「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an alkali soluble resin containing cyclic silicone resin, which gives a photosensitive resin composition excellent in weather resistance, light resistance, heat resistance, etc., and can form a fine pattern.例文帳に追加

耐候性、耐光性、耐熱性等に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を得ることができる、環状シリコーン樹脂を含んだアルカリ可溶性樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition suitable for ArF excimer laser lithography and good in properties such as resolution, sensitivity and a pattern form, and also line edge roughness, in particular.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、特に、ラインエッジラフネスが良好である化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition film allowing formation of a film having superior heat resistance, in which a high-resolution pattern can be formed without producing undercut at patterning.例文帳に追加

パターン加工時にアンダーカットが発生することなく、高解像度のパターンを形成し、優れた耐熱性を有する膜を形成することができる感光性樹脂組成物フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition that allows a pattern of high precision to be formed at low cost and has small thickness and high adhesive strength to a ceramic, silicon and glass substrate.例文帳に追加

安価で、高精細のパターンを形成することができ、かつセラミック、シリコンおよびガラス基板に対して薄膜で接着強度が高い感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having not only excellent sensitivity and resolution but also large depth of focus and excellent pattern peel-off resistance even on a substrate with high reflectivity.例文帳に追加

感度、解像度が優れているだけでなく、焦点深度が広く、高反射率基板上でもパターン剥がれ耐性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a hard disk suspension protective film having a sufficiently low hygroscopic expansion coefficient, a method for producing a resist pattern using the same, and a hard disk suspension.例文帳に追加

吸湿膨張係数が十分に低いハードディスクサスペンション保護膜用の感光性樹脂組成物、並びにこれを用いたレジストパターンの製造法、及びハードディスクサスペンションを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in in-plane uniformity of film thickness when coating, and in storage stability, a method for manufacturing a cured relief pattern and a semiconductor device.例文帳に追加

コーティング時の膜厚の面内均一性が良好で保存安定性が良好な感光性樹脂組成物、並びに硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition (positive photosensitive pressure-sensitive adhesive) excellent in adhesion property and light resistance free from yellowing and suitable to form a pattern with an excellent profile.例文帳に追加

本発明は、密着性や耐光無黄変性に優れ、優れた形状パターンを形成するのに好適な、感光性樹脂組成物（ポジ形感光性粘着剤）を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a colored curable composition, which has high exposure sensitivity to g- and h-lines, is excellent in removability by development, and forms a colored pattern with no variations in a line width.例文帳に追加

ｇ線及びｈ線に対する露光感度が高く、且つ、現像除去性に優れ、線幅にバラつきのない着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To realize a resist composition having dry etching resistance, that is less likely to cause collapse of a resist pattern, capable of preventing acid leaching, and is superior in basic properties as a resist.例文帳に追加

ドライエッチ耐性を有し且つレジストパターンが倒れにくく、酸の溶出防止が可能であると共に、レジストとしての基本特性が優れたレジスト組成物を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive photoresist composition capable of giving a resist pattern improved in etching resistance, and excellent also in other resist properties such as sensitivity, resolution and line edge roughness.例文帳に追加

耐エッチング性が改善されたレジストパターンを与えることができ、かつその他のレジスト特性、例えば感度、解像度、ラインエッジラフネスも優れた化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The decorative glass substrate 3 is obtained by coating the coloring composition on a low expansive crystallized glass substrate as a low expansive substrate, and after that, by forming a pattern 1 by firing.例文帳に追加

上記着色組成物を低膨張ガラス基板としての低膨張結晶化ガラス基板２の表面に絵付けし，焼成して，模様１を形成してなる装飾ガラス基板３である。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern shape, etc., and having small temperature dependence in heating after exposure.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等に優れ、露光後の加熱時の温度依存性が小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a dipropylene glycol dialkyl ether into which a resin additive, such as a binder resin, is soluble with high solubility, which has low hygroscopicity, and which is suitable for a solvent composition for forming a pattern of an electronic parts.例文帳に追加

バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い、電子部品パターン形成用溶剤組成物として好適なジプロピレングリコールジアルキルエーテルを提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having excellent characteristics in sensitivity, resolution, heat resistance, etc., in a lithography process when an electrode pattern of a semiconductor or a thin panel display is produced.例文帳に追加

