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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > layer processingに関連した英語例文

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layer processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3235



例文

The method for processing a photoresist composition includes: (a) applying on a substrate a photoresist composition; (b) subjecting the photoresist layer to immersion exposure to radiation activating for the photoresist composition; (c) adjusting a contact angle with water of the exposed photoresist layer; and (d) developing the processed photoresist layer to provide a photoresist relief image.例文帳に追加

(a)基体上にフォトレジスト組成物を適用し;(b)フォトレジスト組成物を活性化する放射線でフォトレジスト層を液浸露光し;(c)露光されたフォトレジスト層の水接触角を調節し;および(d)処理されたフォトレジスト層を現像してフォトレジストレリーフ像を提供する;ことを含む、フォトレジスト組成物を処理する方法。 - 特許庁

Since a timing when a copper thin film layer Cu is exposed at a hole formation position is detected on the basis of the detected output from photo sensors 75 and 76, the supply of a UV laser beam UL for processing is stopped without damaging the layer Cu at the step of exposing the layer Cu on the bottom of the VIA hole.例文帳に追加

フォトセンサ75、76の検出出力に基づいてホール形成位置に銅薄膜層Cuが露出するタイミングを検出するので、銅薄膜層CuがVIAホール底部に露出した段階で銅薄膜層Cuにダメージを与えることなく加工用の紫外レーザ光ULの供給を停止させることができる。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor substrate includes the steps of: forming a first SiGe layer with a thickness of 10 to 200nm; applying anneal processing to the substrate at a temperature of 900°C; and forming a second SiGe layer with a thickness of 10 to 300nm on the first SiGe layer.例文帳に追加

シリコン基板上に、第1のSiGe層を厚さ10〜200nmで形成する工程と、前記基板を900℃以上でアニール処理する工程と、前記第1のSiGe層上に、第2のSiGe層を厚さ10〜300nmで形成する工程とを備えていることを特徴とする半導体基板の製造方法を用いる。 - 特許庁

A method for manufacturing a spectacle lens in which an anti-fog layer is provided on a lens base material having an inorganic antireflection film with an SiO_2 layer formed on the outermost surface of the lens base material includes the following steps of: processing the SiO_2 layer of the inorganic antireflection film by a process liquid containing an inorganic alkali; and then forming a hydrophilic film.例文帳に追加

最外面にSiO_2の層を有する無機反射防止膜が形成されたレンズ基材上に、防曇層が設けられた眼鏡レンズの製造方法であって、前記無機反射防止膜のSiO_2の層を、無機アルカリを含む処理液で処理し、ついで、親水性膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

例文

The method of manufacturing a nitride-based semiconductor layer includes a step of applying nitride processing to one main surface of the sapphire substrate at a temperature of 800-1,200°C before forming the nitride-based semiconductor layer, and a step of forming the nitride semiconductor layer by an organic metal vapor phase growing method on the surface of the nitride-processed sapphire substrate.例文帳に追加

窒化物系半導体層の形成方法は、窒化物系半導体層の形成前にサファイア基板の一主面を800℃から1200℃の範囲の温度で窒化処理し、その窒化処理されたサファイア基板面上に有機金属気相成長法により窒化物半導体層を結晶成長させる。 - 特許庁


例文

In a base material (10) for a multilayer wiring board, the insulating adhesive layer (15) with the tops (12A) of the bumps exposed or projected therefrom by optically processing a photosensitive insulating material (13) having adhesive properties is formed on the bump forming surface of a metallic layer (11), in which the bumps (12) for the inter-layer conduction are formed to one surface.例文帳に追加

多層配線板用基材(10)は、片面に層間導通用のバンプ(12)が形成された金属層(11)のバンプ形成面に、接着性を有する感光性絶縁材料(13)を光学処理することでバンプの頂部(12A)が露出または突出した絶縁接着層(15)を形成した。 - 特許庁

A selecting function 30 compares the version numbers of the common functional layers ('L2CAP', 'SDP', 'RFCOMM' equivalent to an intermediate layer and 'profile' equivalent to an upper layer) to execute the selection processing of each functional layer (or to allow a user to select the version numbers of the common functional layers on a display screen).例文帳に追加

選択機能30は、共通する機能層(中間層に相当する「L2CAP」、「SDP」、「RFCOMM」、及び上位層に相当する「プロファイル」)のバージョン番号を比較することにより、機能層毎の選択処理を行う(もしくは共通する機能層のバージョン番号を画面表示して使用者に選択させる)。 - 特許庁

