「light-reflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(220ページ目) - Weblio英語例文検索

The coating film is irradiated with a light of at least 350 to 400 nm wavelength, to cause the photopolymerisable liquid crystal compound to polymerize; and thus the resin layer, which has the selective reflection band region of ≥150 nm width of one layer and has cholesteric regularity, is formed and the circularly polarized light isolating sheet is obtained.例文帳に追加

波長３５０〜４００ｎｍにおける平均モル吸光係数が２０００Ｍ^−１ｃｍ^−１以上の光重合開始剤と波長３５０〜４００ｎｍにおける平均モル吸光係数が１５００Ｍ^−１ｃｍ^−１以下の光重合性液晶化合物とを含有する光重合性組成物を基材上に塗布して塗膜を得、該塗膜に少なくとも波長３５０〜４００ｎｍの光を照射して、光重合性液晶化合物を重合させて、１層で選択反射帯域の幅が１５０ｎｍ以上のコレステリック規則性を持った樹脂層を形成し、円偏光分離シートを得る。 - 特許庁

(xxvi) Materials or equipment using stealth technology for reducing the level of the reflection or emission of radio waves, acoustic waves (including ultrasound), or light (limited to ultraviolet and infrared light) usable in rockets or unmanned aerial vehicles capable of transporting payloads for 300 kilometers or more, unmanned aerial vehicles falling under item (i)-3, goods (limited to those usable for a rocket capable of transporting payloads) falling under item (ii) (a), or goods falling under item (ii) (b), or test equipment thereof 例文帳に追加

二十六　電波、音波（超音波を含む。）若しくは光（紫外線及び赤外線に限る。）の反射若しくは放射を減少させるステルス技術を用いた材料若しくは装置であって、ペイロードを三〇〇キロメートル以上運搬することができるロケット若しくは無人航空機、第一号の三に該当する無人航空機、第二号イに該当する貨物（ペイロードを運搬することができるロケットに使用することができるものに限る。）若しくは同号ロに該当する貨物に使用することができるもの又はこれらの試験装置 - 日本法令外国語訳データベースシステム

In an optical pick-up, a laser beam L that is emitted from a semiconductor laser element 1 is converted into parallel light by a collimator lens 3 and is applied to an objective lens 4, a light spot is formed on an optical disk reading surface, and the reflection light of the light spot is received by a photosensor 6 for reproducing information on the optical disk.例文帳に追加

半導体レーザ素子１より射出されたレーザ光Ｌをコリメータレンズ３で平行光に変換して対物レンズ４に入射し、光スポットを光ディスク読み取り面に形成して、この光スポットの反射光を受光センサ６により受光することにより前記光ディスク上の情報を再生する光ピックアップにおいて、前記半導体レーザ素子の出射端面と前記光ディスクとの間の光路長が、式［半導体レーザ素子の実効共振器長×ｍ（ｍは整数）×（１＋０．５）］で与えられる長さの場合であって、前記光路長が前記半導体レーザ素子の共振器長の誤差に起因して、式［実効共振器長×（Ｎ±０．２５）（Ｎは正数）］で与えられる範囲内の長さになるときは、屈折率が１以上の光路長補正光学素子１１をコリメータレンズ３と対物レンズ４との間の光路中に介在させる。 - 特許庁

In the nitride semiconductor element having the p-type nitride semiconductor layer, by forming an electrode containing at least rhodium and iridium, an excellent ohmic contact between the electrode and the p-type semiconductor layer is obtained and at the same time, the nitride semiconductor element the external quantum efficiency of which is excellent is obtained because the electrode has a high reflection coefficient therefore the absorption of light at the electrode is reduced.例文帳に追加

ｐ型窒化物半導体層を有する窒化物半導体素子において、ｐ型窒化物半導体層に、少なくともロジウムとイリジウムとを含有する電極を形成することにより、電極とｐ型窒化物半導体層との良好なオーミック接触が得られると共に、電極が高反射率を有するので、電極における光の吸収が少なくなり、外部量子効率の良い窒化物半導体素子が得られる。 - 特許庁

