| 例文 |
layer processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3236件
A zero slump material for forming a shirasu cured layer different in composition is superposed on a zero slump material for forming a decorative layer over 1-6 layers and the whole is subjected to monolithic molding processing under a pressure of 1-235 MPa (10-2,400 kgf/cm^2) to manufacture the decorative sheet.例文帳に追加
装飾層をなすゼロスランプ材料の上に組成の異なるシラス硬化層をなすゼロスランプ材料を1〜6層重ねて、これを1MPa(10kgf/cm^2)ないし235MPa(2400kgf/cm^2)の圧力で一体成形加工することにより装飾板を製造する。 - 特許庁
In a method for processing a low dielectric constant material, an additive material is dispersed in a porous layer 20a with small dielectric constant, a desired electronic structure is formed, and the additive material is removed from the pores of the layer with small dielectric constant.例文帳に追加
誘電率の小さい材料を処理する方法は、誘電率の小さい多孔質層20a中に添加材料を分散させ、所望の電子構造を作り、次いで誘電率の小さい層の気孔から添加材料を取り除く。 - 特許庁
The unprocessed base board S are brought back to the container 11 of the indexer 1 after conveying the unprocessed base board S from the container 11 to the base board processing part 2 and forming a hole transportation layer and an organic EL layer on the unprocessed base board S.例文帳に追加
そして、収容容器11から未処理基板Sを基板処理部2に搬送して基板Sに正孔輸送層および有機EL層を形成した後、この処理済基板Sをインデクサ1の収容容器11に戻している。 - 特許庁
The substrate processing equipment is provided with the etching equipment in which a semiconductor substrate is held by a maintenance portion and a semiconductor layer of the substrate is etched with chemical, and a film thickness measuring apparatus for measuring film thickness of the semiconductor layer of the substrate.例文帳に追加
半導体基板が保持部に保持され、化学薬液によってこの半導体基板の半導体層をエッチングするエッチング装置と、この半導体基板の半導体層の膜厚を測定する膜厚測定装置と、を備える。 - 特許庁
When erasure processing in which a rewritable card C is carried with a print layer coming into contact with the head 50 is performed, the head 50 follows friction and is turned in accordance of the degree of the friction generated between the print layer and the head 50.例文帳に追加
消去ヘッド50に印字層1が接触しながらリライタブルカードCが搬送される消去処理の際、印字層1と消去ヘッド50との間に生じる摩擦の程度に応じ消去ヘッド50がそれに追従して回動する。 - 特許庁
To provide an IR-sensitive composition giving a good coated surface state of a layer and excellent in suitability to processing with an exhausted developer having lowered activity (development latitude) when used in a photosensitive layer of a planographic printing plate precursor or the like.例文帳に追加
平版印刷版用原版の感光層等に用いた場合、その層の塗布面上が良好で、更に活性度の落ちた疲労現像液での処理性(現像ラチチュード)に優れる感赤外線感光性組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a wiring board by which a resist layer for forming a bump is removed without causing damage to a solder resist layer, reliability of a module product is secured, and a time of a process is shortened by devising reflow processing of metal for forming the bump.例文帳に追加
バンプ形成用金属のリフロー処理を工夫することで、ソルダーレジスト層にダメージを与えることなくバンプ形成用レジスト層を除去して、モジュール製品の信頼性を確保するとともにプロセスの短時間化を可能とする。 - 特許庁
A transparent and thin silver antitarnish film 21 is formed by processing the surface of the silver plating layer 20 with a silver antitarnish agent to cover the entire surface of the silver plating layer 20 becoming the light reflecting surface 22.例文帳に追加
更に、この銀めっき層20の表面を銀変色防止剤で処理して銀変色防止被膜21を形成し、光反射面22となる銀めっき層20の表面全体を透明な薄い銀変色防止被膜21でカバーする。 - 特許庁