As for the manufacturing method, a composite is constituted which is composed of laminating a boron (B) layer so as to contact a magnesium (Mg)-lithium (Li) alloy layer, and after processing this to a wire shape or a tape shape, the magnesium boride (MgB_2) superconducting layer is formed by heat-treating this at a diffusion reaction temperature of magnesium (Mg) and boron (B).例文帳に追加

製造方法は、マグネシウム(Mg)−リチウム(Li)合金層と接触する形でボロン(B)層を積層してなる複合体を構成し、これを線状あるいはテープ状に加工した後、マグネシウム(Mg)とボロン(B)の拡散反応温度で熱処理することによって二硼化マグネシウム(MgB2)超伝導層を生成させる。 - 特許庁

This woody floor material is formed by performing finishing painting on a surface of the provided grain pattern by ultraviolet-curing transparent paint, by forming a transfer printing layer 5 by performing transfer printing of the grain pattern on this hiding layer 4 by the plate roller, by forming the hiding layer 4 by all-over painting, by performing backing processing on a surface of the decorative plywood.例文帳に追加

化粧合板の表面を下地処理し、さらにベタ塗りにより隠蔽層4を形成し、この隠蔽層4の上に木目柄を版ロールにより転写印刷して転写印刷層5を形成し、得られた木目柄の表面を紫外線硬化型透明塗料により仕上げ塗装をしてなる木質系床材。 - 特許庁

例文

In a cloth material 1 for rubbing for subjecting a resin layer 8 for forming an alignment layer to rubbing processing to form the alignment layer including a ground cloth structure constituted of a warp 2 and a weft 3 and a pile fiber 4 woven in the ground cloth structure, the pile fiber 4 is formed by coating a surface of a filament 6a with a resin coating material 7.例文帳に追加

経糸2及び緯糸3からなる地布組織と、該地布組織に織り込まれたパイル糸4とからなり、配向膜形成用樹脂層8をラビング処理して配向膜を形成すためのラビング用布材1において、パイル糸4が、フィラメント6の表面に樹脂性の被覆材7を被覆してなる。 - 特許庁

例文

A value related to the density of a hair on an upper layer is calculated on the basis of a value related to the density of a hair on its lower layer and the direction of the hair, or random numbers are introduced to the value related to the density of the hair and the direction of the hair and can be used for transmittance calculation and mixing processing in the upper layer.例文帳に追加

また、下の層の毛の密度に関連する値及び毛の方向を基に上の層の毛の密度に関連する値を毛の密度に関連する値を計算したり、あるいは毛の密度に関連する値や毛の方向に乱数を導入して、上の層における透過度計算並びに混合処理に利用することができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element, which can obtain a polycrystalline semiconductor layer of high quality by reducing the fluctuation of the irradiated energy density of a laser beam and making the crystallinity of the polycrystalline semiconductor layer to be uniform at obtaining of the polycrystalline semiconductor layer with an annealing processing through irradiation of the laser beam.例文帳に追加

レーザ光の照射によるアニール処理によって多結晶半導体層を得る際に、レーザ光の照射エネルギー密度のばらつきを低減し、多結晶半導体層の結晶性の均一を図ることにより、高品質な多結晶半導体層を得ることができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

When etching a monocrystalline silicon layer 101 through a photoresist layer 102 formed on the upper part of the monocrystalline silicon layer 101 and patterned in a prescribed pattern by processing gas plasma, a protection film forming process for forming a protection film 103 on a side wall part of the photoresist layer 102 by using gas containing carbon, e.g., CF gas plasma, is performed before starting a plasma etching process for etching the monocrystalline silicon layer 101.例文帳に追加

単結晶シリコン層101を、単結晶シリコン層101の上部に形成され所定のパターンにパターニングされたフォトレジスト層102を介して処理ガスのプラズマによりエッチングする際に、単結晶シリコン層101のエッチングを行うプラズマエッチング工程を開始する前に、カーボンを含んだガス例えばCF系ガスのプラズマを用いてフォトレジスト層102の側壁部に保護膜103を形成する保護膜形成工程を行う。 - 特許庁

