「layer processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, after the laminated film of the transfer film is formed by transferring so as to abut the inorganic pigment layer on a substrate and the resist layer is subjected to exposure processing, a resist pattern is manifested by carrying out development processing, an inorganic pigment pattern and a phosphor pattern corresponding to the resist pattern are formed, and firing processing is carried out, thereby simply and efficiently forming the inorganic pattern.例文帳に追加

また、前記転写フィルムの積層膜を、基板上に無機顔料層が当接するように転写して形成し、レジスト層を露光処理した後、現像処理してレジストパターンを顕在化させ、該レジストパターンに対応する無機顔料パターンおよび蛍光体パターンを形成し、焼成処理することにより、無機パターンを簡便かつ効率的に形成することができる。 - 特許庁

A transport layer API hook module hooks the API of a transport layer such as socket API called from the application 1, respective protocol processing parts (such as an SIP processing part 41 and an HTTP processing part 42) analyze the information of the API through a handover manager 3, and information required for handover is stored in storage parts (such as an SIP storage part 411 and an HTTP storage part 421).例文帳に追加

トランスポート層ＡＰＩフックモジュールは、アプリケーション１から呼び出されるソケットＡＰＩ等のトランスポート層のＡＰＩをフックし、ハンドオーバーマネージャ３を経由して各プロトコル処理部（ＳＩＰ処理部４１やＨＴＴＰ処理部４２等）がＡＰＩの情報を解析し、ハンドオーバーに必要な情報を記憶部（ＳＩＰ記憶部４１１やＨＴＴＰ記憶部４２１等）に記憶する。 - 特許庁

To provide an adhesive film which prevents an adhesive layer to be wound from rupturing during a step of winding the adhesive layer in the preparation of a tape for processing a wafer precut-processed into a shape corresponding to that of a semiconductor wafer, and improves productivity of the precut tape for processing a wafer; and to provide a tape for processing a wafer prepared by using the same.例文帳に追加

半導体ウエハの形状に対応する形状にプリカット加工されたウエハ加工用テープを作製する際の接着剤層の巻き取り工程において、巻き取られる接着剤層の破断を防止するとともに、プリカット加工されたウエハ加工用テープの生産性を向上させることが可能な接着フィルム及びその接着フィルムを使用して作製したウエハ加工用テープを提供する。 - 特許庁

The electroless deposition station includes an environmentally controlled processing enclosure, a first processing station configured to clean and activate the surface of the substrate, a second processing station configured to electrolessly deposit a layer onto the surface of the substrate, and a substrate shuttle positioned to transfer the substrate between the first and second processing stations.例文帳に追加

無電界堆積ステーションは、環境的に制御される処理エンクロージャーと、基板の面を洗浄し活性化するように構成された第１処理ステーションと、基板の面に層を無電界堆積するように構成された第２処理ステーションと、第１及び第２の処理ステーション間で基板を移送するように位置された基板シャトルとを備えている。 - 特許庁

In the thermal embossing type embossed mold release paper constituted of at least a paper layer and a hot-melt resin layer and characterized in that embosses are formed to the hot-melt resin comprises an ionizing radiation curable resin cured by the irradiation with ionizing radiation after emboss processing and a light reflection layer is provided between the paper layer and the hot-melt resin layer.例文帳に追加

少なくとも紙層／熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙において、前記熱溶融樹脂がエンボス加工後電離放射線照射により硬化させる電離放射線硬化性樹脂からなり、前記紙層と前記熱溶融樹脂層の間に光反射層が設けられていることを特徴とするエンボス付き離型紙。 - 特許庁

When a decision request signal is received from the MAC layer processing part 102, an accommodation destination AP decision part 104 decides which access point device is to accommodate the radio communication terminal by referring to the adjacent AP information table 105 and outputs an accommodation destination AP identifier to the MAC layer processing part 102.例文帳に追加

収容先ＡＰ判定部１０４は、ＭＡＣレイヤ処理部１０２から判定要求信号を受けた場合に、隣接ＡＰ情報テーブル１０５を参照し、本無線通信端末装置がどのアクセスポイント装置に収容されるべきかを判定し、ＭＡＣレイヤ処理部１０２に収容先ＡＰ識別子を出力する。 - 特許庁

The heating roller for thermally processing an ink jet recording medium comprises an ink receiving layer provided on at least one side of a basic material, and a thermoplastic resin particle layer provided thereon and being rendered unporous thermally in which the outer circumferential length of the heating roller 10 is set at least longer than the processing length L of the recording medium.例文帳に追加