To provide an optical device wafer processing method which makes it possible to move an optical device layer laminated on the surface of an epitaxy substrate constituting an optical device wafer smoothly from there to a transfer substrate without causing damage to the optical device layer.例文帳に追加
光デバイスウエーハを構成するエピタキシー基板の表面に積層された光デバイス層に損傷を与えることなく光デバイス層を移設基板に円滑に移し変えることができる光デバイスウエーハの加工方法を提供する。 - 特許庁
The cord state heater provided with an insulating coating with electronic bridge processing carried out on it to not produce halogen in combustion with a heat melting adhesive layer outside it and the insulating coating and the adhesive layer are integrally adhered by only heating and pressurizing.例文帳に追加
燃焼時にハロゲンを生じない電子架橋処理された絶縁被覆とその外側に熱溶融性接着層を設けたコード状ヒータを熱伝導性シート面に配置し、過熱加圧するだけで一体的に固着する。 - 特許庁
The plurality of parallel grooves are formed by etching or laser processing along one side of the substrate on at least part of the outermost layer of the heat dissipation substrate having a layer structure consisting of at least two layers.例文帳に追加
また少なくとも2層以上の層構造からなる放熱基板の、少なくとも最表面層の一部に基板の一辺に沿って並行な複数の溝をエッチングまたはレーザ加工により形成する放熱基板の製造方法である。 - 特許庁
The transmitting module carries out transmitting processing of a signal transmitted from the antenna layer, and is generally vertically connected to the receiving module to output a signal after the transmitting pressing to the antenna layer through the receiving module.例文帳に追加
送信モジュールは、アンテナ層から送信される信号の送信処理を行うものであり、受信モジュールに対して略垂直に接続されることで、受信モジュールを介してアンテナ層へ送信処理後の信号を出力する。 - 特許庁
To alleviate processing burden, when an audio signal is coded based on mental auditory analysis, by applying the invention on coding the audio signal, for example, on layer 1 and layer 2 of MPEG 1 and MPEG 2.例文帳に追加
本発明は、例えばMPEG1、MPEG2のレイヤ1、レイヤ2でオーディオ信号を符号化処理する場合に適用して、心理聴覚分析に基づいてオーディオ信号を符号化処理する場合に、従来に比して処理の負担を軽減する。 - 特許庁
The regenerating method of the electrophotographic photoreceptor by which a regenerated layer is directly formed on the remaining layer of a used electrophotographic photoreceptor, and also a regenerated electrophotographic photoreceptor using it, a processing cartridge and an image forming device are provided.例文帳に追加
使用済み電子写真感光体の残存層上に直接、再生層を形成することを特徴とする電子写真感光体の再生方法、並びにそれを用いた再生電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置。 - 特許庁
In order to sustain excitation of plasma P, pressure in a vacuum chamber 22 is controlled in the processing of changing the gas flow rate when a transition is made from formation of the amorphous Si layer to formation of the microcrystalline Si layer.例文帳に追加
プラズマPの励起を継続させるために、アモルファスSi層の形成処理から微結晶Si層の形成処理に遷移するガス流量を変更する処理において、真空チェンバー22内の圧力が制御されている。 - 特許庁
To provide a self-adhesive for a wafer-processing self-adhesive sheet hardly generating a transferred contaminant and to provide a wafer-processing self-adhesive sheet provided with a self-adhesive layer formed of the self-adhesive.例文帳に追加
転写汚染物の発生の少ないウエハ加工用粘着シート用粘着剤を提供すること、さらには当該粘着剤により形成された粘着剤層が設けられているウエハ加工用粘着シートを提供すること。 - 特許庁
A mixed solution of a bismuth salt and a metal alkoxide is mixed together with an aqueous alkali solution to obtain a Bi_12MO_20 precursor, the resultant Bi_12MO_20 precursor is subjected to molding processing and the molded Bi_12MO_20 precursor is subjected to firing processing to produce the photo-conductor layer.例文帳に追加
ビスマス塩と金属アルコキシドの混合溶液と、アルカリ水溶液を混合してBi_12MO_20前駆体を得、得られたBi_12MO_20前駆体を成形し、成形したBi_12MO_20前駆体を焼成して光導電層を製造する。 - 特許庁