The method includes the steps of raising the silicon single crystal rod which doped a nitrogen by a Czochralski method at least, after slicing this silicon single crystal rod and processing it into a silicon single crystal wafer, forming a first epitaxial layer in the surface part of this silicon single crystal wafer, and then forming a second epitaxial layer to the surface layer part of the first layer epitaxial layer.例文帳に追加

多層のエピタキシャルシリコン単結晶ウェーハの製造方法であって、少なくともチョクラルスキー法によって窒素をドープしたシリコン単結晶棒を育成し、該シリコン単結晶棒をスライスしてシリコン単結晶ウェーハに加工した後、該シリコン単結晶ウェーハの表層部に一層目のエピタキシャル層を形成し、その後、少なくとも、該一層目のエピタキシャル層の表層部に二層目のエピタキシャル層を形成する多層のエピタキシャルシリコン単結晶ウェーハの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for processing a silicon block for preventing a wafer from being damaged when cutting the wafer out of the silicon block or when forming a power-generating layer on the cut-out wafer.例文帳に追加

シリコンブロックからウェーハを切り出す際や、切り出したウェーハに発電層を積層する際に、ウェーハが破損するのを防止するためのシリコンブロックの処理方法を提供する。 - 特許庁

A slit nozzle 5, which supplies a developer to a substrate surface to form a liquid layer 20 of the developer, is provided above a substrate carry-in opening of a processing part 2.例文帳に追加

処理部2の基板搬入口上部には、基板表面に現像液を供給して、現像液の液層20を形成するためのスリットノズル5が設けられている。 - 特許庁

The buried layer 4 is formed of the material, whose melting point is higher than a processing temperature in a thermal process carried out for the board 1 in which the alignment mark 10 is provided.例文帳に追加

埋め込み層4は、位置合わせマーク10が設けられた基板1に対して行われる熱工程でのプロセス温度よりも高い融点を有する材料からなる。 - 特許庁

The ornament is excellent in weather resistance and the joining strength of each layer is high, and after the three layers described above are formed, blanking press processing is effected and the ornament can be manufactured and productivity is high.例文帳に追加

耐候性に優れるとともに各層の接合強度が高く、上記3層を形成後に打ち抜きプレス加工して製造できるので生産性が高い。 - 特許庁

A communication high-layer processing part 13 selects and processes a protocol 01 process part 131 or protocol 02 process part 132 according to the protocol that the server object 32 uses.例文帳に追加

通信上位層処理部13は、サーバオブジェクト32の用いるプロトコルに応じて、プロトコル01処理部131かプロトコル02処理部132かを選択して処理を行う。 - 特許庁

Therefore, the configuration is simple, a thin insulation layer board 14 can be produced in the processing, and a lightweight wall panel for bathroom having a sufficient strength and a low cost can be provided.例文帳に追加

したがって、構成が単純で、工程的にも簡単に薄肉の断熱層ボード14を製造でき、安価で強度も有した軽量な浴室用壁パネルを提供できる。 - 特許庁

When the heat treatment of a super-magnetostrictive material is performed in a temperature range of 750-860°C, processing distortion can be removed while preventing exudation of material from an R rich layer to the surface.例文帳に追加

超磁歪材料の熱処理を750〜860℃の温度範囲で行うことにより、Rリッチ層の表面へのしみ出しを防止しつつ、加工歪を除去する。 - 特許庁

Thus, the conductive situation of a wiring part such as the connection of plating wiring and a side face metallization layer can accurately be grasped or checked with simple processing.例文帳に追加

これにより、メッキ線と側面メタライズ層との接合など、配線部の導通状況の把握あるいはチェックを簡単な処理により正確に行うことができる。 - 特許庁

Particularly preferred photoresists can exhibit reduced leaching of resist materials into an immersion fluid contacting a resist layer during immersion lithography processing.例文帳に追加

特に好ましい本発明のフォトレジストは液浸リソグラフィー処理中にレジスト層に接触する液浸流体中にレジスト物質が漏出するのを低減することを示すことができる。 - 特許庁

To provide a hard coat film, which has a thin triacetylcellulose (TAC) layer and high surface hardness and develops a few curling during processing, and its method of manufacturing.例文帳に追加

薄いTAC層を有するハードコートフィルムにおいて、表面硬度が大きく工程中でのカールの少ないハードコートフィルムとその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method is to manufacture the micro-structure by applying a processing to the material substrate 10 including a laminated structure consisting of conductor layers 11 and 12 and an insulating layer 13.例文帳に追加

