「pattern transfer process」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a stamper for making optical recording media which utilizes a negative type resist permitting the pattern exposure suitable for a higher recording density, eliminates the need for a transfer process step to a stamper for molding and is excellent in productivity.例文帳に追加

高記録密度化に適したパターン露光を行い得るネガ型レジストを利用し、且つ成形用スタンパーへの転写工程を不要とし、生産性に優れた光記録媒体作製用スタンパーを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive transfer material having excellent followability to a photosensitive resin layer to be transferred to an uneven shape of the surface to be transferred and permits uniform development even in one-time development process when forming a resin pattern.例文帳に追加

転写される感光性樹脂層の、被転写面の凹凸形状への追随性に優れ、樹脂パターンを形成する際、１回の現像工程でも均一性よく現像できる感光性転写材料を提供する。 - 特許庁

In a resist film forming unit 23, which forms a resist film by a dry process with a substrate G, there are provided development process unit 24 which exposes the resist film formed on the substrate to a prescribed pattern before development in a drying process, and a transfer mechanism 32 for transferring the substrate G to the resist film forming unit 23 and the development process unit 24, which are configured as one body.例文帳に追加

基板Ｇに対してドライプロセスによりレジスト膜を形成するレジスト膜形成ユニット２３と、基板上に形成されたレジスト膜を所定パターンに露光後、ドライプロセスにより現像する現像処理ユニット２４と、これらレジスト膜形成ユニット２３および現像処理ユニット２４に対する基板Ｇの搬送を行う搬送機構３２とを具備し、これらが一体的に構成されている。 - 特許庁

The main CPU 112 refers a variation pattern of a special symbol determined by a special symbol process (S82), determines a sound control command corresponding to the variation pattern from a table constituted by corresponding a variation pattern with a sound control command (S84), outputs the sound control command (S86), and outputs a transfer signal (S88).例文帳に追加

メインＣＰＵ１１２は特別図柄処理で決定した特別図柄の変動パターンを参照し（Ｓ８２）、変動パターンと音声制御コマンドとを対応付けて構成されるテーブルから上記変動パターンに対応付けられている音声制御コマンドを決定し（Ｓ８４）、その音声制御コマンドを出力し（Ｓ８６）、転送信号を出力する（Ｓ８８）。 - 特許庁

The main CPU 112 refers a variation pattern of a special symbol determined by a special symbol process (S92), determines a lamp control command corresponded to the variation pattern from a table constituted by corresponding a variation pattern with a lamp control command (S94), outputs the lamp control command (S96), and outputs a transfer signal (S98).例文帳に追加

メインＣＰＵ１１２は特別図柄処理で決定した特別図柄の変動パターンを参照し（Ｓ９２）、変動パターンとランプ制御コマンドとを対応付けて構成されるテーブルから上記変動パターンに対応付けられているランプ制御コマンドを決定し（Ｓ９４）、そのランプ制御コマンドを出力し（Ｓ９６）、転送信号を出力する（Ｓ９８）。 - 特許庁

To provide: a new conductive paste for intaglio offset printing, which can form an electrode pattern having a sufficient thickness and which excels in three-dimensional shape accuracy and conductivity on a surface of a substrate by increasing a transfer rate in a first transfer process out of an electrode pattern forming processes using an intaglio offset printing method; and a method of manufacturing an electrode substrate using it.例文帳に追加

凹版オフセット印刷法を利用した電極パターンの形成工程のうち、１回目の転写工程での転写率を高めて、基板の表面に、十分な厚みを有し、三次元の形状精度と導電性に優れた電極パターンを形成することができる、新規な凹版オフセット印刷用導電ペーストと、それを用いた電極基板の製造方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a protection film for an optical member having a fine and uneven pattern, which protection film is excellent in storage stability, does not cause detachment in a post processing process, and is detached without adhesive transfer after use.例文帳に追加

本発明は、微細な凹凸パターンを有する光学部材に対して、保管安定性に優れ、後加工工程中においても剥離せず、使用後は糊残りなく剥離可能な光学部材用保護フィルムを提供することを主目的とする。 - 特許庁

To overcome troubles such as faulty transfer caused when manufacturing a color filter in the conventional manner by forming a predetermined pattern on a dry film without passing through a photolithographic process to be performed separately and then printing it on a color filter base plate.例文帳に追加

別途のフォトリソグラフィ工程を経ないでドライフィルムに所定のパターンを形成した後これをカラーフィルター基板上に印刷することによって、従来のカラーフィルター製造時に発生する転写不良などの問題を克服する。 - 特許庁

Periodical variation in the transfer driving roller 45 can be effectively eliminated without forming the reference pattern to be needlessly long by an averaging process of measured data corresponding to a position of the photoreceptor 2 among the measured data.例文帳に追加