To provide a communication management system, method and device which maintain the provision of a communication service even when a communication processing part, a packet processing control part, or a layer 2 switch for switching data inside a device itself fails.例文帳に追加
通信処理部分、パケット処理制御部分、装置内部でデータを切り替えるレイヤ2スイッチ自体が障害を生じた場合でも、通信サービスの提供を維持することができる通信管理システム、方法及び通信装置を提供する。 - 特許庁
When a request for reproducing a received audio stream is received, a decoding processing section 133 decodes a lower layer hierarchical stream, when the stream is stored in the data storage section 132 and an audio reproduction processing section 134 reproduces and outputs it.例文帳に追加
受信中のオーディオ再生要求があった場合、データ記憶部132に低位の階層ストリームが格納された時点で復号処理部133でそのストリームを復号し、オーディオ再生処理部134で再生出力する。 - 特許庁
After the mask data corresponding to first processing and second processing are separately formed, the data is recorded in each layer of a multilayered mask or in the each range of the transmittance in a multilevel mask or in each area range of a binary mask.例文帳に追加
第一の加工内容及び第二の加工内容に相当するマスクデータを個別に作成した後、多層マスクの各層、あるいは多値マスクの別々の透過率範囲、あるいは2値マスクの別々の面積範囲にそれぞれを記録する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device for forming an electrically conductive layer whose main component being Cu in a recess in an improved state of the embedding characteristics according to reflow processing even if the reflow processing at a high temperature ≥400°C is not carried out.例文帳に追加
400℃以上の高温でのリフロー処理を行わなくても、リフロー処理による埋め込み特性が改善された状態で、凹部内にCuを主成分とする導電層を形成する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To reduce the number of times of executing life detection processing and to accurately judge the life of an electric double layer capacitor while suppressing the performance reduction and power loss of an image forming apparatus due to the execution of the life detection processing as much as possible.例文帳に追加
寿命検知処理の実行回数を少なくし、寿命検知処理を実行することによる画像形成装置のパフォーマンスの低下や電力ロスを極力抑えつつ、電気二重層キャパシタの寿命を精度良く判定する。 - 特許庁
A method of manufacturing the conductive film comprises the steps of exposing a photosensitive material which is provided on a support, and includes an emulsion layer containing silver salt emulsion; carrying out a development processing to form a metallic silver; and carrying out a smoothing treatment (carrying out a calendar processing).例文帳に追加
支持体上に設けられた、銀塩乳剤を含有する乳剤層を含む感光材料を露光し、現像処理することにより金属銀を形成した後、(カレンダー処理を行うなどの)平滑化処理をする。 - 特許庁
To provide a network repeating installation which attains an addition processing at the transmission time by the processing in a simple application layer and can effectively apply a packet discard to a connection transmitted to be exceed a declared band.例文帳に追加
簡易なアプリケーション層における処理で送信時の追加処理を実現するとともに、申告帯域を超過して送信したコネクションに対して効果的にパケット廃棄を行うことができるネットワーク中継装置を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid repelling processing method for a nozzle plate capable of simply forming a liquid repelling film layer only on the surface of a nozzle opening without improving the surface condition in the nozzle opening and performing a liquid repelling processing, and to provide a head unit.例文帳に追加
ノズル開口内の表面状態を改質することなくノズル開口表面のみに撥液膜層を簡単に形成して撥液処理を行うことができるノズルプレートの撥液処理方法およびヘッドユニットを提供する。 - 特許庁