導体層11,12と絶縁層13とからなる積層構造を含む材料基板10に加工を施すことによってマイクロ構造体を製造するためのものである。 - 特許庁

The context switch 101 includes: a layer 2 communication card 200; a packet selection logic section 220; a condition logic section 221; a processing logic section 222; and a context grasping unit 230.例文帳に追加

コンテクストスイッチ101は、レイヤ2通信カード200と、パケット選択論理部220と、条件論理部221と、処理論理部222と、コンテクスト把握装置230とを備える。 - 特許庁

To provide an optical head which can perform layer discrimination by utilizing the signal having a large S/N ratio, and an optical information processing device mounting such an optical head.例文帳に追加

S/N比の大きい信号を利用して層判別処理を行うことができる光学ヘッドおよびそのような光学ヘッドを実装する光情報処理装置を提供する。 - 特許庁

To constitute so that static electricity generated in a semiconductor wafer during processing do not accumulate, and to suppress generation of particles caused by the omission of the particles, by making higher mechanical adhesion strength of a conductive layer formed on a placement surface, in a jig for vacuum suction.例文帳に追加

本発明の真空吸着用治具の目的は、加工中に半導体ウエハに発生した静電気がたまらないようにすることである。 - 特許庁

To provide a foil laminating inspector capable of surely determining whether or not a metal layer of a transfer foil is transferred to a printed matter which is an article to be transferred in a foil laminating processing.例文帳に追加

箔押し加工で被転写物である印刷物に、転写箔の金属層が転写されているか否かを確実に判定できる箔押し検査機を提供する。 - 特許庁

To realize a surface emitting semiconductor laser which utilizes effectively a selectively oxidized layer, has superior heat characteristics and is integrated with a current bottle neck structure which can be manufactured by a simple processing.例文帳に追加

選択酸化層を有効に利用して、優れた熱特性を持ち、簡便なプロセスで作製できる電流狭窄構造を内蔵した面発光半導体レーザを実現する。 - 特許庁

The resin-impregnated paper layers 11 and 12 are sheets of paper boards having been subjected to resin impregnation processing, and disposed as outermost layers on both surfaces of the paper board layer 10, respectively.例文帳に追加

樹脂含浸紙層11、12は樹脂含浸処理された板紙であり、樹脂含浸紙層11、12は、それぞれ板紙層10の両面の最外層に配置されている。 - 特許庁

To provide a surface coated cutting tool having a hard coating layer capable of exerting excellent chipping resistance and wear resistance in high speed milling processing of steel, cast iron or the like.例文帳に追加

鋼、鋳鉄等の高速ミーリング切削加工において硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。 - 特許庁

To provide a synchronization control device and a synchronization control method, that can bring efficiency to AAL1 (ATM adaptation layer type 1) pointer processing between synchronization system terminals in an ATM network system.例文帳に追加

ATMネットワークシステムにおいて、同期系端末間のAAL1ポインタ処理の効率化を図ることのできる同期制御装置および同期制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface layer evaluation method capable of evaluating the surface structure highly accurately with excellent repeatability by preventing exfoliation of a multilayer thin film and deformation of the interface resulting from shape processing.例文帳に追加

表面層評価方法に関し、形状加工に伴う多層薄膜の剥離及び界面の変形を防止して、精度良く且つ再現性良く表面構造を評価する - 特許庁

The tube consisting of the glassy carbon and having the anti-oxidation layer on the outer surface is made as a process tube 1 to be used as a heating element of electromagnetic induction heating for thermal processing method.例文帳に追加

ガラス状炭素からなり、外表面に耐酸化層を有する管体をプロセスチューブ1とし、かつ電磁誘導加熱の発熱体として用いる熱処理方法。 - 特許庁

Vulcanization processing is performed in a state of forming a rubber layer 10A of embedding a spirally wound reinforcing wire rod 13 inside on the outer periphery of a mandrel 20.例文帳に追加

螺旋状に捲回された補強用の線材13が内部に埋設されたゴム層10Aを、マンドレル20の外周に形成した状態で加硫処理を行う。 - 特許庁

To improve contents resistance of a barrier layer in a packaging material for a battery and provide a packaging material for a battery having stable processing characteristics and superior contents protecting property.例文帳に追加

電池用包装材料におけるバリア層の耐内容物性を向上させ、また、安定した加工性、内容物保護性のよい電池用包装材料を提供する。 - 特許庁

An image reduction section 12 reduces the interactive ROI regions and the non-interactive ROI regions to respectively convert them into low resolution images and gives the result to a basic layer processing block 120.例文帳に追加