In the thermal embossing type embossed mold release paper constituted of at least a paper layer and a hot-melt resin layer and characterized in that embosses are formed to the hot-melt resin comprises an ionizing radiation curable resin cured by the irradiation with ionizing radiation after emboss processing and a light reflection layer is provided between the paper layer and the hot-melt resin layer.例文帳に追加

少なくとも紙層／熱溶融樹脂層から構成され、前記熱溶融樹脂層にエンボスが形成された熱エンボスタイプのエンボス付き離型紙において、前記熱溶融樹脂がエンボス加工後電離放射線照射により硬化させる電離放射線硬化性樹脂からなり、前記紙層と前記熱溶融樹脂層の間に光反射層が設けられていることを特徴とするエンボス付き離型紙。 - 特許庁

The optical waveguide type wavelength dispersion compensation device has an optical waveguide as a reflection type wavelength dispersion compensation means in which the equivalent refractive index of a core imbedded in a clad inhomogeneously varies over a light propagation direction, wherein the optical waveguide has a plurality of channels of dispersion-compensation wavelength regions and a dispersion-compensation characteristic in which the dispersion is compensated in the wavelength region of the respective channels.例文帳に追加

クラッドに埋め込まれたコアの等価屈折率が光伝搬方向にわたって不均一に変化する光導波路を反射型の波長分散補償手段として有し、前記光導波路は、分散補償する波長領域が複数のチャンネルに区切られ、各チャンネルの波長領域内で分散が補償される分散補償特性を有していることを特徴とする光導波路型波長分散補償デバイス。 - 特許庁

The wristwatch type personal digital assistant includes: a near infrared ray irradiation part 11 for irradiation a human body with a near infrared ray; a fatigue analyzing part 12 for analyzing the degree of fatigue by analyzing an absorption spectrum with the use of reflection light after the irradiation of the near infrared ray from the near infrared ray irradiation part 11; and a control part 6 for performing control to notify the user of the analysis result of the degree of fatigue.例文帳に追加

本発明による腕時計型の携帯端末は、近赤外線を人体に照射する近赤外線照射部１１と、この近赤外線照射部１１から近赤外線を照射した後の反射光により吸収スペクトルを解析することによって、疲労度を分析する疲労分析部１２と、この疲労度の分析結果をユーザに通知制御する制御部６とを含むことを特徴としている。 - 特許庁

To provide a display device which improves the efficiency of effective reflected light to realize bright reflection display and attains a gray shades display and improves the precision of the gray shades display and improves the contrast and improves durability for repeated display and increases the response speed and improves shape controllability for gel production.例文帳に追加

第１の目的は有効反射光の効率をより高めて明るい反射表示をおこない、第２の目的は階調表示を可能とし、第３の目的は階調表示の精度を向上させ、第４の目的はコントラストを向上させ、第５の目的は繰り返し表示の耐久性を向上させ、第６の目的は応答速度を向上させ、第７の目的はゲル作製時の形状制御性を向上させた表示素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for removing a standing wave caused by the variation of ArF light and the thickness of photoresist by preventing the reflection from a lower film layer in the process for forming an ultrafine pattern using a lithographic photoresist in the production process of a semiconductor element, an antireflection composition containing the organic antireflection polymer, an antireflection film produced by using the composition and a method for forming the antireflection film.例文帳に追加

半導体素子の製造工程中におけるリソグラフィー用フォトレジストを使用する超微細パターンの形成工程において、下部膜層の反射を防止してＡｒＦ光およびフォトレジスト自体の厚さの変化によって生じる定在波の除去法および、このような有機反射防止重合体を含む反射防止用の組成物、これを利用した反射防止膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a DNA chip substrate capable of improving the accuracy of optical detection after hybridization, which is the DNA chip substrate made of amorphous carbon having little light reflection and thickness dispersion, and excellent in surface smoothness, warping property and a DNA immobilization efficiency, and a manufacturing method capable of acquiring easily the DNA chip substrate made of the amorphous carbon.例文帳に追加