The semiconductor device having a semiconductor film formed on a substrate using EBSP, undergoes a processing for reducing the thickness of the substrate by chemical mechanical grinding and a processing for exposing the surface of the semiconductor through removing the substrate reduced in thickness by etching, or removing the substrate and an insulation layer between the substrate and the semiconductor film.例文帳に追加
また、非晶質半導体膜を結晶化して得られる結晶質半導体膜の配向性を高め、そのような結晶質半導体膜を用いたTFTを提供することを第二の目的とする。 - 特許庁
To provide a biaxially stretched polyester film roll for vapor deposition which is excellent in gas barrier property and adhesiveness with a vapor deposition layer up to a winding core part of the film roll before vapor deposition processing in the long-size wound film roll after vapor deposition processing.例文帳に追加
蒸着加工された長尺巻きのフィルムロールにおいて、蒸着加工前のフィルムロールの巻芯部まで、ガスバリアー性及び蒸着層との密着性に優れた蒸着用二軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a film-thinning processing method of a photo-crosslinkable resin layer, capable of maintaining developing ability and dissolving ability constant even if the soluble amount of photo-crosslinkable resin dissolved is increased by continuous film-thinning processing.例文帳に追加
光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法において、連続薄膜化処理によって光架橋性樹脂溶解量が増加した場合にも、現像能力および溶解能力を一定に維持することができる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a laminated steel sheet suitable for manufacturing the two-piece can enhanced in processing degree capable of preventing the peeling and breakage of a laminate resin layer even in a can body enhanced in processing degree like an aerosol two-piece can.例文帳に追加
エアゾール2ピース缶のような高加工度の缶体であってもラミネート樹脂層の剥離と破断を防止できる加工度の高い2ピース缶の製造に好適なラミネート鋼板及び加工度の高い2ピースラミネート缶を提供する。 - 特許庁
To provide a decorative sheet in which adhesive properties are advanced between a substrate sheet and a transparent resin layer to prevent a bending processing portion from whitening, even when the decorative sheet is laminated on a steel substrate to be subjected to a bending processing.例文帳に追加
基材シートと透明樹脂層との密着性能を向上させ、更に鋼板基材などに貼り合わせて折り曲げ加工を行なった際にも、折り曲げ加工部が白化などを起こさない化粧シートを提供すること。 - 特許庁
In the electric-double-layer capacitor excelling in a long-term reliability, the surface of its each aluminum electrode terminal which faces at least the stuck portion of its container to its electrode terminal is coated with an oxide film by an anodic oxidation processing (alumite processing), etc.例文帳に追加
アルミニウム電極端子の少なくとも容器の貼り合わせ部と対面する表面が、陽極酸化処理(アルマイト処理)等により酸化皮膜で被覆されてなる、長期信頼性に優れた電気二重層キャパシタとする。 - 特許庁
To provide a laser processing method and a laser processing device for a wafer which have an altered layer formed inside along streets without causing abrasion even if a plurality of devices formed on a surface of the wafer have defective regions.例文帳に追加
ウエーハの表面に形成された複数のデバイスに欠陥領域が存在しても、アブレーションを起こすことなく内部にストリートに沿って変質層を形成することができるウエーハのレーザー加工方法およびレーザー加工装置を提供する。 - 特許庁
In the image forming method in which a photosensitive material and a processing member containing a silver halide stabilizer are overlapped and heat development is carried out, when they are overlapped, 20-120 g/m2 hydrophilic polymer binder is allowed to exist between a silver halide-containing layer and a silver halide stabilizer-containing layer situated nearest to the silver halide-containing layer in the processing member.例文帳に追加