画像縮小部12は、インタラクティブROI領域および非ROI領域を縮小して低解像度画像に変換し、基本レイヤ処理ブロック120に与える。 - 特許庁

To provide a laminated steel sheet for a two-piece can capable of preventing the peeling and breakage of a laminate resin layer even if a can body enhanced in processing degree like an aerosol two-piece can is manufactured.例文帳に追加

エアゾール2ピース缶のような高加工度の缶体を製造してもラミネート樹脂層の剥離と破断を防止できる2ピース缶用ラミネート鋼板を提供する。 - 特許庁

To provide a capacitor structure which improves capacitance density, while being adaptable to standard/low temperature processing techniques, and has adaptability to CMP (chemical mechanical polishing) used in multi-layer structures.例文帳に追加

標準/低温処理技術と適合しキャパシタンスの密度を向上させる多層構造で使用されるCMPと適合性を有するキャパシタ構造を提供する。 - 特許庁

To provide an optical disk processing apparatus which permits formation of an image only when it recognizes that a specific optical disk with which a pigment layer is formed in a label face is set.例文帳に追加

レーベル面に色素層が形成された特定の光ディスクがセットされたことを認識したときのみ、画像の形成を許可する光ディスク処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for processing the surface of a substrate in a furnace with improved precipitation of a thin layer as well as the reaction between gas-phase components and the surface.例文帳に追加

本発明は、炉内で基板の面を処理し、薄層の析出を向上させると共にガス相成分と面の反応を向上させる装置及び方法を提供する。 - 特許庁

Thereby curing treatment of the adhesive 55 can be carried out in one lot in the same curing processing condition to obtain formation of the homogeneous adhering layer 5.例文帳に追加

このため、同一の硬化処理条件により接着剤55の硬化処理を一括して行うことにより、均質な接着層5を形成することが可能となる。 - 特許庁

The IC tag inlet is formed by bonding rear sides of sheets 4, with releasing processing applied thereto, to both front and rear sides of a main part of the IC tag 2, through an adhesion layer 3.例文帳に追加

表面に離型加工がなされたシート4の裏面側を、接着層3を介してICタグ本体2の表裏両面にそれぞれ付着させたものからなる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter at a low cost by lowering height of horn level difference of a coloring pixel produced on an end of a resin black matrix and dispensing with polishing processing and an overcoat layer.例文帳に追加

樹脂ブラックマトリックスの端部上に発生する着色画素のツノ段差の高さを低減させ、研磨処理、オーバーコート層を不要とし、廉価なカラーフィルタの製造方法。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet which is provided with precutting processing and can sufficiently inhibit the release failure of a pressure-sensitive adhesive layer and a base material film from a release base material.例文帳に追加

プリカット加工が施されており、剥離基材からの粘接着層及び基材フィルムの剥離不良を十分に抑制することが可能な接着シートを提供すること。 - 特許庁

On the reception-side device, one of the packets is transferred to the upper-layer processing in the case of number of arrival of packetsminimum number of links, and all the packets are discarded if not.例文帳に追加

また、受信側装置で、パケットの到着数≧ミニマムリンク数の場合に同パケットの一つを上位レイヤ処理に渡し、そうでない場合に同パケットを全て破棄する。 - 特許庁

To provide a tape for wafer processing that has superior sensor recognizing properties, even when an adhesive layer is thin (≤10 μm, especially, ≤5 μm), and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

接着剤層が薄い(10μm以下の、特に5μm以下の)場合であっても、センサ認識性が良好であるウエハ加工用テープ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, when ending the data processing, the optical disk device 1 records the adjusting value of the operation condition concerning the other data recording layers, in the specific data recording layer of the optical disk 2.例文帳に追加

また光ディスク装置1は、データ処理を終了する際に、他のデータ記録層に係る動作条件の調整値を、光ディスク2の特定のデータ記録層に記録する。 - 特許庁

例文

To provide a substrate processing method capable of reducing defects due to an adhesive layer that occur after carrying out steps such as a high-temperature process and a high-vacuum process.例文帳に追加

高温プロセスおよび高真空プロセスなどの工程を経た後に生じる接着剤層に起因する不具合を低減させた、基板の加工方法を提供する。 - 特許庁




  
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