光反射、厚みばらつきが少なく、表面平滑性、そり性、ＤＮＡ固定化効率に優れたアモルファスカーボン製のＤＮＡチップ基板であって、このＤＮＡチップ基板を用いることによってハイブリダイゼーション後の光学検出の精度を向上することが可能であるＤＮＡチップ基板の提供、及びこのアモルファスカーボン製のＤＮＡチップ基板を容易に得ることができる製造方法の提供。 - 特許庁

The reflection sheet 1 for the back light unit for reducing the diffusion of rays is provided with a substrate sheet layer 2 made of a white synthetic resin and a flawing preventive layer 3 laminated on the surface side of the layer 2 and is characterized in that the layer 3 has a binder 4 and beads 5 dispersed in the binder 4 and that silicone rubber is used as the material of the beads 5.例文帳に追加

光線の放散を低減するバックライトユニット用の反射シート１であって、白色合成樹脂製の基材シート層２とこの基材シート層２の表面側に積層される傷付き防止層３とを備え、この傷付き防止層３がバインダー４とこのバインダー４中に分散するビーズ５とを有しており、このビーズ５の材料としてシリコーンゴムが用いられていることを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a new polymerizable monomer, to provide a polymer which uses the monomer, and has a high fluorine content, high transparency in a wide wavelength region from vacuum UV light to an optical communication region, a high adhering property to substrates, and a high film-forming property, and further to provide a reflection-preventing material, an optical device material and a resist material coated with the polymer.例文帳に追加

高いフッ素含量を有しながら、幅広い波長領域すなわち真空紫外線から光通信波長域にいたるまで高い透明性を有し、かつ基板への密着性や高い成膜性を併せ持つ新規な重合性単量体およびそれを用いた高分子化合物、さらにはその高分子化合物をコーティングした反射防止材料、光デバイス材料、レジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a touch panel member having an optical adjustment layer provided for light reflection formed as the a single layer, which is capable of preventing or reducing the visibility of a patterned transparent electrode layer in the touch panel member and can be formed by a simple method of coating means as well, a manufacturing method of the touch panel member, and a coordinate detection device including the touch panel member.例文帳に追加

光反射のために設けられる光学調整層を単層とした上で、タッチパネル部材におけるパターニングされた透明電極層の視認を防止し、または低減させることができ、しかも、塗工手段という簡易な方法によっても形成可能な光学調整層を備えるタッチパネル部材、および上記タッチパネル部材の製造方法、および、上記タッチパネル部材を備える座標検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide an antiglare film which can effectively prevent reflection of external light and fall of contrast without reducing clearness of a high definition image by miniaturization of pixel size or the like and on which a desired fine rugged shape is effectively and stably formed with sufficient productivity, to provide a manufacturing method of the antiglare film and further to provide an antiglare antireflection film, a polarizing plate and a display apparatus using the antiglare film.例文帳に追加

画素サイズの小型化等による高精細な画像の鮮明性を低下させることなく、外光の写り込みや、コントラストの低下を有効に防止出来、所望の微細凹凸形状を生産性よく効果的・安定的に形成した防眩性フィルム、防眩性フィルム製造方法を提供し、更にそれを用いた防眩性反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置を提供する。 - 特許庁

In a monitor photographing mode for retracting a reflection mirror from the inside of an optical path, making light incident on an imaging sensor 11 and performing photographing by the liquid crystal monitor 16 for image display while a photographer looks at the photographed image, the camera system 1 reduces uncomfortable feeling received from the photographed image that is monitored when the photographer performs framing while reducing the influence of camera shake by slowly executing image blur correction.例文帳に追加

反射ミラーを光路内から退避させて撮像センサ１１に光を入射させ、画像表示用液晶モニタ１６にて、その撮影画像を見ながら撮影を行うモニタ撮影モードにおいて、カメラシステム１は、像ブレ補正を緩やかに実行することにより、手ブレの影響を軽減しながら、撮影者がフレーミングの際にモニターしている撮影画像から抱く不快感を低減させる。 - 特許庁

Further in the photomask which has a plurality of unit mask regions having the same external size and the same mask pattern including a plurality of light transmission sections formed thereon and on which the unit mask regions are adjacently and repeatedly arranged along the predetermined direction, the photomask in which width of the unit mask region in the predetermined direction is ≥600μm is used and the diffuse reflection board is formed by using photolithography.例文帳に追加