基材の少なくとも片面にインク受容層を設け、その上に加熱により非孔質化する熱可塑性樹脂粒子層を設けたインクジェット記録媒体を加熱処理する加熱ローラにおいて、加熱ローラ１０の外周長を少なくとも前記記録媒体の被処理長Ｌより長くする。 - 特許庁

The organic electroluminescence element is characterized in that a hole transport layer and/or a hole injection layer contains a polymer produced by processing a monomer represented by general formula [1] with proton acid and subjecting it to oxidative polymerization, or subjecting the monomer represented by general formula [1] to oxidative polymerization and processing it with proton acid.例文帳に追加

下記一般式［１］で表されるモノマーをプロトン酸で処理し、酸化重合により製造されてなるか、または下記一般式［１］で表されるモノマーを酸化重合し、プロトン酸で処理することで製造されてなる重合体が該正孔輸送層及び／又は正孔注入層に含有される有機エレクトロルミネッセンス素子。 - 特許庁

To provide a wiring board where a conductive layer positioned in the lower layer of a recognition mark formed by laser processing is not exposed from the recognition mark and also where a contrast between the recognition mark formed by laser processing and the circumference of the mark is made to be superior thereby to read the recognition mark without erroneous reading.例文帳に追加

レーザ加工により形成された認識マークの下層に位置する導体層が認識マークから露出することがないとともにレーザ加工により形成された認識マークとその周りとのコントラストを良好として認識マークを読み取りミスなく読み取ることが可能な配線基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a processing method for a lithographic printing plate having a hydrophilic layer and an image forming layer formed on a plastic film substrate, by which a non-image part is easily removed by use of a chemical-less processing liquid to which an alkaline agent is not added, and printing contamination caused by insufficient removal is eliminated.例文帳に追加

プラスチックフィルム支持体上に親水性層、画像形成層が設けられた平版印刷版の処理方法において、アルカリ剤の添加されていないケミカルレス処理液による非画像部の除去が容易で、除去が不十分な事による印刷汚れが発生しない平版印刷版の処理方法を提供する。 - 特許庁

An augmented reality providing device includes an information processing unit for specifying a first portion of a virtual world image layer to be displayed in a first area on the basis of a first visual direction, and an image processing unit for displaying the first portion in the first area and displaying an actual world image layer in a second area.例文帳に追加

拡張現実提供装置は、第１視認方向に基づいて第１領域内に表示されるべき仮想世界イメージ層の第１部分を特定する情報処理部と、前記第１部分を第１領域内に表示するとともに、現実世界イメージ層を第２領域内に表示する映像処理部とを、含んでいる。 - 特許庁

In this manufacturing method 10, the surface processing layer is formed on a base material having been subjected to lens grinding (external shape machining) in a step 12 to be fitted in a frame that a user selects, in a step 13 in which surface processing layer is formed while including the lens-ground surface and the base material is set in the frame in a step 14 for use by the user.例文帳に追加

本発明の製造方法１０では、ステップ１２において、ユーザが選択したフレームに嵌るように玉摺り加工（外整加工）した基材に対して、ステップ１３において、玉摺り加工した面を含むように、表面処理層を形成し、ステップ１４において枠入れした後に、ユーザの使用に供するようにしている。 - 特許庁

A metallic coating process is preferably carried out in an integrated processing system that includes both PVD and CVD processing chambers so that once the substrate is introduced into a vacuum environment, the metallic coating of the vias and contacts can be carried out without the formation of an oxide layer over the CVD Al layer.例文帳に追加

金属被覆法は、統合された処理システムで実施されるのが好ましく、そのシステムは、ＰＶＤおよびＣＶＤ処理チャンバの両方を含み、基板が真空環境に入ると、バイアおよび接点の金属被覆が、ＣＶＤによるＡｌ層上に酸化物層を形成することなく行うことができる。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium including: a substrate for a magnetic recording medium which has a favorable adhesion property which can withstand planarization processing such as polishing, and can be made a thick film in forming a film on an Si substrate, a soft magnetic layer, and a recording layer.例文帳に追加

Ｓｉ基板への成膜において研磨等の平坦化加工に耐えうる良好な密着性を有し、かつ厚膜化可能な磁気記録媒体用基板及び軟磁性層と記録層とを含む磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

A record device 4 for recording corresponding to the identification number of the individual product W to information of the processing state observed with the observing device 3 and information of the depth of the hardened layer inspected with the hardened layer inspecting device 2, is arranged.例文帳に追加

