「pattern transfer process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The pattern (254) is partially transferred to the ARC layer (240) using a transfer process such as an etching process, to form the ARC pattern (242).例文帳に追加

そのパターン（２５４）は、エッチングプロセスのような転写プロセスを用いることによって、ＡＲＣ層（２４０）へ部分的に転写されて、ＡＲＣパターン（２４２）が形成される。 - 特許庁

The pattern forming method includes a process for cleaning an original plate 3 having a transfer pattern, and a process for transferring the transfer pattern to a pattern forming material 2 formed on a transferring substrate 1 before the allowable leaving time of the original plate 3 after cleaning passes.例文帳に追加

転写パターンを有する原板３を洗浄する工程と、原板３を洗浄した後の原板３の許容放置時間が経過する前に、転写パターンを被転写基板１に形成されたパターン形成材料２に転写する工程と、を備える． - 特許庁

An after exposure baking process (temperature cycle) for a substrate is implemented within prescribed hours after pattern transfer.例文帳に追加

基板の露光後ベーク工程（温度サイクル）は、パターン転写後の所定の時間内に実施される。 - 特許庁

To provide an acid transfer resin film capable of preventing intermixing, and a pattern forming method capable of forming a pattern by an existing photolithography process by using the acid transfer resin film.例文帳に追加

インターミキシングを防止できる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する - 特許庁

To constitute a logic circuit employing a fine gate fabrication process through a sidewall pattern transfer method.例文帳に追加

サイドウォールパターントランスファー法による微細ゲート形成工程を採用した論理回路を構成することである。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which makes patterns on a film under process in a pattern transfer process using spin-on-glass without breaking the spin-on-glass.例文帳に追加

スピンオングラスを用いたパターン転写プロセスにおいて、スピンオングラスの破裂を起こすことなく、被加工膜のパターニングを行うことを可能とするパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a transfer device for performing an imprint process in a short time and achieving high dimensional precision of a pattern transferred to a transfer target body.例文帳に追加

押印工程を短時間で行うことができ、かつ被転写体に転写されたパターンの寸法精度も高い転写装置を提供する。 - 特許庁

The present invention refers to a test pattern 1, a set of test patterns and a method of evaluating the transfer properties of a pattern as well as a method of determining at least one parameter of a transfer process.例文帳に追加

転移処理の少なくとも一つのパラメータを決める方法と同様に，テストパターン１，テストパターンの集合，テストパターンの転移特性を評価する方法についても言及している。 - 特許庁

Fig.3 shows the process of writing a toner consumption pattern on an image carrier, a memory material conveyer, a transfer member or the like.例文帳に追加

図３は、像担持体、記憶材搬送体、転写部材などにトナー消費パターンを書き込んでいる図である。 - 特許庁

To provide a process cartridge capable of attaining stable transfer by preventing the appearance of a discharge pattern on a thin transfer medium and the appearance of a ghost on a thick transfer medium at a transfer process with a simple apparatus configuration and at low cost, and to provide an image forming apparatus equipped with the process cartridge.例文帳に追加

簡易な装置構成により低コストで、転写時において、薄い転写媒体の放電模様の発生および厚い転写媒体のゴーストの発生を防止して、安定した転写を達成することのできる、プロセスカートリッジ、および、そのプロセスカートリッジを備える画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To reduce defects generated in an etching process and a wiring material embedding process, in a region where the transfer of a pattern by a template is not performed.例文帳に追加

テンプレートによるパターンの転写を行わない領域においてエッチング工程や配線材料埋め込み工程で生じる欠陥を低減する。 - 特許庁

In addition, the invention refers to a method of determining at least one parameter of a transfer process such as an imaging process making use of such a test pattern 1.例文帳に追加

加えて，テストパターン１を用いるイメージングプロセスのような転移処理の，少なくとも一つのパラメータを決定する方法について言及する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device such as an SRAM or the like wherein SWT (Side wall transfer) process is used to form a pattern with nonuniform width.例文帳に追加

パターン幅が均一でないパターンを形成できるＳＷＴ（Side wall transfer）プロセスを用いたＳＲＡＭ等の半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for forming a pattern type photoresist layer capable of shortening a cycle time and a re-processing time in a pattern transfer process.例文帳に追加