また、同一の外形寸法を有すると共に複数の光透過部を含む同一のマスクパターンが形成された単位マスク領域を複数有し、単位マスク領域が所定方向に沿って隣接して繰り返し配置されたフォトマスクにおいて、所定方向における前記単位マスク領域の幅が６００μｍ以上であるフォトマスクを用い、フォトリソグラフィー法を用いて拡散反射板を形成する。 - 特許庁

A second light source unit generating a second laser beam group LS for low resolution is arranged near the first reflection mirror, so that the second incident angle of the second laser beam group LS with respect to the polygon mirror 21 is larger than the first incident angles and is within a range where the second laser beam group LS can scan an image forming area on a predetermined photoreceptor drum in the main scanning direction.例文帳に追加

低解像度用の第２レーザビーム群ＬＳを生成する第２光源ユニットは、第２レーザビーム群ＬＳのポリゴンミラー２１に対する第２の入射角度が、第１入射角度よりも大きくて、第２レーザビーム群ＬＳが所定の感光体ドラムにおける画像形成領域を主走査方向に沿って走査できる範囲内となるように、第１反射ミラーに近接して配置されている。 - 特許庁

To provide a flexible organic EL element of a long lifetime, with little reflecting-in of images by reflection with the use of a transparent substrate of low cost with ruggedness and flexibility, which does not generate matters impeding emission of the organic EL element, as to one equipped with at least a positive electrode layer, an organic light-emitting medium layer, and a negative electrode layer.例文帳に追加

本発明は可撓性のある透明基板の上に少なくとも陽極層、有機発光層を含む有機発光媒体層、陰極層を有するフレキシブル有機ＥＬ素子において、低コストで、有機ＥＬ素子の発光を阻害するような物質を出さない凹凸を有する可撓性のある透明基板を用いて、反射による像の映り込みが少なく長寿命のフレキシブル有機ＥＬ素子を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method of evaluating the lifetime of the silicon single-crystal wafer having dopant impurities diffused on one of surfaces includes steps of passivating the entire surface of the diffusion silicon single-crystal wafer when evaluating the lifetime, thereafter irradiating excitation light to the surface opposite to the diffusion surface, applying high frequency, and detecting its reflection wave, to evaluate the lifetime.例文帳に追加

片面にドーパント不純物が拡散されたシリコン単結晶ウエーハのライフタイムを評価する方法であって、前記ライフタイムを評価する際に、前記拡散シリコン単結晶ウエーハの全表面に対してパッシベーションを行い、その後、前記拡散面とは反対側の表面に対して励起光の照射と、高周波の入射及びその反射波の検出を行うことでライフタイムの評価をすることを特徴とするライフタイムの評価方法。 - 特許庁

A liquid crystal display device constituted by sealing the liquid crystal LC between a driving substrate 14 having a plurality of reflection pixel electrodes 12 arranged in matrix on the surface across specified gaps and a transparent substrate 34 having a transparent opposite electrode 16 has light blocking members 44 formed in gaps 24 between the pixels along the gaps.例文帳に追加

表面に互いに所定の隙間を隔ててマトリックス状に配置された反射型の複数の画素電極１２を有する駆動基板１４と、前記画素電極に対向する透明な対向電極１６を有する透明基板３４との間に液晶ＬＣを封入してなる液晶表示装置において、前記画素電極同士の前記隙間２４に、該隙間に沿って遮光部材４４を形成するように液晶表示装置を形成する。 - 特許庁

In this method for measuring thickness of a thin film, in the formation of at least one thin film 12 or more on a transparent substrate 13, light is made to irradiate a thin film formed surface and the reflection factor and the transmissivity thereof are measured to determine the thickness of the thin films.例文帳に追加

透明基板１３上に少なくとも１層以上の薄膜１２を形成する際に、該薄膜形成表面から光を照射して反射率或いは透過率を測定し、該薄膜の膜厚を測定する方法であって、少なくとも一波長以上の光を用いた単色及び多色光測定において、測定光の波長、波長幅が関係式（１）を満足するようにして膜厚を測定するすることを特徴とする膜厚測定方法である。 - 特許庁