監視装置３で監視した加工状態の情報や硬化層検査装置２により検査された硬化層深さの情報を個々の製品Ｗの識別番号と対応させて記録する記録装置４を設ける。 - 特許庁

A compression processing is applied to an Sn plated layer 18 as the tertiary plated layer on the connection surface 11a of the chip resistor 10 as a post-process with the heated compression roller 31 of a connection surface compression apparatus 30.例文帳に追加

チップ抵抗１０の接続表面１１ａにおける３次メッキ層としてのＳｎメッキ層１８には、接続表面圧縮装置３０の加熱された圧縮用ローラ３１によって、後工程として圧縮加工が施される。 - 特許庁

The surface of the protective layer 12 is subjected to emboss processing and the boundary surface of the surface protective layer 12 and the metal membrane part 13h is made uneven to set the metal membrane part 13h to a holograph part showing light irregular reflecting effect.例文帳に追加

表面保護層１２の表面をエンボス加工し、該表面保護層１２と金属薄膜部分１３ｈとの境界面を凹凸として、該金属薄膜部分１３ｈを光乱反射効果を呈するホログラフの部分とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing angular-velocity sensors allowing desired polarization processing to be applied to a piezoelectric layer of a non-defective angular-velocity sensor on a wafer, even if an angular-velocity sensor having a piezoelectric layer including a defect exists.例文帳に追加

欠陥が存在する圧電層を有する角速度センサが存在しても、ウエハ上の他の良品の角速度センサの圧電層に所望の分極処理を施すことが可能な角速度センサの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing electronic components which can form an air gap only in a desired area between wires in a wiring layer mixed with sparse and dense wires due to layer processing including a conductive film.例文帳に追加

導電膜を含む層の加工によって密の配線と疎の配線とが混在して形成された配線層で、所望の配線間の領域にのみ空隙を形成することができる電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

The chemically resistant gloves are each structured as follows: a layer of rubber selected from diene-based rubber, isoprene rubber, butyl rubber, and natural rubber is formed on the inner surface of a glove base body made of chloroprene rubber; and the layer of rubber is subjected to slide processing.例文帳に追加

クロロプレンゴムからなる手袋基体の内面に、ジエン系ゴム、イソプレンゴム、ゴチルゴム、天然ゴムから選ばれるゴム層が設けられ、該ゴム層に滑り加工処理が施されていることを特徴とする耐薬品性手袋である。 - 特許庁

To provide a substrate processing method of forming an opening which has a size that fills the need for downsizing a semiconductor device, and is transferred to a film to be etched in the mask layer or the intermediate layer of a substrate to be processed.例文帳に追加

処理対象の基板に対し、半導体デバイスの小型化要求を満たす寸法の開口部であって、エッチング対象膜に転写するための開口部をマスク層又は中間層に形成する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Resending or the like is specified corresponding to the protocol of a high-order layer or packaged application without specifying a receiving confirming method original for a radio block and processing for confirming receiving on a MAC layer is not performed.例文帳に追加

無線区間独自の受領確認方法を規定せず、上位層のプロトコルや実装されるアプリケーションに応じて、再送規定などが行われる構成としてあり、ＭＡＣ層における受領確認を行う処理は行わない。 - 特許庁

To provide a substrate processing method reinforcing etching resistance of a mask layer and improving a flexibility in working of a layer to be processed when forming an opening pattern of a dimension satisfying a request for downsizing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの小型化要求を満たす寸法の開口パターンを形成する際に、マスク層のエッチング耐性を増強させ、処理対象層の加工の自由度を向上させることができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A transparent and thin silver antitarnish film 21 is formed by processing the surface of the silver plating layer 20 with a silver antitarnish agent to cover the entire surface of the silver plating layer 20 becoming the light reflecting surface 22.例文帳に追加

更に、この銀めっき層２０の表面を銀変色防止剤で処理して銀変色防止被膜２１を形成し、光反射面２２となる銀めっき層２０の表面全体を透明な薄い銀変色防止被膜２１でカバーする。 - 特許庁

To provide an optical device wafer processing method which makes it possible to move an optical device layer laminated on the surface of an epitaxy substrate constituting an optical device wafer smoothly from there to a transfer substrate without causing damage to the optical device layer.例文帳に追加

光デバイスウエーハを構成するエピタキシー基板の表面に積層された光デバイス層に損傷を与えることなく光デバイス層を移設基板に円滑に移し変えることができる光デバイスウエーハの加工方法を提供する。 - 特許庁

In the surface processing method of the member for OA equipment, the functional layer is peeled off by spraying a projection material to the member for OA equipment having at least one functional layer consisting mainly of resin or rubber formed on a metal base.例文帳に追加