パターン転写処理のサイクル時間および再処理時間を短縮することのできるパターン状フォトレジスト層の形成方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a coloring method which can be suitably employed for stably forming a colored pattern, while eliminating a transfer process, and further, for reducing the manufacturing cost for the pattern.例文帳に追加

本発明は、転写工程をなくしつつ、着色模様を安定して形成し、さらに製造コストを低減することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a process for producing a member having a pattern in which a protruding or recessed pattern is formed appropriately even in the outer circumferential region of a work, and also to provide a pattern transfer device and a mold.例文帳に追加

ワークの外周領域にも凹凸パターンを適切に形成することが可能となるパターンを有する部材の製造方法、パターン転写装置及びモールドを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern transferring apparatus which reducing transfer of poor quality by preventing air from staying between a mold and a resin in their adhesion process, and also to provide an aligner and a pattern transfer method.例文帳に追加

モールドと樹脂との密着工程で両者間に空気が残留するのを防止して不良転写を低減することができるパターン転写装置、露光装置及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a composition for forming an acid transfer resin film, from which an acid transfer resin film excellent in selectivity of diffusion of acid and removability is obtained; an acid transfer resin film obtained using the same; and a pattern forming method by which a pattern is formed through the existing photolithography process using the acid transfer resin film.例文帳に追加

酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming an acid transfer resin film, the composition giving an acid transfer resin film excellent in selectivity of acid diffusion; and to provide an acid transfer resin film formed by using the composition, and a pattern forming method allowing pattern formation by a conventional photolithographic process using the acid transfer resin film.例文帳に追加

酸の拡散の選択性に優れた酸転写樹脂膜を得ることができる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an acid transfer resin film-forming composition which obtains an acid transfer resin film superior in the selectivity of acid diffusion and in removability, and to provide an acid transfer resin film formed that uses the composition, and a pattern forming method which enables pattern formation by an existing photolithography process that uses the acid transfer resin film.例文帳に追加

酸の拡散の選択性及び除去性に優れた酸転写樹脂膜が得られる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The magnetic disk after being subjected to the cleaning process and a master carrier carrying a transfer pattern corresponding to an information signal for transfer are caused to adhere to each other and a magnetic field is applied from outside, thereby magnetic transfer is performed.例文帳に追加

かかるクリーニング工程を経た磁気ディスクと転写用の情報信号に対応する転写パターンを担持したマスター担体とを密着させ、外部から磁界を印加することにより磁気転写を行う。 - 特許庁

To provide a method for transfer onto a chair seat which enables transfer of a pattern or a design onto the chair seat and does not impair the chair seat in a process of transfer, while the surface of the chair seat has excellent abrasion resistance.例文帳に追加

椅子台座にパターンや模様を転写可能であり、且つ転写過程中に椅子台座が傷付けられなく、椅子台座の表面は耐磨耗性が良い椅子台座への転写方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preparing a mold preventing the damage of a pattern and facilitating a mold-releasing process and a transfer device.例文帳に追加

パターンの破損を防止し、離型工程を容易にするモールド作成法および転写装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The hydraulic transfer process (B) may be omitted when the decorated sheet already having the printed pattern layer formed on the surface side is used.例文帳に追加

既に表面側に印刷絵柄層形成済みの加飾シートを用いれば、（Ｂ）水圧転写工程は省略しても良い。 - 特許庁

To improve imprinting accuracy, and to improve a yield, by automatically determining transfer accuracy in a transfer process, by measuring pattern strain in imprinting when press-fitting a mold.例文帳に追加

インプリント時のパターン歪みをモールド圧着時に測定し、転写精度を転写工程中に自動判定することによりインプリント精度の向上、収率の向上を図る。 - 特許庁

To secure the specified quality for a magnetic disk after the transfer, when the process such as recording a specific magnetic pattern to a magnetic disk by a magnetic transfer method is included.例文帳に追加