Provided is the optical lens whose reflection is suppressed by having a convex lens surface which has a maximum tilt angle of 35 to 90° between a surface contacting the lens surface and a direction orthogonal to the optical axis and an antireflective structure which has structure units in a designated shape periodically arrayed on the lens surface at intervals smaller than the shortest wavelength of the incident light.例文帳に追加

レンズ面に接する面と、光軸に直交する方向との成す角を傾斜角とするとき、３５度以上９０度未満の最大傾斜角を有する凸面形状のレンズ面と、レンズ面に、所定の形状を有する構造単位が入射光の最短波長よりも小さいピッチで周期的にアレイ状に配列された反射防止構造体とを備えることにより、反射が抑制された光学レンズを提供することができる。 - 特許庁

This display body 10 includes: a rugged structure region having a plurality of recessed or projecting parts or both thereof arranged in two dimensions on one principal surface of a light transmitting layer; and a reflection layer supported on the one principal surface to cover at least part of the rugged structure region, wherein the pitch of the plurality of recessed or projecting parts or both thereof ranges from 200 nm to 500 nm.例文帳に追加

本発明の表示体１０は、光透過層の一方の主面に、二次元的に配列した複数の凹部又は凸部又はその両方を含む凹凸構造領域を備え、前記一方の主面に支持され、前記凹凸構造領域の少なくとも一部を被覆する反射層を具備しており、前記複数の凹部又は凸部又はその両方の中心間距離が２００ｎｍ乃至５００ｎｍの範囲内にあることを特徴とする。 - 特許庁

The reflection type LED light source comprises a rectangular base having a phosphor layer covering a reflective material laid on the surface of a recess formed into the upside center of the base, a LED chip disposed above the recess of the base and an approximately spherical transparent resin dome projecting up from the base upside in the form of covering the recess of the base and the LED chip.例文帳に追加

外形が直方体状で上面側中央部に凹部を形成するとともにこの凹部の表面に反射材を配置し、この反射材を覆うように蛍光体層を形成した基材と、この基材の凹部上方に配置されたＬＥＤチップと、前記基材の凹部および前記ＬＥＤチップを包含したかたちで基材上面より上方に突出した略球形ドームを形成した透明樹脂を備えた反射型ＬＥＤ光源とした。 - 特許庁

The laser scanning microscope is equipped with an illumination beam path for illumination of a sample, and a detection beam path for wavelength-dependent sensing of the light from the sample, whereby filters for selection of the detection wavelengths are provided, characterized in that at least one graduated filter spatially variable in regard to the threshold wavelength between the transmission and reflection is provided in several partial beam paths for the selection of the wavelengths.例文帳に追加

この走査型レーザ顕微鏡は、試料を照らすための照明用の放射線経路と、試料光を波長に応じて感知するための検出用の放射線経路とを備え、検出波長を選択するためのフィルタが設けられており、複数の部分放射線経路へと波長を選択するために、透過と反射との間の境界波長が場所によって変わる少なくとも１つのグラデーション・フィルタが設けられている。 - 特許庁

Concerning a semiconductor laser which is provided with an outer resonator comprising a reflection member and an anterior incident end face provided outside and provided with a wavelength selection element in the outer resonator to oscillate by wavelength selected by the wavelength selection element, the arranging position of at least one member selected from a member constituting the outer resonator and a member arranged within the outer resonator is adjusted finely so as to reduce light returning to the semiconductor layer.例文帳に追加

外部に設けられた反射部材と前方出射端面とで構成された外部共振器を備えると共に、該外部共振器内に波長選択素子を備え、前記波長選択素子により選択された波長で発振する半導体レーザについて、外部共振器による半導体レーザへの戻り光が減少するように、外部共振器を構成する部材及び外部共振器内に配置される部材から選択された少なくとも１つの部材の配置位置を微調整する。 - 特許庁