半導体や薄型パネルディスプレイの電極パターンを製造する際のリソグラフィー工程において、感度、解像度、耐熱性など優れた特徴をもつフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

This nonwoven material is produced by applying an adhesive composition 8 to one surface of a nonwoven material 3 such as a nonwoven fiber web or a plastic film in a constant pattern and then forming holes 9 in the nonwoven material 3.例文帳に追加

接着剤組成物８を、繊維不織ウェブ又はプラスチックフィルム等の不織物質３の一面に一定のパターンで適用し、次にこの不織物質３に孔９を開けて製造する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ETCHING RESIST, METHOD OF MANUFACTURING PATTERN, MEMS STRUCTURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, DRY ETCHING METHOD, WET ETCHING METHOD, MEMS SHUTTER DEVICE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

エッチングレジスト用感光性樹脂組成物、パターン作製方法、ＭＥＭＳ構造体及びその作製方法、ドライエッチング方法、ウェットエッチング方法、ＭＥＭＳシャッターデバイス、並びに、画像表示装置 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, MEMS STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, DRY ETCHING METHOD, WET ETCHING METHOD, MEMS SHUTTER DEVICE AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターン作製方法、ＭＥＭＳ構造体及びその作製方法、ドライエッチング方法、ウェットエッチング方法、ＭＥＭＳシャッターデバイス、並びに、画像表示装置 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist having high transmittance of radiation and excelling in sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern profile.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターンプロファイル等に優れ、化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having statisfying, at the same time, characteristics of sensitivity, resolution, pattern profile and line edge roughness for the use of KrF excimer laser, electron beams and X rays.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

This decorative sheet is laminated with a base material, a pattern layer, and a surface protection layer containing a matting agent and a sodium calcium aluminosilicate particle in a curable type resin composition, in this order.例文帳に追加

化粧シートを、基材と、絵柄層と、硬化型樹脂組成物中にマット剤とソジウムカルシウムアルミノシリケート粒子を含有してなる表面保護層と、をこの順で積層して構成する。 - 特許庁

The optical article has a surface structure where a fine concavo-convex pattern is formed of a cured product of a photosetting resin composition essentially comprising the following epoxy acrylate resin.例文帳に追加

下記エポキシアクリレート樹脂を主成分とする光硬化性樹脂組成物の硬化物により微細凹凸パターンが形成された表面構造を備えることを特徴とする光学物品。 - 特許庁

To provide a paste composition, which is applicable to minute pattern processing based on photolithography, and using a dispersion medium having no acute toxicity, can obtain a transparent composite membrane with a high refractive index.例文帳に追加

フォトリソグラフィーによる微細パターン加工に対応でき、さらには急性毒性を有しない分散媒を用いて、高屈折率の透明複合膜が得られるペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radial ray-sensitive resist composition that has a high resolution and a high sensitivity and gives resist patterns having excellent pattern shapes and high etching resistance and a polymer to be used therefor.例文帳に追加

高解像性及び高感度を有し、パターン形状及び耐エッチング性に優れるレジストパターンを与える放射線感応性レジスト組成物、及びそれに用いる重合体を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition excellent in etching resistivity and the stability during a post-exposure delay (PED) period, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

エッチング耐性及びＰＥＤに対する安定性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for soft X-rays having high sensitivity, high resolution, a square pattern profile, excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解像性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた特性を有する軟Ｘ線用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which does not cause deterioration in adhesion to a substrate with time and enables a high-definition pattern having a low resistance value to be formed on a glass substrate.例文帳に追加

経時的に基板への密着性が低下することがなく、かつ抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供する - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition featuring a high resolution, reduced line edge roughness, and a minimized variation of line width with changing temperature, and a pattern forming process using the same.例文帳に追加

ラインエッジラフネスの低減、温度変化に対しての線幅変動低減、また高解像性の化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition improved in fluidity and coating stability, and a photoresist pattern forming method and a display substrate production method using the same.例文帳に追加

流動性及びコーティング安定性が向上した感光性樹脂組成物並びにこれを利用したフォトレジストパターンの形成方法及び表示基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as sensitivity, resolution, pattern shape and line edge roughness when KrF excimer laser light, an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a relief pattern includes steps of applying and drying the above photosensitive polymer composition on a supporting substrate, exposing, developing, and heat treating it.例文帳に追加

