「pattern transfer process」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

This device feedbacks immediately the overlaid offset utilizing the method, whereby the cycle time and the re-processing time in the pattern transfer process are shortened.例文帳に追加

この装置は、前述の方法を利用し、オーバーレイオフセットを即座にフィードバックして、パターン転写処理のサイクル時間および再処理時間を短縮する。 - 特許庁

To provide a master carrier for magnetic transfer, its manufacturing method, and a magnetic recording medium in which it is possible to prevent erosion of a transfer pattern by an etchant in a wet etching process of shaping a master into substantially a doughnut shape in a master fabricating process.例文帳に追加

マスター作製工程でマスターを略ドーナッツ形状に加工するウエットエッチング工程でのエッチング液の転写パターンへの侵食を防ぐことができる磁気転写用マスター担体及びその製造方法、並びに磁気記録媒体の提供。 - 特許庁

In a next size correction quantity determining process (ST15), the size correction quantity of a design pattern of a photomask is determined according to the calculated mean value, so that the transfer pattern has specific design values.例文帳に追加

次の寸法補正量決定工程ＳＴ１５において、算出した平均値に基づいて、転写パターンが所定の設計値となるようにフォトマスクの設計パターンの寸法補正量を決定する。 - 特許庁

To provide a pattern shape inspection method capable of accurately inspecting a pattern shape in an SWT (Side Wall Transfer) process, and to provide a manufacturing method for a semiconductor device with improved quality.例文帳に追加

ＳＷＴプロセスにおいて、パターン形状を高精度で検査可能なパターン形状検査方法、及び半導体装置の品質を向上可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To achieve practical application of a pattern transfer process by using a gray-tone mask having a gray-tone part which is constituted by a micro- light-shielding pattern lower than a limit of resolution of an exposing equipment that uses the gray-tone mask.例文帳に追加

グレートーンマスクを使用する露光機の解像限界以下の微細遮光パターンで構成されるグレートーン部を有するグレートーンマスクを用いたパターン転写プロセスの実用化を目的とする。 - 特許庁

The prescribed pattern film or the prescribed element is formed on the substrate or a film formed in the previous process, a transparent film is formed so as to cover the formed prescribed pattern film or the prescribed element, a transfer pattern film having a shape corresponding to the prescribed pattern film or the prescribed element is formed on the formed transparent film, and a non-transparent film is formed on the transfer pattern film.例文帳に追加

基板上又は前工程で形成した膜上に所定パターン膜又は所定素子を形成し、形成した所定パターン膜又は所定素子を覆うように透明膜を形成し、形成した透明膜上に所定パターン膜又は所定素子と対応する形状を有する転写パターン膜を形成し、転写パターン膜上に不透明膜を形成する。 - 特許庁

Then the transfer sheet 61 is removed through a process of separating the metal base material 62 from the dissolved metal layer 64 after sticking the transfer sheet 61 on which the conductor pattern 55 is laminated on a insulating base material 51 and a process of selectively dissolving the dissolved metal layer 64 away from the conductor pattern 55.例文帳に追加

そして、導体パターン５５を形成した転写シート６１を絶縁基材５１上へ貼り合わせた後、金属ベース材６２を被溶解金属層６４から分離する工程と、被溶解金属層６４を導体パターン５５に対して選択的に溶解除去する工程とを経て、転写シート６１を除去する。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for manufacturing the photomask capable of suppressing reading failure of a mark pattern when a fine pattern figure is formed on a process object by using a transfer pattern composed of a semi-transmitting part and a light-transmitting part.例文帳に追加

半透光部と透光部で形成される転写パターンを用いて、被加工体に微細なパターン形状を形成する場合に、マークパターンの読み取り不良を抑制できるフォトマスク及びその製造方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

To provide a photomask having a new structure, which has a high contrast of transfer pattern to exposing beam, and is reduced in manufacturing cost by omitting developing step in a transfer pattern forming process, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、露光ビームに対する転写パターンのコントラストが高く、且つ、転写パターン形成過程において現像工程を省くことで製造コストの低減が図られた全く新規な構成のフォトマスク、及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a fine etching mask which can equalize and thin the residue thickness of a pattern transfer layer after transformation in a transfer layer, and having an equalized thickness after an etching process, in a method of manufacturing a fine etching mask by pattern transfer to a processed material, and to provide an exposure processing apparatus.例文帳に追加

