「process art」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To form resin structures directly, simply, highly precisely, and with a short period of time for processing, without performing photoengraving process of a prior art.例文帳に追加

従来のような写真製版を行うことなく、樹脂構造物をダイレクトに、かつ簡単に、しかも高精度に形成することができ、その際のプロセスを短時間化する。 - 特許庁

To provide a production process of silicon carbide which improves productivity as compared with prior art without worsening the crystallinity of a silicon carbide layer to be formed.例文帳に追加

形成される炭化シリコン層の結晶性を悪化させることなく、従来に比べて生産性を向上させることができる炭化シリコンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress cost as compared with a conventional art in relation with a process until resin gels by coating a coil with resin in an apparatus for impregnating the coil of a coil wounding unit with the resin.例文帳に追加

コイル巻装体のコイルに樹脂を含浸する装置において、そのコイルに樹脂を塗布し、その樹脂がゲル化するまでの工程に関し、従来よりもコストを抑える。 - 特許庁

To provide a developer container, a developing apparatus and a process cartridge which are significantly simpler in constitution and smaller than those according to prior art and are capable of satisfactorily conveying the developer therein.例文帳に追加

より簡易で小型化に対応し易い構成にて良好に現像剤を搬送することのできる現像剤容器、現像装置、及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To lower the resistance of a p-type electrode of a III nitride semiconductor element, which was very high in prior art, by improving it from the viewpoint of optimization of the manufacturing process.例文帳に追加

従来、非常に高抵抗であったＩＩＩ族窒化物系半導体素子のｐ型電極に関して、製造プロセスの最適化の観点から改良・低抵抗化を図る。 - 特許庁

(1)The process is the subject-matter of a patentable invention, according to the provisions of Art. 7 paragraph (1) of the Law, in so far as it constitutes a solution to a technical problem.例文帳に追加

(1) 方法は，それが技術的課題の解決を構成する場合は，本法第 7条第 1段落の規定により特許を受けることができる発明の主題である。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the device, in which the production process can be simplified and the production cost can be reduced, as compared to prior art.例文帳に追加

従来に比べて製造工程を簡易化することができ、製造コストの低減を図ることのできる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, a process and a data model formed by introducing the real time economical variable indexes into the system is new and developed, and does not exist in a prior art.例文帳に追加

このように、実時間経済変数指標をシステム内に導入して成立した本発明のプロセスとデータモデルは、従来にはなかった新規で進歩したものである。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can achieve low power consumption by reducing the junction capacitance as compared with prior art by a simpler process, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

より単純なプロセスで、従来よりも接合容量を低減し、低消費電力化を実現することが出来る半導体装置及びその作製方法を提供する。 - 特許庁

In the KIPO, even if the prior art is in a different technical field from a claimed invention, it can be recognized as a cited invention in the case that the prior art might be applied to other technical fields or used by the applicant in the process of solving a specific technical problem. 例文帳に追加

KIPOでは、先行技術がクレームに係る発明とは異なる技術分野に属していても、他の技術分野に適用され得るか、又は特定の技術課題を解決する過程で出願人によって使用され得る場合、引用発明と認めることができる。 - 特許庁

(3) Microbiological process is, according to Art. 7 paragraph (2) letter c) of the Law, any process in which there is obtained a microbiological material in which there is used a microbiological material, or which involves an intervention on a microbiological material.例文帳に追加

(3) 本法第 7条第 2段落(c)による微生物学的方法とは，微生物学的材料を取得する方法，微生物学的材料を使用する方法又は微生物学的材料に介入する方法のことである。 - 特許庁

It occasionally subcontracts the processes of drawing, finishing and art to several domestic companies (the process of drawing is sometimes subcontracted to a production company in the Kansai region, and during production of "Clannad" the process of art was subcontracted to Basara animation studio to which Seiki TAMURA, the art director of "The Melancholy of Haruhi Suzumiya" and "Lucky Star," belongs) and some processes other than editing and audio are handled by its subsidiary Animation Do and its cooperative animation studio 'Studio Blue' (formerly, Ani Village) in the Republic of Korea. 例文帳に追加