これら測定したデータのうち感光体２の位置に対応する測定データを平均化処理することで、無駄に基準パターンを長く形成せずに、効果的に転写駆動ローラ４５の周期変動を除去することができる。 - 特許庁

To provide a solid electronic device base body structure, together, with its manufacturing method which reduces a load on a global environment, with no use of complex process, such as formation of a conductive film by electroless copper plating or film transfer of a circuit pattern.例文帳に追加

無電解銅めっきによる導電膜形成、あるいは回路パターンのフィルム転写などの複雑なプロセスを用いず、地球環境に対する負荷を軽減した、立体形状電子デバイス基体構造と、その製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter has the color filter formed by using a transfer sheet 2A, transferring a transfer layer 22A on a sheet-like base material 1, having an ionizing radiation 6 irradiated in the form of a pattern, thereafter, repeatedly forming a color filter layer 7A by a developing ionizing radiation process, and forming a black matrix, as needed.例文帳に追加

転写シート２Ａを用い、シート状基材１上に転写層２２Ａを転写しておき、電離放射線６をパターン状に照射し、その後、現像する電離放射線プロセスにより、カラーフィルター層７Ａを形成することを繰り返し行ない、必要に応じブラックマトリックスを形成してカラーフィルターを得る。 - 特許庁

On the other hand, the substrate W on which pattern exposure processing is carried out by the exposure unit EXP is received by a return transfer robot RBR to be placed on a return substrate placement part RPASS, and then is transferred by a transfer robot TR4 to any one of PHP 7 through PHP 12 that perform post-exposure baking process.例文帳に追加

一方、露光ユニットＥＸＰにてパターン露光の施された基板Ｗは戻り搬送ロボットＲＢＲによって受け取られて戻り基板載置部ＲＰＡＳＳに載置された後、搬送ロボットＴＲ４によって露光後加熱処理を行う加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２のいずれかに搬送される。 - 特許庁

In the image forming device, in addition to an image forming operation of transferring the toner image on the image carrier 1 on to the intermediate transfer body 6 by the transfer bias of transfer means 6a and 6b, the image forming process adjusting operation is executed by forming the toner pattern on the image carrier 1.例文帳に追加

像担持体１上のトナー画像を、転写手段６ａ，６ｂの転写バイアスにより中間転写体６上へ転写する画像形作以外に、像担持体１上にトナーパターンを形成して作像プロセス調整を行う画像形成装置において、上記トナーパターンを中間転写体に転写しないように転写手段６ａ，６ｂの転写バイアスを０ボルトに切り換える構成である。 - 特許庁

The partially vapor-deposited transfer foil 1 is obtained by first forming an ink layer 11 which is patterned to represent a pictorial pattern and a character on a base film 3 through a release layer 5 by a printing process and covering the opening part 12 (character part) of a pattern of the ink layer 11 with the hologram vapor-deposited layer 15 by thermal contact bonding.例文帳に追加

部分蒸着転写箔１は、ベースフィルム３の上に剥離層５を介して絵柄や文字などを表現するためパターン化されたインク層１１を印刷法により設けた後に、インク層１１のパターンの開口部１２（文字部分）を熱圧着によりホログラム蒸着層１５で覆うことで得られる。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device using SiC for the substrate comprises: a process for forming an alignment mark 2 on a {0001} plane in the SiC substrate 1; and a process for forming a prescribed pattern on the SiC substrate 1 by aligning a transfer mask and the SiC substrate 1, based on the alignment mark 2.例文帳に追加

本発明は、ＳｉＣを基板に用いた半導体装置を製造する方法であって、ＳｉＣ基板１の｛０００１｝面に、アライメントマーク２を形成する工程と、アライメントマーク２に基づき、転写マスクとＳｉＣ基板１との位置合わせを行いＳｉＣ基板１上に所定のパターンを形成する工程とを備える。 - 特許庁

The method for producing the molding includes the process in which a photo-after-curable resin composition is applied on a surface with a transfer pattern formed in at least one mold from among a set of molds, the process in which the resin composition is irradiated with light, and the process in which the molds are engaged with each other before the resin composition is cured after the irradiation.例文帳に追加

１組の成型用金型のうち、少なくとも一方の成型用金型における転写パターンが形成された面に光後硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、前記光後硬化性樹脂組成物に光を照射する工程と、光照射後、光後硬化性樹脂組成物の硬化前に成型用金型を嵌合する工程とを有する成型体の製造方法。 - 特許庁