被加工材上へのパターン転写による微細エッチングマスクの製造方法において、転写後のパターン転写層の残渣厚みを転写層内で均一且つ薄膜にすることができ、しかもエッチング処理後の厚さが均一な微細エッチングマスクの製造方法及びそれに用いる露光処理装置を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a magnetic transfer master disk executes an electroforming process using an electroforming device to obtain a master substrate as a metal board having an uneven pattern corresponding to transfer information transferred to its surface from an inversion mold having the reverse uneven pattern, and forms a magnetic layer on the uneven pattern of the master substrate.例文帳に追加

反転凹凸パターンを有する反転型より電鋳装置を使用した電鋳工程によって表面に転写情報に対応する凹凸パターンが転写された金属盤であるマスター基板を得、マスター基板の凹凸パターン上に磁性層を成膜した磁気転写用マスターディスクの製造方法である。 - 特許庁

This macromolecular optical waveguide is manufactured through a stamper making process for manufacturing a stamper, a transfer process for concavely installing the core pattern 12 by a heat embossing method using the stamper, and a waveguide forming process for providing the core 13 and the clad cover 14.例文帳に追加

この高分子光導波路は、スタンパを製造するスタンパ製造工程、スタンパを使用した加熱エンボス加工法によってコアパターン１２を凹設する転写工程、コア１３及びクラッド蓋部１４を設ける導波路形成工程を経て製造される。 - 特許庁

A main pattern 1A, resolution improving SRAFs (Sub-Resolution Assist Feature) 2A and 2B for improving the resolution of a pattern on the substrate obtained by a lithography process for transferring the main pattern 1A onto the substrate, and transfer suppressing SRAFs 3A to 3D for suppressing transferability of the resolution improving SRAFs 2A and 2B onto the substrate by the lithography process are disposed.例文帳に追加

主パターン１Ａと、主パターン１Ａを基板上に転写するリソグラフィプロセスにより得られる基板上パターンの解像度を向上させる解像度向上ＳＲＡＦ２Ａ，２Ｂと、リソグラフィプロセスによる解像度向上ＳＲＡＦ２Ａ，２Ｂの基板上への転写性を抑制する転写抑制ＳＲＡＦ３Ａ〜３Ｄと、を配置する。 - 特許庁

To form a varicolored pattern rich in gradation such as a grain pattern or a texture pattern even on the surface of an article to be coated having a complicated shape such as a plastic molded product without passing through a printing or transfer process by a simple process and to develop weatherability or functionality equal to a monochromatic color.例文帳に追加

印刷や転写などの工程を経ることなく、プラスチック成形品などの複雑な形状の被塗物表面であっても石目模様や布目模様などのグラデーションの効いた多彩模様を簡単な工程で形成することができ、単彩色と同等の耐候性や機能性を発現できるようにする。 - 特許庁

To provide a superior transfer material for stamping a fine pattern for a semiconductor manufacturing process, an optical element, high-density recording, etc., and a manufacturing method.例文帳に追加

半導体製造プロセス、光学素子、高密度記録等の微細なパターンをスタンピング成形するための優れた転写材料および製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The transfer process is executed using a condition set based on data related to at least either of the dimension and the shape of the pattern of the processing object film after processing.例文帳に追加

転写工程は、加工後の被加工膜のパターンの寸法及び形状の少なくともいずれかに関するデータに基づいて定められた条件を用いて実施される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device by which the width size of spaces can equally be formed when forming a line-and-space pattern by a sidewall transfer process.例文帳に追加

側壁転写プロセスによりラインアンドスペースパターンを形成するときに、スペースの幅寸法を等しく形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a melt type thermal transfer ink ribbon low in cost, difficult to forge and alter, high in security, and easy in the alteration of a security pattern, a printing process for it and the judgment of genuineness.例文帳に追加

低コストで、偽変造が困難でセキュリティ性が高く、セキュリティパターンの変更、その印刷プロセス、及び真偽判定が容易である溶融型熱転写インクリボンを得る。 - 特許庁

To improve working efficiency of an aligner by eliminating conditioning working and shortening TAT in a transfer process of a circuit pattern of an exposure layer in semiconductor device manufacture.例文帳に追加