特定の磁気パターンを磁気転写方式で磁気ディスクへ記録する工程を含む場合の、転写後の磁気ディスクに対し一定品質を確保できるようにする。 - 特許庁

In this process, electrostatic charge that allows the pattern image to attach on the intermediate transfer belt 121 is removed using a detaching charger 161, before cleaning the pattern image.例文帳に追加

ここで、パターン画像がクリーニングされる前に、中間転写ベルト１２１上にパターン画像を静電吸着させている電荷を、分離チャージャ１６１により除去する。 - 特許庁

In the phase adjusting process, phase shift detection patterns are successively drawn on an intermediate transfer belt 3, and the absolute position information of the pattern detected by a pattern detection sensor is recorded in a memory.例文帳に追加

位相調整行程では、位相ずれ検出パターンを中間転写ベルト３上に順次描き、パターン検知センサによりパターンの絶対位置情報をメモリに記録する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, comprising forming a fine pattern by a sidewall transfer process, in which the upper portion of the pattern is prevented from having a bilaterally asymmetric shape.例文帳に追加

側壁転写プロセスによる微細パターンの形成において、パターン上部の形状が左右非対称になることを防止することが出来る製造方法を提供する。 - 特許庁

In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加

一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにＯＰＣパタン付加する処理過程あるいはＯＰＣ付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁

The method for producing a dyed article with image comprises a process for making a sublimable dye pattern on a transfer paper on the basis of digital image data and a process for transferring the dye pattern to an article to be transferred.例文帳に追加

デジタル画像データに基づき昇華性染料パターンを転写用紙上に作成する工程、この染料パターンを被転写物に転写する工程を含むことを特徴とする画像染色物の製造方法。 - 特許庁

In the transfer in-mold moldings with a pictorial pattern layer formed by transferring a transfer layer to the surface of the moldings simultaneously with a resin molding process, the transfer layer is constituted of at least a reflective layer, a light-permeable refractive layer and the pictorial pattern layer.例文帳に追加

樹脂成形と同時に成形品の表面に転写層を転写することにより絵柄層を形成してなる転写インモ−ルド成形体において、該転写層の構成が少なくとも反射層と光透過屈折層、絵柄層を有する転写インモールド成形体。 - 特許庁

In the manufacture of the defective mask for inspecting a defect in a pattern transfer mask used in a semiconductor lithography process, the mask pattern 4 that is the same as a pattern transfer mask to be inspected is formed on a mask substrate that becomes the base of the defective mask.例文帳に追加

半導体体リソグラフィ工程にて用いられるパターン転写マスクの欠陥を検査するための欠陥マスクを製造するのにあたり、その欠陥マスクの基となるマスク基板上に、検査対象となるパターン転写マスクと同一のマスクパターン４を形成する。 - 特許庁

To avoid generation of bends in the center of a transfer mask main body and to sufficiently suppressing the vibration of the transfer mask main body, concerning a transfer mask to be used at pattern transfer, in the manufacturing process of a semiconductor.例文帳に追加

本発明は半導体の製造プロセスでパターン転写の際に用いられる転写マスクに関し、転写マスク本体の中央部に撓みを生じさせることがなく、かつ、転写マスク本体の振動を十分に抑制することを目的とする。 - 特許庁

To carry out transfer with the occurrence of bubbles in a molded article prevented in simple composition and a simple process in a transfer device for transferring a minute transfer pattern formed in a sheet-shaped mold to the molded article.例文帳に追加

シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、簡素な構成や工程で、前記被成型品での気泡の発生を防いだ転写をする。 - 特許庁

To easily and effectively suppress failures, such as transfer dust, dot image reproduction failure, toner scattering, and reverse transfer of a previous process transfer toner to an image carrier, by preventing the transfer of the toner in slight gaps on upstream and downstream of a transfer nip at the time of transfer without depending on a surface potential distribution (toner sensible image pattern) of an image carrier in developing.例文帳に追加

転写時における転写ニップ上流、及び下流の微少空隙でのトナー転移を、現像時の像担持体の表面電位分布（トナー顕像パターン）によらず防止して、転写チリ、ドット画像再現不良、トナー飛散、前工程転写トナーの像担持体への逆転写等の不具合を容易、且つ効果的に抑制する。 - 特許庁