By calling up the information relating to contamination of the reticle during storage and transfer included in the information relating to the reticle 1, the reticle 1 in a contaminated state that may cause a pattern defect can be prevented from being used in an exposure process by cleaning the reticle.例文帳に追加

このレチクル１に係る情報に含めた保管，移動時のレチクル汚染に関する情報を呼び出すことで、レチクル洗浄を行って、パターン欠陥に結びつく汚染状態のレチクル１を露光処理に使用することを防止できる。 - 特許庁

To provide a stable self alignment type phase shift mask which can prevent deterioration in transfer accuracy caused by multiple reflection on a wafer surface and a light shielding pattern surface, which has excellent phase shift mask characteristics, and which requires a short manufacturing process, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

ウェハー面と遮光パターン表面で多重反射による転写精度の劣化を防止し、位相シフトマスク特性に優れ、製造工程が短く、安定した自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist lower-layer film, by which a lower-layer film can be formed, wherein the lower-layer film is excellent in etching resistance, is less likely to be bent when subjected to dry-etching process, and can transfer a resist pattern precisely with good reproducibility to a substrate to be processed.例文帳に追加

エッチング耐性に優れ、ドライエッチングプロセスにおいて折れ曲がり難く、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能な下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of semiconductor device comprises a process of forming the transfer pattern including a line in which width or angle varies by performing multiplex exposure using a plurality of masks including patterns 1A, 1B on a different mask substrate.例文帳に追加

半導体装置の製造方法を、異なるマスク基板上に異なるパターン１Ａ，１Ｂを有する複数のマスクを用いて多重露光を行なって、幅又は角度が変化するラインを含む転写パターンを形成する工程を含むものとする。 - 特許庁

To provide a formation method of a display panel member capable of reducing mixing between a dielectric formation material layer and a barrier rib formation material layer, and simplifying a process, and a transfer film capable of forming a member excelling in an aspect ratio and a pattern shape.例文帳に追加

誘電体形成材料層と隔壁形成材料層との間のミキシングを低減させ、かつ、工程を簡略化することができるディスプレイパネル部材の形成方法、並びにアスペクト比及びパターン形状に優れた部材を形成可能な転写フィルムの提供。 - 特許庁

To obtain an inorganic particle-containing resin composition capable of forming an inorganic particle-containing resin layer having excellent flexibility and transferability, causing neither deformation nor peeling in pattern of sintered compact formed through an etching process and baking process, a transfer film having the inorganic particle-containing resin layer and to provide a method for producing a PDP capable of forming a pattern having a high dimensional accuracy, having excellent workability.例文帳に追加

可撓性、転写性に優れ、エッチング工程および焼成工程を経て形成される焼結体のパターンに変形やはがれを生じさせることのない無機粒子含有樹脂層を形成することのできる無機粒子含有樹脂組成物、当該無機粒子含有樹脂層を有する転写フィルムを提供すること、および寸法精度が高いパターンを形成でき、作業性に優れたＰＤＰの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board manufacturing method capable of reducing a cost required for a transfer process and minimizing influence upon a metal pattern to improve the reliability of a product by using a substance that varies adhesion with temperature as an adhesion layer in transferring a circuit.例文帳に追加

回路を転写することにおいて、温度に応じて粘着力が変化する物質を粘着層として用いることにより、転写工程に必要とする費用を節減でき、金属パターンへの影響を最小化して製品の信頼度を向上できる、印刷回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the expression, W is wandering performance index calculated in an image analyzing process by the transfer of a tread pattern image and a rain groove image, p is pixel size (mm) used for image processing in calculating the wandering performance index, L is ground contacting length of the tire (mm) and "a" is a coefficient of 0.6 to 0.7.例文帳に追加

（式中、Ｗはトレッドパターン画像とレイングルーブ画像との転写による画像解析処理から算出されるワンダリング性能指数、ｐはワンダリング性能指数を算出する際の画像処理で用いた画素の大きさ（ｍｍ）、Ｌはタイヤの接地長（ｍｍ）、ａは係数で０．６〜０．７である。） - 特許庁

To provide a lubricant supplying device which is capable of uniformly and stably supplying a proper amount of lubricant onto an image carrier, without unevenness, regardless of the amount of untransferred toner remaining on the image carrier and an image pattern remaining after transfer, and to provide a cleaning device, a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

像担持体上に残留する未転写トナーの量や転写残画像パターンによらず、像担持体上に適量の潤滑剤を均一にムラなく安定的に供給することができる、潤滑剤供給装置、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

At the time of transferring a pattern of toner particles 55 from a recess 14a of an original plate 1 to a glass plate 5, the thickness of the toner particles 55 to be applied in the recess 14a in a development process is controlled so as to excellently remove the toner particles 55 from the recess 14a and transfer them on the glass plate 5.例文帳に追加