半導体デバイス製造における露光層の回路パターンの転写工程において、条件出し作業を省き、ＴＡＴの短縮，露光装置の稼動効率向上を図る。 - 特許庁

To provide a magnetic layer processing process for simply performing a microfabrication without damaging a magnetic material in a magnetic material processing accompanying a pattern transfer by means of imprint.例文帳に追加

インプリントによるパターン転写に伴う磁性体加工において、磁性体にダメージを与えることなく簡易に微細化を行うための磁性層加工プロセスを提供する。 - 特許庁

To provide an X-ray mask which is equipped with a circuit pattern for transfer, having high position precision and can be manufactured through a simplified manufacturing process and the manufacturing method for the mask.例文帳に追加

高い位置精度を有する転写用回路パターンを備え、簡略化した製造工程で製造することが可能なＸ線マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

After the photosensitive layer for a black matrix is developed, a photosensitive layer for color pixels is formed on the glass substrate 3 and subjected to proximity exposure to transfer the pattern of color pixels in the similar process by a second exposure section 27.例文帳に追加

ブラックマトリクス用感光層の現像後、カラーピクセル用の感光層をガラス基板３に形成し、第２露光部２７で同様にカラーピクセルのパターンをプロキシミティ露光する。 - 特許庁

To provide an EB (electron beam) transfer mask which can be easily manufactured and which can suppress deterioration in the accuracy of drawing a pattern due to the spatial charge effect, resist heating or the like caused during the EB transfer in the process of forming an EB transfer mask data composed of complementary masks.例文帳に追加

コンプリメンタリーマスクで構成されるＥＢ（電子線）転写マスクデータの作成において、ＥＢ転写の際における空間電荷効果やレジストヒーティング等に起因する描画精度劣化を抑制し、かつ容易に製造可能なＥＢ転写マスクを提供する。 - 特許庁

In a forming process of an irregular pattern constituting an information part for an intermediate layer 51, a disk substrate 1 on which optical information recording layers having center holes 41, 42 whose inner diameter is different each other are laminated and a transfer substrate 3 having a transfer irregular pattern is provided, and position setting of these substrates is performed.例文帳に追加

中間層５１に対する、情報部を構成する凹凸パターンの形成工程を、互いに内径が相違するセンターホール４１、４２を有する、光情報記録層が積層されるディスク基板１と、転写凹凸パターンを有する転写基板３とを用意し、これらの位置設定を行う。 - 特許庁

A toner pattern for toner deterioration degree detection is formed on the photoreceptor 202, then, transferred onto the intermediate transfer belt 101 by a primary transfer means 106 in a transfer condition different from that in an image forming process, and the toner deposition amount on the toner pattern is detected at a plurality of positions by an image-detecting means 110 as a toner deposition amount-detecting means.例文帳に追加

感光体２０２上にトナー劣化度検出用のトナーパターンを作成し、一次転写手段１０６により画像形成時とは異なる転写条件で中間転写ベルト１０１上に転写し、トナー付着量検出手段としての画像検出手段１１０によりトナーパターンのトナー付着量を複数箇所検出する。 - 特許庁

To provide a transfer film for curved surface printing which is free from the generation of cracks in an image layer constituting a pictorial pattern and capable of performing the curved surface printing with outstanding design characteristics, during a transfer processing step using a curl fit process for applying an activator to the transfer film for curved surface printing having a formed image layer constituting the pictorial pattern.例文帳に追加

絵柄を構成する画像層を形成した曲面印刷用転写フィルムに活性剤を塗布して行うカールフィットによる転写加工工程に際して、絵柄を構成する画像層のひび割れが発生せず、意匠性に優れた曲面印刷を行うことのできる曲面印刷用転写フィルムを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To attain both detachability from a die of an original disk substrate for transfer and transfer accuracy of the original disk for a body to be transferred, and to balance etching accuracy/etching efficiency/fineness of formed pattern in an etching process of a flat substrate, in a manufacturing method of a die of the original disk substrate for transfer.例文帳に追加

転写用原盤基板の型の製造方法において、転写用原盤基板の型からの剥離性と、転写用原盤の被転写体への転写精度の両立を図ると共に、平坦基板のエッチング工程におけるエッチング精度／エッチング効率／形成されるパターンの精細化のバランスを図る。 - 特許庁