ハロゲン化銀安定化剤を含有する処理部材を重ね合わせて熱現像を行う画像形成方法において、感光材料と処理部材を重ね合わせたときに、ハロゲン化銀含有層と、該ハロゲン化銀含有層に最も近い、該処理部材中のハロゲン化銀安定化剤含有層との間に、1m^2あたり20〜120gの親水性ポリマーバインダーを存在させて処理することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁
The prepreg for buildup includes a low-solubility resin layer containing the base material in a low-solubility resin in a B stage which is low in solubility in chemicals during the desmear processing and a high-solubility resin layer provided on one surface of the low-solubility resin layer and composed of a high-solubility resin in the B stage relatively higher in solubility in the chemicals during the desmear processing than the low-solubility resin.例文帳に追加
ビルドアップ用のプリプレグであって、デスミア処理時の薬品への溶解性が低いB−ステージの低溶解性樹脂に基材を含有する低溶解性樹脂層と、低溶解性樹脂層の片面に設けられ、低溶解性樹脂よりもデスミア処理時の薬品への溶解性が相対的に高いB−ステージの高溶解性樹脂からなる高溶解性樹脂層とを有することを特徴とする。 - 特許庁
The pavement constructing method by the cold mixture including a process for paving the cold mixture forming a stable processing layer and a process for spraying or applying a coupling material and an aggregate on the stable processing layer constructed by the paved cold mixture at least one time or more constructing a protection layer and the pavement body constructed by the pavement constructing method are provided.例文帳に追加
安定処理層を形成する常温混合物を舗設する工程、舗設された常温混合物によって構築された安定処理層上に、結合材と骨材とをそれぞれ少なくとも1回以上散布ないしは塗布して保護層を構築する工程とを含む、常温混合物による舗装構築方法と、その舗装構築方法によって構築される舗装体を提供することによって上記課題を解決する。 - 特許庁
The method includes steps of depositing a hard mask on a substrate in a first processing chamber, depositing a resist layer on the substrate, patterning the resist layer, etching the hard mask through apertures formed in the patterned resist layer in a second chamber, and etching a chromium layer through apertures formed in the hard mask in a third chamber.例文帳に追加
また、第1の処理チャンバにおいて基板上にハードマスクを堆積するステップと、レジスト層を該基板上に堆積するステップと、該レジスト層をパターニングするステップと、第2のチャンバにおいて該パターニング済みレジスト層上に形成されたアパーチャを介して該ハードマスクをエッチングするステップと、第3のチャンバにおいて該ハードマスクに形成されたアパーチャを介してクロム層をエッチングするステップと、を含んでいる。 - 特許庁
In the method for manufacturing the planographic printing plate having at least a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer on an anodically oxidized sheet, the planographic printing plate is processed with a processing liquid containing a metal fluoride and phosphate during the time after the provision of the physical development nucleus layer and before the provision of the silver halide emulsion layer.例文帳に追加
本発明の上記目的は、陽極酸化されたアルミニウム板に少なくとも物理現像核層、ハロゲン化銀乳剤層を有する平版印刷版の製造方法において、物理現像核層を設けた後、ハロゲン化銀乳剤層を設けるまでの間に、金属弗化物と燐酸塩を含有する処理液で処理することを特徴とする平版印刷版の製造方法。 - 特許庁
The manufacturing method of the circuit board at least includes: a wiring layer formation process of forming the wiring layers; an adhesion layer formation process of forming the adhesion layers each including at least one kind selected from the sulfonyl group, the sulfo group and the sulfonyl dioxin group and the carboxy group by processing the wiring layer front surfaces; and an insulating layer formation process of forming the insulating layers covering the adhesion layers.例文帳に追加
本発明の回路基板の製造方法は、配線層を形成する配線層形成工程と、前記配線層の表面を処理して、スルホニル基、スルホ基及びスルホニルジオキシ基から選択される少なくとも1種とカルボキシ基とを含む密着層を形成する密着層形成工程と、前記密着層を覆う絶縁層を形成する絶縁層形成工程とを少なくとも含む。 - 特許庁