トナー粒子５５のパターンを原版１の凹部１４ａからガラス板５に転写する際に、トナー粒子５５が凹部１４ａから良好に剥離してガラス板５に良好に転写されるように、現像工程において凹部１４ａに充填するトナー粒子５５の厚さを制御する。 - 特許庁

To provide a removing method for hardening paste which extends to unwanted parts of an intaglio in a forming method with an intaglio transfer for a thick film pattern having high precision in thickness, which is capable of removing without giving any damage to an intaglio and any influence on a back process, and also as simply as possible.例文帳に追加

厚さ精度が高い高精細な厚膜パターンを凹版転写法により形成する方法に関し、凹版の不要部分まで広がった硬化性ペーストを凹版を傷つけることなく、後工程に影響することなく、しかもできるだけ簡便に除去する方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a new copolymer suitable as a coating film-forming polymer for obtaining a resist pattern highly adhesive to a substrate and slight in pattern spoilage in an ultrafine pattern formation step in semiconductor production process through eliminating drawbacks involved in conventional techniques, to provide a method for producing the copolymer, and to obtain a new thiol compound useful as a chain transfer agent in producing the copolymer.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method of an organic luminescent device, a process of forming the organic compound layer is characterized by arranging the deposition mask having a predetermined mask pattern on a pixel barrier rib and a contact film in a state of being faced to a deposition object surface of the substrate, and forming the organic compound layer on the deposition object surface on the substrate to transfer the mask pattern of the deposition mask.例文帳に追加

有機発光装置の製造方法において、有機化合物層を形成する工程は、所定のマスクパターンを持つ蒸着マスクを基板の被蒸着面に対面させた状態で、画素隔壁及び接触膜の上に配置し、前記蒸着マスクのマスクパターンを転写するように、基板の上の被蒸着面に有機化合物層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.例文帳に追加

レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁

The process for producing a transfer mask comprises a step for forming a stress control layer for canceling variation in the stress of a thin film layer being generated before a resist layer is formed, and an etching step using the resist pattern as an etching mask.例文帳に追加

転写用マスクの製造工程において、前記レジスト層の形成前に、マスクの製造工程において発生する薄膜層の応力変化を相殺する応力制御層を前記薄膜層上に形成する工程と、前記レジストパターンをエッチングマスクとしてエッチングする工程とをさらに含むことを特徴とする転写用マスクの製造方法。 - 特許庁

To provide a metal transfer plate usable for producing a multi-layered printed wiring board which solves problems wherein large damage is given to a copper wiring pattern in a final soft etching process and inter-line insulation reliability is low since unwanted base copper layer between the copper wiring patterns can not be completely removed.例文帳に追加

最後のソフトエッチング工程では銅配線パターンに強いダメージを与え、しかも銅配線パターン間の不要となった下地銅層を完全に除去できず、線間絶縁信頼性が低かったという問題を解決できる多層プリント配線板の製造に用いることのできる金属転写板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective mask, which can simply form a light shielding region and can achieve highly accurate pattern transfer, without increasing a manufacturing process such as resist coating, drawing, developing and etching, and without needing to prepare a special mask blank; an ion beam device for the reflective mask; and the reflective mask.例文帳に追加

本発明は、レジスト塗布、描画、現像、エッチング等の製造工程を増やすことなく、特殊なマスクブランクを準備する必要もなく、簡便に遮光領域を形成することが可能であり、高精度なパターン転写を実現することが可能な反射型マスクの製造方法、反射型マスク用イオンビーム装置、および反射型マスクを提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a container for transferring a substrate and a method for controlling a driving which are characterized by that a driving pattern is changed so that an environment formed in a container for transferring the substrate having a particle removing means, a gaseous-impurity removing means, and a dehumidifying means are made in the optimum conditions to the substrate in each process in order to automate a transfer and a control.例文帳に追加

搬送と管理の自動化を前提として、粒子除去手段とガス状不純物除去手段と除湿手段を備えた基板搬送容器内で構築される環境を、各プロセスにおける基板に最適な条件になるように運転パターンを変化させることを特徴とした基板搬送容器、およびその運転制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing organic resin composition capable of forming a member having an excellent pattern form and a high aspect ratio, excellent in burning property of the organic component in baking process and capable of producing a highly reliable display panel, a transfer film formed by the composition and a method for producing a member for a display panel.例文帳に追加

優れたパターン形状および高アスペクト比の部材を形成することができ、焼成工程における有機成分の燃焼性に優れ、信頼性の高いディスプレイパネルを製造することができる無機粒子含有樹脂組成物、該組成物から形成される樹脂層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供すること。 - 特許庁