金属基材上に、樹脂またはゴムを主成分とする機能層を少なくとも一層備えるＯＡ機器用部材に対し、投射材を吹き付けて機能層を剥離するＯＡ機器用部材の表面処理方法である。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor is formed of a photosensitive layer on a conductive base and the electrophotographic photoreceptor is characterized in that the photosensitive layer contains polyolefin particles of ≤4 μm in mean particle size, having been subjected to surface oxidation processing.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも感光層からなる電子写真感光体において、該感光層に表面酸化処理された平均粒径４μｍ以下のポリオレフィン粒子を含有することを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

The organic thin-film solar cell is manufactured by forming fine grooves of nano-scale width on a donor or acceptor layer by applying nano-imprint processing using an imprint mold, and mating the other donor or acceptor layer with the fine grooves.例文帳に追加

インプリント型を用いてナノインプリント加工することによりドナーまたはアクセプターの層にナノスケール幅の微細な溝を形成し、該微細な溝にもう片方のドナーまたはアクセプターの層を充填して有機薄膜太陽電池を製造する。 - 特許庁

The transparent electrode layer 2 has at least one opening 5 formed through etching processing to expose a surface of the substrate 1, and the haze rate of the transparent electrode layer 2 to light in a wide wavelength range is equal to or larger than 60%.例文帳に追加

透明電極層２は、エッチング処理によって形成された基板１表面を露出させる少なくとも１つの開口部５を有し、透明電極層２の広い波長領域の光に対するヘイズ率が、６０％以上である。 - 特許庁

The medium has a structure layering a cholesteric liquid crystal layer 101 having undergone hologram processing, a lenticular lens 102, and a stripe printing layer 103 having a stripe pattern corresponding to the lens array of the lenticular lens 102, from the observation side.例文帳に追加

観察する側から、ホログラム加工が施されたコレステリック液晶層１０１、レンチキュラーレンズ１０２、レンチキュラーレンズ１０２のレンズ配列に対応したストライプ模様が形成されたストライプ印刷層１０３を積層した構造とする。 - 特許庁

To provide a method of estimating a thickness of a hydrate layer, capable of obtaining a more accurate hydrate layer thickness than by conventional methods by performing a reflection survey by means of low and high frequencies and processing the survey results.例文帳に追加

低周波数と高周波数による反射法地震探査を行い、探査結果を処理することにより、従来方法と比較して精度の高いハイドレート層厚を得ることができるハイドレート層の層厚推定方法を提供する。 - 特許庁

When determining termination of the image restoring processing, the termination is determined based on only specific distance layer based on the information about the distance measured by the distance measuring part 2 or per distance layer based on the information about the distance.例文帳に追加

そして、画像復元処理の終了判定を行う場合には、距離計測部２によって計測された距離情報に基づく特定の距離レイヤのみ又は距離情報に基づく距離レイヤ毎に終了判定を行う。 - 特許庁

The surface layer detecting apparatus 11 detects an SiCl_x layer formed on the surface of a silicon substrate 2 during processing using plasma and is equipped with a probe light generating device 13 and an optical detector 16.例文帳に追加

本発明における表面層検出装置１１は、シリコン基板２の表面にプラズマによる処理中に形成されたＳｉＣｌ_ｘ層を検出するものであって、プローブ光発生装置１３と光検出器１６とを備えている。 - 特許庁

To provide a wafer processing tape having an adhesive layer and an adhesive film on a release film, which enables sufficient suppression of transfer marks left on the adhesive layer when being taken up into a roll.例文帳に追加

離型フィルム上に、接着剤層及び粘着フィルムを有するウエハ加工用テープをロール状に巻き取った場合に、接着剤層での転写痕の発生を十分に抑制することができるウエハ加工用テープを提供する。 - 特許庁

When the data received by the first communication part is the layer-3 or higher monitor packet, the first transmission processing part transmits the layer-2 frame in which the information of the monitor packet is buried via the second communication part in place of the monitor packet.例文帳に追加

第１送信処理部は、第１通信部により受信したデータがレイヤ３以上の監視パケットであるとき、当該監視パケットに代えて、監視パケットの情報を埋め込んだレイヤ２フレームを、第２通信部から送信させる。 - 特許庁

Plasma processing is performed on the surface of a sheet-like substrate, composed of aromatic polyamide and then a metal thin film layer, principally comprising an alloy of nickel and chromium and a thin-film layer of copper are formed thereon to produce a substrate for flexible printed circuit.例文帳に追加