前記感光性重合体組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、現像する工程、加熱処理する工程を含むレリ−フパターンの製造法及び電子部品。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition suitable for use as an etching mask material, particularly a mask material for etching gold, excellent in resolution during pattern formation and also in etching properties.例文帳に追加

パターン形成時の解像度に優れ、しかもエッチング性に優れる、エッチング用マスク材、特に金エッチング用マスク材として好適なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition for forming a fine pattern, which is capable of accurately forming an optimum (fine) image for various electronic components by a relief reversal printing method.例文帳に追加

各種電子部品として所望される最適（微細）な画像を、凸版反転印刷法により正確に形成することができる微細パターン形成用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

Further, the diffuse reflection layer with a reflectance gradient is also made by printing paint having a similar composition to the translucent substrate by controlling dot density of a dot pattern.例文帳に追加

また、同様組成の塗料をドットパターンのドット密度を制御して透光性基板に印刷することにより反射率の勾配を付与した拡散反射層として形成される。 - 特許庁

This composition for forming the conductive pattern contains conductive fine particles comprising at least one kind of metal and a dispersing agent dispersing the conductive fine particles in a dispersion medium.例文帳に追加

導電性パターン形成用組成物は、少なくとも１種の金属からなる導電性微粒子と、導電性微粒子を分散させる分散剤とを分散媒中に含有している。 - 特許庁

To provide a liquid resin composition capable of reducing the discoloring of a white coating film, due to UV irradiation and a thermal history, and the lowering of reflectance, and forming a pattern with a low amount of exposure.例文帳に追加

ＵＶ照射，熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少なく、かつ、低露光量でパターン形成可能な液状樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

Then, by using an ashing gas, which is the gaseous mixture of O_2 and N_2 for which the composition rate of N_2 is 50% or higher, plasma ashing is performed at the substrate temperature of 200°C or higher, and the resist pattern 3 is peeled off.例文帳に追加

そして、Ｏ_2とＮ_2の混合ガスでありＮ_2の組成比が５０％以上であるアッシングガスを用い、基板温度を２００℃以上にしてプラズマアッシングを行い、レジストパターン３を剥離する。 - 特許庁

When the substance is gathered on a conductive pattern by a foreign substance removal probe, the foreign substance or the scraped residue of the foreign substance is subjected to composition analysis by Auger electron spectroscopy or secondary ion mass spectrometry.例文帳に追加

異物除去探針で導電性のパターン上に集めた場合にはオージェ電子分光または二次イオン質量分析法で異物または異物の削り滓を組成分析する。 - 特許庁

To provide a liquid resin composition which substantially avoids discoloration and reflectance reduction of a white coating film thereof due to exposure to UV and heat history, and which enables to form a pattern at a small light exposure.例文帳に追加

ＵＶ照射、熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少なく、かつ、低露光量でパターン形成可能な液状樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition in which a defect, a scum and an elution ratio when liquid immersion exposure are improved and favorable for a liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in sensitivity, limit resolution, roughness properties, exposure latitude (EL), post exposure bake (PEB) temperature dependency and depth of focus (DOF), and a resist composition.例文帳に追加

感度、限界解像力、ラフネス特性、露光ラチチュード（ＥＬ）、露光後加熱（ＰＥＢ）温度依存性、及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れたパターン形成方法並びにレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition sufficiently effective in improving resolution and resist removal characteristic, a photosensitive element, a method of forming a resist pattern, and a method of manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

解像度及びレジスト剥離特性の向上に十分効果のある感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide resin composition which has excellent positive photosensitive characteristics and good resolution in pattern formation, is less liable to warp because of relieved thermal stress, and is easily worked.例文帳に追加

ポジ型感光特性に優れてパターン形成時の解像性が良好であり、熱応力を緩和して反りの発生が少なく、加工性の容易な感光性ポリイミド樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a mask pattern for manufacturing a semiconductor device, a forming method thereof, a method for manufacturing coating composition for forming a micropattern, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子製造用のマスクパターン及びその形成方法、並びに微細パターン形成用コーティング組成物の製造方法及び半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition which imparts adequate heat resistance and mechanical characteristics even when heat-treated at a low temperature of ≤220°C, a method for producing a pattern, and electronic components.例文帳に追加

２２０℃以下の低温下の加熱処理でも十分な耐熱性と機械特性を与えるネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