surface of alignment layer of a TFT substrate or an opposite substrate.例文帳に追加
TFT基板または対向基板の配向膜表面に形成された凹凸に起因して、ラビング処理が施されない部分が生ずることを防止する。 - 特許庁
To provide a shrink label having a printed layer which is hardly changed in color due to whitening or the like even after shrink processing and has a superior metal brilliance.例文帳に追加
シュリンク加工後も、白化などにより色目が変化しにくく、かつ、優れた金属光沢を有する印刷層を有するシュリンクラベルを提供する。 - 特許庁
Alignment processing is performed on each alignment film on the first substrate and the second substrate so that a liquid crystal molecule of the liquid crystal layer is twisted in a first direction.例文帳に追加
第1基板及び第2基板は、液晶層の液晶分子を第1方向へ捻れさせるように各配向膜への配向処理の方向を配置される。 - 特許庁
To divide a workpiece by performing laser processing for forming a reformed layer in the workpiece even when the workpiece has unevenness on an incident surface for pulsed laser.例文帳に追加
パルスレーザーの入射面に凹凸が存在するワークであっても、ワークの内部に改質層を形成するレーザー加工を行ってワークを分割すること。 - 特許庁
Calendar processing carried out all the way while a magnetic recording medium 20 having a magnetic layer coated on a surface is pressed between a pair of metal rolls 11 and 12.例文帳に追加
表面に磁性層などが塗布された磁気記録媒体20を1対の金属ロール11,12間に加圧しながら通してカレンダー処理をおこなう。 - 特許庁
Particularly preferred photoresists can exhibit reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting the resist layer during immersion lithography processing.例文帳に追加
本発明の特に好ましいフォトレジストは、液浸リソグラフィー工程中にレジスト層に接触する浸漬流体中へのレジスト物質の浸出を低減することができる。 - 特許庁
The conductive path forming parts are obtained by laser processing of an conductive elastomer layer containing the ultraviolet ray absorbing material by an ultraviolet ray laser.例文帳に追加
導電路形成部は、紫外線吸収物質を含有する導電性エラストマー層を、紫外線レーザーによってレーザー加工することによって得られる。 - 特許庁
The nitrogen introduction layer 7 is formed by implanting ion on the entire surface of the substrate, and then by thermally processing the substrate 1 to activate nitrogen.例文帳に追加
窒素導入層7は、基板1の全面に窒素をイオン注入し、続いて基板1を熱処理して窒素を活性化することによって形成される。 - 特許庁
The photosensitive layer 4 is irradiated with processing light 7 after transmission through the microlenses 3 from one side in the thickness direction to form projection probes 5 at the substrate 2.例文帳に追加
この基板2に、厚み方向一方側から、マイクロレンズ3を透過させて感光層4に処理光7を照射して突起プローブ5を形成する。 - 特許庁
A radio station at an access point transmits the information for connection processing with an upper layer while including it in a beacon or data at a specified timing from the beacon.例文帳に追加
アクセスポイントの無線局は、上位層の接続処理のための情報がビーコンや、ビーコンから所定のタイミングのデータ中に含めて送信する。 - 特許庁
To provide a technology of eliminating an alteration layer including SiC formed on the surface of silicon by plasma processing while minimizing erosion to the silicon surface.例文帳に追加
プラズマ処理によりシリコン表面に形成される、SiCを含む変質層を、シリコン表面の侵食を最小限に抑止しながら除去する。 - 特許庁
Hereby, an enzyme reaction and an electrode reaction in the reaction layer 9 are proceeded smoothly, to thereby quicken the analysis processing and to improve an analysis efficiency.例文帳に追加
従って、反応層9による酵素反応と電極反応とが円滑に進み、分析処理の迅速化と分析効率の向上を図ることができる。 - 特許庁
The processing object page of the original electronic document is imposed according to the content of the layer attribute DB 601 and an imposition method designated by a user.例文帳に追加
そして、レイヤー属性DB601の内容とユーザにより指定された面付け方法とに従って、元の電子文書の処理対象のページを面付けする。 - 特許庁
After etching processing, an overcoat 55 for preventing electromigration is covered for the etching prevention overcoats, the exposed part of the electrode layer, and the magneto-resistance effect film.例文帳に追加
エッチング加工後に、エッチング防止用保護膜、電極膜の露出した部分及び磁気抵抗効果膜に対してエレクトロマイグレーション防止用保護膜55を被覆する。 - 特許庁
To provide a method and a device for forming a pattern type photoresist layer capable of shortening a cycle time and a re-processing time in a pattern transfer process.例文帳に追加
パターン転写処理のサイクル時間および再処理時間を短縮することのできるパターン状フォトレジスト層の形成方法および装置を提供する。 - 特許庁
The improved ground A is formed by performing rolling processing on its upper surface 10 after mixing sand 2, an improving material 2 or a solidifying material in the ground 1 of a lower layer.例文帳に追加
下層の地盤1に、砂2及び改良材3又は固化材を混合した後、その上面10を転圧処理して改良地盤Aを形成する。 - 特許庁
A plurality of transfer electrodes 31 are formed so as to be lined with a gap therebetween in a vertical direction y by processing a single conductive material layer 313.例文帳に追加