In the process of peeling the imprint mold and the resin pattern, a part wherein the defect of the resin pattern occurs can selectively be made to be uncured, so that the occurrence of the defect of the transfer pattern can be made possible.例文帳に追加

よって、インプリントモールドと樹脂パターンを剥離する工程において、樹脂パターンの欠陥が発生する部位を選択的に未硬化とすることが出来、転写パターンの欠陥の発生を抑制することが可能となる。 - 特許庁

To provide a nano-imprint-pattern forming metal mold and a manufacturing method of a member with a nano-level pattern capable of reducing the fraction defective of the substrates after pattern transfer in the manufacturing process of semiconductor devices etc.例文帳に追加

半導体デバイスなどの製造工程において、パターン転写後の基板の不良率を低減することができるナノインプリントパターン形成用金型およびナノレベルのパターンを有する部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for marking a lens includes: a patterning process for forming a layout pattern having machining information of the lens 1 on an ink receiving board 41 with a planar surface; and a transfer process for transferring the layout pattern formed by the patterning process to the surface of the lens 1.例文帳に追加

表面が平面状のインク受板４１にレンズ１の加工情報を有するレイアウトパターンを形成するパターニング工程と、このパターニング工程で形成された前記レイアウトパターンを前記レンズ１の表面に転写する転写工程と、を有するレンズのマーキング方法。 - 特許庁

In the transfer process, the cylindrical plate 43 is made to turn around a cylindrical axis center to transfer the paste material on a work W and form a printing pattern P1.例文帳に追加

転写工程では、ペースト材料を担持させた円筒版４３を円筒軸中心に回転させて、当該ペースト材料をワークＷ上に転写し、印刷パターンＰ１を形成する。 - 特許庁

The electronic component manufacturing method includes a step of forming a composite ink pattern layer on the mold releasing surface of a transfer board using a letterpress offset process, followed by simultaneous inversion transfer of the composite ink pattern layer onto a matter to be printed.例文帳に追加

凸版オフセット法を用いて転写板の離型性面上に、複合インキパターン層を形成した後、該複合インキパターン層を被印刷体上に同時に反転転写する工程を有する電子部品の製造方法。 - 特許庁

A first process includes a step of exposing a first resist film 4 to transfer a pattern corresponding to a main aperture 5 and an auxiliary aperture 6 and developing to form a first resist pattern 4a.例文帳に追加

第１工程が、第１のレジスト膜４に、主開口部５及び補助開口部６に対応するパターンを露光し、現像して第１のレジストパターン４ａを形成する工程を有する。 - 特許庁

The photomask is to be used for transferring a predetermined transfer pattern including a line-and-space pattern onto a resist film formed on a process object to be etched to obtain a resist pattern in the resist film, which functions as a mask in the etching process, wherein the line pattern of the line-and-space pattern formed on a transparent substrate comprises a translucent portion while the space pattern comprises a light-transmitting portion.例文帳に追加

エッチング加工がなされる被加工体上に形成されたレジスト膜に対して、ライン・アンド・スペース・パターンを含む所定の転写パターンを転写させ、レジスト膜を前記エッチング加工におけるマスクとなるレジストパターンとなすフォトマスクにおいて、透明基板上に形成されるライン・アンド・スペース・パターンのラインパターンを半透光部で設け、スペースパターンを透光部で設ける。 - 特許庁

The method for inspecting a mask defect includes a process of generating referential data from the corrected mask design data D2 obtained by correcting (S10) data according to the exposure transfer pattern, and a process of measuring the actual pattern of the mask based on the corrected mask design data D2 to generate sensor data.例文帳に追加

露光転写パタンに基づき補正した（Ｓ１０）補正後マスク設計データＤ２から、参照データを作成し、補正後マスク設計データＤ２に基づくマスクの形状を実測してセンサデータを作成するマスク欠陥検査方法。 - 特許庁

When a different substrate needs to be transferred to a handling chamber while a pattern that does not require high drawing precision is drawn, the transfer process is performed concurrently with the drawing process continued.例文帳に追加

高い描画精度が必要とされないパターンの描画中に処理室への他の基板の搬送が必要となった場合、描画処理を続けた状態で搬送処理を並行して行う。 - 特許庁