Also the reflective liquid crystal display device, equipped with the substrates having electrodes and the liquid crystal composition layer, a polarizing means to change light transmission or reflection characteristics corresponding to the aligned state of the liquid crystal molecules in the liquid crystal composition layer and a driving means to drive the liquid crystal composition layer by applying voltage to the electrodes, uses the substrates for the liquid crystal display element.例文帳に追加

また、本発明の反射型液晶表示装置は、電極と液晶組成物層とを有する基板および前記液晶組成物層の液晶の分子配向状態に応じて光の透過、或いは、反射特性を変える偏光手段ならびに前記電極に電圧を与えて前記液晶組成物層を駆動する駆動手段とを備えた反射型液晶表示装置において、該基板が、前記液晶表示素子用基板を用いて構成されていることを特徴とするものである。 - 特許庁

Therefore, I would like to refrain from commenting on the future course of administrative actions for now with prejudgment. Mizuho Financial Group’s reform plan, which was taken up as a major news item today by various newspapers, has been drawn up voluntarily based on a company-wide reflection on the problem in light of the findings and recommendations of a third-party committee established by Mizuho Bank, which is formally called the Special Investigation Committee on System Failures. I think that the content of the plan deserves some degree of appreciation. 例文帳に追加

したがって、行政対応について、今の時点では予断を持って言及することは差し控えたいと思っておりますが、今日も各紙大きく載っていましたけれども、今般のみずほグループの取り組みについては、みずほ銀行が設置しました第３者委員会、正式にはシステム障害特別調査委員会というようですが、当委員会における指摘・提言内容等を踏まえて、全社的な反省に立ち、自主的・自律的に社内改革を取りまとめたものであり、その内容についても一定の評価ができるものというふうに考えております。 - 金融庁

To provide an EUV light exposure mask having no effect on the substantial reflection performance of a multilayer film 2 portion even if it is not stripped and in which the structure and material of a buffer film 4 are specified to have the essential function, i.e., the protective function of the multilayer film 2, and to provide a blank for producing the mask and a patterning method employing that mask.例文帳に追加

基板１上に、露光光を反射する領域となる多層膜２を有し、前記多層膜２上に吸収用となるパターニングされた薄膜３、さらに前記多層膜２と吸収性薄膜の間に緩衝用となる薄膜４を有する極限紫外線露光用マスクにおいて、剥離しなくとも多層膜２部の実質的な反射性能への影響がなく、さらに本来の機能としての多層膜２の保護機能も有するように緩衝膜４の構造、材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク、およびそれを作製するためのブランク並びにそのマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV light exposure mask having no effect on the substantial reflection performance of a multilayer film 2 part even if it is not stripped in which the structure and material of a buffer film 4 are specified to have the essential function, i.e. the protective function of the multilayer film 2, and to provide a blank for producing the mask and a patterning method employing that mask.例文帳に追加

基板１上に、露光光を反射する領域となる多層膜２を有し、前記多層膜２上に吸収用となるパターニングされた薄膜３、さらに前記多層膜２と吸収性薄膜の間に緩衝用となる薄膜４を有する極限紫外線露光用マスクにおいて、剥離しなくとも多層膜２部の実質的な反射性能への影響がなく、さらに本来の機能としての多層膜２の保護機能も有するように緩衝膜４の構造、材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク、およびそれを作製するためのブランク並びにそのマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The transmittance of light from the backlight is improved because there is no need for the semitransmissive reflection plate to have a vapor deposited metal film for the purpose of improving the reflectance.例文帳に追加

本発明に関わる半透過反射板を有する半透過型液晶表示装置は、液晶層を間に挟む２枚の偏光板を含む液晶パネルと、一方の偏光板に対して液晶層のある側と反対側の面である一方の偏光板の表面に設け、光を透過すると共に他方の偏光板の表面と異なる光の反射角度を持つ反射板であって、表面の略全面に渡る反射面を複数面持つことで反射率を向上する半透過反射板と、半透過反射板に対して液晶パネルのある側と反対側に配置されるバックライトとを有し、半透過反射板は、反射率向上に金属膜を蒸着する必要が無いのでバックライトからの光の透過率をも向上することを特徴とする。 - 特許庁