In the apparatus, the quantity of the toner stuck to the transfer roll 5 is estimated from a density detection signal (outputted from an optical sensor 6) of a toner pattern image T and a cleaning process for the transfer roll is executed by determining the time or the voltage value for applying bias of the same polarity as that of the toner that is applied to the transfer roll.例文帳に追加

トナーパターン像Ｔの濃度検出信号（光センサ６からの出力）から転写ローラ５に付着しているトナーの付着量を想定し、転写ローラに印加するトナーと同極性のバイアスを印加する時間又は電圧値を確定して転写ローラのクリーニング工程を実行する。 - 特許庁

To form a fine conductor pattern at high accuracy by fully suppressing gelation of a coat on a support in a conductor pattern forming process by the transfer method using a photosensitive conductor paste.例文帳に追加

感光性導体ペーストを用いた転写法による導体パターン形成方法において、感光性導体ペーストのゲル化並びに支持体上塗布物のゲル化を十分に抑制して、高精度に微細な導体パターンを形成すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multi-gradation photomask, which accurately controls the shape of a resist pattern and improves the reproducibility and stability in a photolithography process, and to provide a pattern transfer method.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程において、レジストパターンの形状制御を正確に行い、再現性や安定性を向上させることができる多階調フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

The method comprises a process in which a master mold 30 having the recessed and protruded pattern is pressed on the surface of a metal part 3a having a surface of an arithmetical mean degree of roughness Ra of 100 nm or smaller to transfer the recessed and protruded pattern 4 to the metal part 3a.例文帳に追加

算術平均粗度Ｒａが１００ｎｍ以下の表面を有する金属部３ａの表面に、凹凸パターンを有するマスターモールド３０を押し付けて、凹凸パターン４を金属部３ａに転写する工程を有する。 - 特許庁

The method executes an electroforming process to obtain a master substrate which is a metal board having an uneven pattern corresponding to transfer information transferred to its surface from an inversion mold having the inversion uneven pattern, and forms a magnetic layer on the uneven pattern of the master substrate.例文帳に追加

反転凹凸パターンを有する反転型より電鋳工程によって表面に転写情報に対応する凹凸パターンが転写された金属盤であるマスター基板を得、マスター基板の凹凸パターン上に磁性層を成膜した磁気転写用マスターディスクの製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of the curved member (lens 4) includes: a die manufacturing process of forming a rugged pattern on a substrate to manufacture the die; a transfer process of transferring the rugged pattern of the die to a resin film (thermoplastic resin film 22); and an attachment process of sticking the resin film to a curved surface 41 of an object to be worked (lens body 40).例文帳に追加

曲面状部材（レンズ４）の製造方法は、基板に凹凸パターンを形成して型を製造する型製造工程と、前記型の凹凸パターンを樹脂膜（熱可塑性樹脂膜２２）に転写させる転写工程と、前記樹脂膜を加工対象物（レンズ本体４０）の曲面４１に貼り付ける貼着工程と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

In a pattern process, the design 3, in which a design board surface of the game board 22 is formed on the dried fixing layer 2, is formed in a layered manner by transfer or inkjet multicolor printing.例文帳に追加

図柄工程で乾燥した定着層２の上に遊技盤２２の意匠盤面を形成する意匠図３を転写やインクジェットによる多色刷り印刷で層状に形成する。 - 特許庁

To relatively easily obtain a predetermined fine and high integration transfer pattern with high accuracy by increasing a focus margin in photolithography and significantly reducing influences of process fluctuation on dimensional variation.例文帳に追加

フォトリソグラフィーにおけるフォーカスマージンを大きくし、プロセス揺らぎの寸法変動への影響を大幅に緩和して、比較的容易に精度良く所期の微細且つ高集積の転写パターンを得る。 - 特許庁

To enable a tower pattern for adjusting an image forming process to be recovered on an image carrier without separating an intermediate transfer body from the image carrier.例文帳に追加

像担持体から中間転写体を離間させずに作像プロセス調整用のトナーパターンを像担持体上で回収できる画像形成装置及び作像プロセス調整方法を提供する。 - 特許庁

In this wire formation method, a pattern surface of a stamper 13 used for an imprint method is covered with a barrier film formation compound 14, and a decomposition/transfer process of the barrier film formation compound 14 is performed while pressing the pattern surface of the stamper 13 against a resin film 12 applied onto a substrate 11.例文帳に追加