The other objective cereal- sheet-wrapped food 30 also subjected to heat processing comprises a soft viscous palate feeling-imparting layer 31, an ingredient-constitutive food material 32 put on one side of the layer 31, and a cereal sheet 33 formed on the other side of the layer 31 and having wrapped both the layer 31 and the food material 32.例文帳に追加
また、本発明の穀物製シート被包食品30は、軟粘性食感付与層31と、軟粘性食感付与層31の一面側に配された具構成食材32と、軟粘性食感付与層31の他面側に設けられ軟粘性食感付与層31および具構成食材32を被包した穀物製シート33とを有し、熱加工して食されるものである。 - 特許庁
When the resin molded product having a photoset resin composition layer on its surface is formed by arranging a laminated sheet having the photoset resin composition layer in a mold and injecting a molten resin in the mold, surface fine uneven processing is applied to the surface of the photosetting resin composition layer before, during or after molding and the photosetting resin composition layer is subsequently subjected to photosetting.例文帳に追加
光硬化性樹脂組成物層を有する積層シートを金型内に配置し、溶融樹脂を射出して光硬化性樹脂組成物層を表面に有する樹脂成形品を形成する際に、この成形の前、間又は後に光硬化性樹脂組成物層に表面微細凹凸加工を施し、次いで光硬化性樹脂組成物層を光硬化させる。 - 特許庁
To provide a means for detecting a difference in positions between a first layer and a second layer of a multilayer substrate in a device for pre-processing the multilayer substrate in relation to boring of a contact hole that connects the contact surface of at least one first layer of the multilayer substrate and the contact surface of at least one second layer of the multilayer substrate.例文帳に追加
この発明による多層基板2の少なくとも一つの第一の層4の接触面と多層基板2の少なくとも一つの第二の層6の接触面とを互いに接続する接触用穴22を開けることに関して多層基板2を前処理するための装置24は、多層基板2の第一の層4と第二の層6との間の位置のずれを検出するための手段を備えている。 - 特許庁
The electrophotographic photoreceptor for reversal development which has at least a charge generation layer and a charge transport layer provided on a conductive base having its surface anodized for filming is obtained by carrying out electrostatic charging and exposure processing before the photoreceptor is used for an electrophotographing device after the charge generation layer and charge transport layer for formed.例文帳に追加
表面が陽極酸化皮膜処理された導電性支持体上に少なくとも電荷発生層と電荷輸送層を設けた反転現像用電子写真感光体であって、該電荷発生層と電荷輸送層を形成した後、感光体を電子写真装置で使用する前に帯電および露光処理を行なうことにより得られる反転現像用電子写真感光体。 - 特許庁
A spacer 30 is provided to the first transparent substrate 12 out of a pair of first and second transparent substrates, a liquid crystal substance having negative dielectric anisotropy is included in a liquid crystal layer 50 having dielectric constant anisotropy, a first alignment layer 16 is a vertical alignment layer, and alignment processing for providing a pretilt angle to the liquid crystal substance is applied to the first alignment layer 16.例文帳に追加
一対の第1透明基板12・第2透明基板の内の第1透明基板12には、スペーサー30が設けられており、誘電率異方性を有する液晶層50には、負の誘電異方性を有する液晶性物質が含まれており、第1配向膜16は、垂直配向膜であり、液晶性物質にプレチルト角を付与するための配向処理が施されている。 - 特許庁
In a wireless system having a plurality of access control protocols hierarchically constructed on the same wireless physical layer, when it is determined that only access control in a lower layer is disabled by a time-sequential change in the radio wave environment but access control in a higher layer is possible, an operating mode based on only the access control in the higher layer is selected to perform connection processing.例文帳に追加
同じ無線物理層上に階層的に構築された複数のアクセス制御プロトコルを持つ無線システムにおいて、時系列上での電波環境の変化によって、下位レイヤーでのアクセス制御のみが行えず、上位レイヤーでのアクセス制御は可能であると判断された場合に、上位レイヤーでのアクセス制御にのみ基づいた動作モードを選択して接続処理を行う。 - 特許庁