複数の転送電極31が間を隔てて垂直方向yに並ぶように単一の導電材料層313を加工して形成する。 - 特許庁
To provide a processing method or the like of a nozzle plate in which an ink repellent layer around ink ejection ports (nozzle openings) can be selectively removed by a simple method.例文帳に追加
、簡便な方法によって、インク吐出口(ノズル開口)の周囲の撥インク層を選択的に除去可能な、ノズルプレートの加工方法等を提供する。 - 特許庁
In the first processing, sputtering for forming the first dielectric layer 2 on the substrate 1 is performed in two steps in a process chamber of two chambers.例文帳に追加
第1工程において、基体1上に第1誘電体層2を形成するためのスパッタリングを2室のプロセスチャンバー内で2回に分けて行う。 - 特許庁
The antenna circuit is electrically connected to the signal processing circuit, and the electric double layer capacitor is electrically connected to the charging circuit.例文帳に追加
なお、前記アンテナ回路は前記信号処理回路と電気的に接続され、前記電気二重層コンデンサは前記充電用回路と電気的に接続されている。 - 特許庁
To provide a method of removing a substrate structure can improve the efficiency of separating a semiconductor layer and a substrate by etching and suppress a processing cost.例文帳に追加
半導体層と基板をエッチングで分離する効率を高め、かつプロセスにかかる費用を抑えることができる、基板構造体を除去する方法の提供。 - 特許庁
To provide a semiconductor device and its inspection method capable of performing photo-emission analysis without processing the upper layer wiring part and the like of an IC chip.例文帳に追加
ICチップの上層配線部分などを加工することなくフォトエミッション解析を行うことができる半導体装置及びその検査方法を得ること。 - 特許庁
While carrying out plasma processing before coating of an organic layer, heat treatment of about 200°C order or less is performed to this substrate 18 with electrodes by a heater 24.例文帳に追加
この電極付き基板18には、有機層を成膜する前にプラズマ処理と共に、ヒータ24により200℃程度以下の加熱処理が施される。 - 特許庁
The support member 20 is obtained by processing a handle substrate of an SOI substrate, and the pellicle film 10 of monocrystalline silicon is obtained from an SOI layer of the SOI substrate.例文帳に追加
支持部材20はSOI基板のハンドル基板を加工することにより得られ、単結晶シリコンのペリクル膜10はSOI基板のSOI層から得られる。 - 特許庁
A groove 4 of the prescribed pattern is provided on the surface of the marking layer 3 by laser processing, and the texture of the base member 2 is exposed at the bottom surface of the groove 4.例文帳に追加
マーキング層3の表面にはレーザー加工により所定のパターンの溝4が設けられ、この溝4の底面に基材2の地肌が露出する。 - 特許庁
To suppress damage on a membrane electrode assembly or a gas diffusion layer due to the load in aging processing when a fuel cell stack is manufactured.例文帳に追加
燃料電池スタックを製造する際に、エージング処理における荷重によって膜電極接合体やガス拡散層が破損することを抑制する。 - 特許庁
After the sacrificial layer has substantially been dissolved and eliminated, further processing with an acid or alkali solution same as or different from the acid or alkali solution may be performed.例文帳に追加
さらに、前記犠牲層を実質的に溶解・除去した後に、前記酸またはアルカリ溶液と同種または異種の酸またはアルカリ溶液で処理してもよい。 - 特許庁
Identification information for coupling data is generated which indicates the content of communication processing to be performed on the data contained in the coupling data in the second layer.例文帳に追加
結合データに含まれるデータに対して第2のレイヤにおいて行う通信処理の内容を示す結合データ用識別情報を生成する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor element capable of decreasing a processing dimensional error when forming a semiconductor layer with an epitaxial growth method.例文帳に追加
エピタキシャル成長法により半導体層を形成する際の加工寸法誤差を少なくすることができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
On the surface of the substrate, there is formed a third semiconductor layer doped with the first dopant in a medium concentration and subjected to a small convex and concave processing.例文帳に追加
上記基板の表面上には、第1ドーパントで中濃度にドープされ、さらに微小凹凸加工されている第3半導体層を形成する。 - 特許庁
To provide manufacturing technology capable of eliminating inconvenience in using an adhesive layer made of a resin film and realizing good vacuum processing.例文帳に追加
樹脂膜からなる接着剤層を用いる場合における不都合を解消し、良好な真空処理を実現し得る製造技術を提供すること。 - 特許庁
When a recording medium having an ink accepting layer including an alumina hydrate is manufactured by a re-wet casting method, a processing liquid including a polyvalent metal ion is used.例文帳に追加
アルミナ水和物を含むインク受容層を有する記録媒体をリウエットキャスト法で製造する際に、多価金属イオンを含む処理液を用いる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a glass substrate for an information recording medium, that reduces variation in thickness of a chemically strengthened layer in every substrate following chemical strengthening processing.例文帳に追加
化学強化処理後の基板毎の化学強化層の厚みのばらつきを低減できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|