インプリント法に用いるスタンパ１３のパターン面をバリア膜形成化合物１４で被覆し、スタンパ１３のパターン面を、基板１１上に塗布された樹脂膜１２に押し当てつつ、バリア膜形成化合物１４の分解・転写処理を行う。 - 特許庁

This method for producing the patterned honeycomb-formed porous material comprises a process of bringing the honeycomb-formed porous material consisting of a non-water soluble polymer in contact with a mold having a pattern consisting of a relief and/or slit to transfer printing the pattern on the honeycomb-formed porous material.例文帳に追加

非水溶性ポリマーからなるハニカム状多孔質体にレリーフ及び／又はスリットからなるパターンを有する鋳型を接触させて該パターンをハニカム状多孔質体に転写することを含む、パターン化されたハニカム状多孔質体の製造方法。 - 特許庁

To obtain a process for producing a semiconductor product in which variation in the pattern dimensions incident to resist regeneration processing can be reduced, finishing dimensions of a transfer pattern can be brought close to target dimensions in a lithography process, and dimensional variation of semiconductor devices is suppressed between lots or within a lot in production.例文帳に追加

半導体製品の製造方法に関し、レジスト再生処理を経ることで生じるパターン寸法変動の低減を可能にし、リソグラフィ工程に於ける転写パターンの完成寸法を本来の目的寸法に近付け，また、ロット間或いはロット内に於ける半導体装置毎の寸法ばらつきを小さくする。 - 特許庁

To provide a composition for forming organic insulating film and to provide a method for forming pattern of the organic insulating film using the same by simplifying manufacturing process and producing an organic thin film transistor with a high degree of charge transfer in a completely wet process.例文帳に追加

製造工程を単純化することができ、電荷移動度の高い有機薄膜トランジスタを完全ウェット工程によって製造することができる、有機絶縁膜組成物およびこれを用いた有機絶縁膜のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Then resist is subjected to an etch-back process on the entire surface under conditions of reducing a gap between adjacent lenses so as to transfer the resist pattern to the base lens material to form a lens array 22A having reduced gaps.例文帳に追加

この後、隣接するレンズの間隔を縮小させる条件で全面エッチバック処理を行い、レジストパターンを下地のレンズ材に転写し、ギャップを縮小したレンズアレイ２２Ａを形成する。 - 特許庁

To provide a mask layout forming method for an electron beam exposure for reducing generated slivers when a fracture process is implemented so as to transfer a layout including a diagonal line pattern on a photomask.例文帳に追加

斜線パターンを含むレイアウトをフォトマスク上に転写するためにフラクチャー過程を行うとき、スライバーの発生を減少できる電子ビーム露光のためのマスクレイアウト形成方法を提供する。 - 特許庁

In a case where first control has not been exerted after the replacement of a process cartridge, a CPU 308 forms a patch pattern on an intermediate transfer body 5 by using γLUT 302b obtained in first control (S54).例文帳に追加

プロセスカートリッジ交換後に第１の制御が未実行である場合、ＣＰＵ３０８は、第１の制御で求めたγＬＵＴ３０２ｂを用いてパッチパターンを中間転写体５に形成する（Ｓ５４）。 - 特許庁

The image density of a toner pattern more easily causing the transfer dust than a toner pattern for process control is detected by a P sensor 50, and bias applied to a discharging blade 40 when a result of detection is within a predetermined image density range is set as a proper value.例文帳に追加

プロセスコントロール用のトナーパターンよりも転写チリを起こし易いトナーパターンの画像濃度をＰセンサ５０によって検知し、その検知結果が所定の画像濃度範囲内に入った際の除電ブレード４０に印加したバイアスを適正値として設定する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the hologram color filter by using an interference exposure method using a master hologram, the master hologram is preliminarily subjected to correction that the deviation and turned deviation of the transfer pattern caused in the manufacturing process is added to the design pattern of the master hologram.例文帳に追加

また、マスタホログラムを利用する干渉露光法を用いたホログラムカラーフィルタの製造方法において、製造工程中に発生する転写パターンのずれと逆向きのずれを、予めマスタホログラム上の設計パターンに加える補正を行ったマスタホログラムを用いる。 - 特許庁