A network monitoring system comprises a graphical interface layer 1 for displaying a logic view of the system and processing user interaction, a logic network layer 2 for logically expressing the network and integrating application modules able to be customized through a general platform, and a network adopter layer 3 for generating a management message for the network and translating the message from the network to what suitable to the logic network layer 2.例文帳に追加
ネットワークをモニタリングするシステムは、システムの論理ビューを表示しユーザインタラクションを処理するグラフィカルインタフェース層1と、ネットワークを論理的に表現し汎用プラットフォームを通じてカスタム化可能なアプリケーションモジュールを統合する論理ネットワーク層2と、ネットワークのための管理メッセージを生成しネットワークからのメッセージを論理ネットワーク層2のために変換するネットワークアダプタ層3とを有する。 - 特許庁
During the bonding processing, at least one of the metal layers 3 and 5 comes into contact with the separate layer 2, which comprises a porous layer or coating made of a separate layer material selected from a group of mullite, Al_2O_3, TiO_3, ZrO_2, MgO, CaO, CaCO_2, and a mixture of at least two of the materials.例文帳に追加
接合処理中、金属層3、5の少なくとも1つが分離層2と当接し、該分離層2はムライト、Al_2O_3、TiO_3、ZrO_2、MgO、CaO、CaCO_2および該材料の少なくとも2つの混合物から成る群から選択した分離層材料から成る多孔性層またはコーティングから構成される。 - 特許庁
In a base material (10) for a multilayer wiring board, the insulating adhesive layer (15) with the tops (12A) of the bumps exposed or projected therefrom by optically processing a photosensitive insulating material (13) having adhesive properties is formed on the bump forming surface of a metallic layer (11), in which the bumps (12) for the inter-layer conduction are formed to one surface.例文帳に追加
多層配線板用基材(10)は、片面に層間導通用のバンプ(12)が形成された金属層(11)のバンプ形成面に、接着性を有する感光性絶縁材料(13)を光学処理することでバンプの頂部(12A)が露出または突出した絶縁接着層(15)を形成した。 - 特許庁
The method for processing a photoresist composition includes: (a) applying on a substrate a photoresist composition; (b) subjecting the photoresist layer to immersion exposure to radiation activating for the photoresist composition; (c) adjusting a contact angle with water of the exposed photoresist layer; and (d) developing the processed photoresist layer to provide a photoresist relief image.例文帳に追加
(a)基体上にフォトレジスト組成物を適用し;(b)フォトレジスト組成物を活性化する放射線でフォトレジスト層を液浸露光し;(c)露光されたフォトレジスト層の水接触角を調節し;および(d)処理されたフォトレジスト層を現像してフォトレジストレリーフ像を提供する;ことを含む、フォトレジスト組成物を処理する方法。 - 特許庁
The protective tape includes: an adhesive layer 3 formed on one side of the plastic film base 2; and a processed layer 1 formed on the opposite side of plastic film base; wherein the processed layer 1 is formed with a processing agent including a release agent that contains a cellulose polymer and a long chain alkyl group and/or a silicone resin.例文帳に追加
プラスチックフィルム基材2の片面に粘着剤層3、その反対面に処理層1が設けられている光学用保護テープであって、処理層1が、長鎖アルキル系剥離剤および/またはシリコーンレジン、ならびにセルロース系ポリマーを含有してなる処理剤により形成されていることを特徴とする光学用保護テープ。 - 特許庁
A selecting function 30 compares the version numbers of the common functional layers ('L2CAP', 'SDP', 'RFCOMM' equivalent to an intermediate layer and 'profile' equivalent to an upper layer) to execute the selection processing of each functional layer (or to allow a user to select the version numbers of the common functional layers on a display screen).例文帳に追加
選択機能30は、共通する機能層(中間層に相当する「L2CAP」、「SDP」、「RFCOMM」、及び上位層に相当する「プロファイル」)のバージョン番号を比較することにより、機能層毎の選択処理を行う(もしくは共通する機能層のバージョン番号を画面表示して使用者に選択させる)。 - 特許庁
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