芳香族ポリアミドからなるシート状基材表面にプラズマ処理を行い、その上にニッケルとクロムからなる合金を主成分とする金属薄膜層、および銅の薄膜層を有するフレキシブルプリント回路用基板。 - 特許庁

To provide a pattern teaching system which attains the optimization processing of a neural network while reducing the number of couplings between a middle layer and an output layer and performs a patterns teaching highly precisely regardless of low computational complexity.例文帳に追加

中間層と出力層との間の結合数を少なく留めつつもニューラルネットワークの最適化処理が可能であり、ひいては少ない演算量でも精度の高いパターン教示が可能となるパターン教示システムを提供する。 - 特許庁

The unprocessed base board S are brought back to the container 11 of the indexer 1 after conveying the unprocessed base board S from the container 11 to the base board processing part 2 and forming a hole transportation layer and an organic EL layer on the unprocessed base board S.例文帳に追加

そして、収容容器１１から未処理基板Ｓを基板処理部２に搬送して基板Ｓに正孔輸送層および有機ＥＬ層を形成した後、この処理済基板Ｓをインデクサ１の収容容器１１に戻している。 - 特許庁

The substrate processing equipment is provided with the etching equipment in which a semiconductor substrate is held by a maintenance portion and a semiconductor layer of the substrate is etched with chemical, and a film thickness measuring apparatus for measuring film thickness of the semiconductor layer of the substrate.例文帳に追加

半導体基板が保持部に保持され、化学薬液によってこの半導体基板の半導体層をエッチングするエッチング装置と、この半導体基板の半導体層の膜厚を測定する膜厚測定装置と、を備える。 - 特許庁

When erasure processing in which a rewritable card C is carried with a print layer coming into contact with the head 50 is performed, the head 50 follows friction and is turned in accordance of the degree of the friction generated between the print layer and the head 50.例文帳に追加

消去ヘッド５０に印字層１が接触しながらリライタブルカードＣが搬送される消去処理の際、印字層１と消去ヘッド５０との間に生じる摩擦の程度に応じ消去ヘッド５０がそれに追従して回動する。 - 特許庁

To provide an IR-sensitive composition giving a good coated surface state of a layer and excellent in suitability to processing with an exhausted developer having lowered activity (development latitude) when used in a photosensitive layer of a planographic printing plate precursor or the like.例文帳に追加

平版印刷版用原版の感光層等に用いた場合、その層の塗布面上が良好で、更に活性度の落ちた疲労現像液での処理性（現像ラチチュード）に優れる感赤外線感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a wiring board by which a resist layer for forming a bump is removed without causing damage to a solder resist layer, reliability of a module product is secured, and a time of a process is shortened by devising reflow processing of metal for forming the bump.例文帳に追加

バンプ形成用金属のリフロー処理を工夫することで、ソルダーレジスト層にダメージを与えることなくバンプ形成用レジスト層を除去して、モジュール製品の信頼性を確保するとともにプロセスの短時間化を可能とする。 - 特許庁

A zero slump material for forming a shirasu cured layer different in composition is superposed on a zero slump material for forming a decorative layer over 1-6 layers and the whole is subjected to monolithic molding processing under a pressure of 1-235 MPa (10-2,400 kgf/cm^2) to manufacture the decorative sheet.例文帳に追加

装飾層をなすゼロスランプ材料の上に組成の異なるシラス硬化層をなすゼロスランプ材料を１〜６層重ねて、これを１ＭＰａ（１０ｋｇｆ／ｃｍ^２）ないし２３５ＭＰａ（２４００ｋｇｆ／ｃｍ^２）の圧力で一体成形加工することにより装飾板を製造する。 - 特許庁

The method for manufacturing a self-organized gate-insulating layer is performed on the basis of an aqueous processing method, in which the azole-metal complex compound is self-organized on a patterned gate electrode in an aqueous solution, and it can act as the gate-insulating layer.例文帳に追加

自己組織化ゲート絶縁層を作成する方法は、水性溶液中でパターン化ゲート電極上にアゾール−金属錯化合物が自己形成され且つゲート絶縁層の役割を果たすことを可能とする水性処理法。 - 特許庁

By performing Ar/H2 plasma processing before filming the noncrystalline silicon film in continuous three-layer filming, residual gases in a reaction chamber are removed and the concentration of impurity in the noncrystalline silicon film in continuous three-layer filming is reduced.例文帳に追加

３層連続成膜で、非晶質シリコン膜の成膜前にＡｒ／Ｈ_2プラズマ処理を行うことにより、反応室中の残留ガスを取り除き、３層連続成膜時の非晶質シリコン膜中の不純物濃度を減少させる。 - 特許庁