作画・仕上げ・美術の工程を国内の複数社に委託することは少なく（作画は関西の制作会社、美術は『CLANNAD』制作時に、『涼宮ハルヒの憂鬱』『らき☆すた』で美術監督を務めた田村せいきが所属するアニメ工房婆娑羅に発注することがあった）、編集・音響を除く工程の一部が子会社のアニメーションDoならびに協力会社の大韓民国のアニメスタジオ「StudioBlue（旧：AniVillage）」よって賄われている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Even if the prior art is in a different technical field from a claimed invention, it can be recognized as a cited invention in the case that the prior art might be applied to other technical fields or used by the applicant in the process of solving a specific technical problem. 例文帳に追加

先行技術が、請求項に係る発明とは異なる技術分野に属していても、他の技術分野に適用され得るか、又は特定の技術課題を解決する過程で出願人によって使用され得る場合、当該先行技術を引用発明と認めることができる。 - 特許庁

Accordingly, for the invention of a process for producing a substance by using a microorganism, a process for producing the said substance shall be described in the detailed description of the invention so that a person skilled in the art can produce the said substance taking into account the overall descriptions of the specification (excluding claims), drawings and common general knowledge as of the filing. 例文帳に追加

したがって、微生物を用いた物質の製造方法の発明においては、当該方法について明確に説明するとともに、当業者がその方法により当該物を製造できるように記載することが必要である。 - 特許庁

To provide a collision device capable of prolonging the life of a hard collision ball relative to prior art and can improve the efficiency in the process of the collision treatment of a raw material liquid over a long period of time.例文帳に追加

従来よりもより衝突用の硬質球体の長期化を可能とし、長時間に亘る原料液の衝突処理工程における効率化が図れる衝突装置の提供。 - 特許庁

Structure is simplified because an insulation film coating an outer circumference of the core 22 in the prior art is not required, and a manufacturing process is simplified because coating work is omitted.例文帳に追加

また、従来コア２２外周に被覆していた絶縁性フィルムが不要となるので、構造が簡単になるとともに、被覆作業を省略できるから、製造工程を簡略化できる。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer etching apparatus which can improve an etching rate better than that of a prior art, can perform every etching process by a wet etching method with higher accuracy and can further include a chemical solution collecting system.例文帳に追加

従来よりもエッチング速度を向上させ、全てのエッチングをウェットエッチングで高精度に行ない、さらに薬液の回収システムを含めた半導体ウェハエッチング装置を得る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a monolithic Offner spectrometer and various components like a diffraction grating and a slit all of which are manufactured by using a state-of-the-art diamond machining process.例文帳に追加

最新のダイアモンド機械加工プロセスを用いて全てが作成される、モノリシックオフナー分光器及び、回折格子及びスリットのような、様々なコンポーネントの製造方法を提供する。 - 特許庁

In order to be stated so as to enable a person skilled in the art to produce the product by using the said process, the enablement requirement in "(1) Invention of a Product" should be referred to, if necessary. 例文帳に追加

この場合、当業者がその方法により当該物を製造できるように記載するために、必要に応じて「(1)物の発明について」の実施可能要件を参照する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board having no wasteful energy loss, by simply restraining radiation using the resonance between the power supply layer and ground layer without large changes, in the substrate process of the prior art.例文帳に追加

従来の基板プロセスを大きく変えることなく電源層とグランド層との共振による放射を簡便に抑制し、かつ、エネルギーの無駄のないプリント配線基板を提供する。 - 特許庁

To reduce the number of using potentiometers compared with that in the prior art to reduce a manufacturing cost and to simplify a computing process, in a boom working vehicle having a boom turnable over 360°.例文帳に追加

３６０度の旋回が可能なブームを有するブーム作業車において、用いるポテンショメータの数を従来よりも減らして製造コストの低下と演算過程の簡単化とを図る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and a semiconductor device which improves productivity, compared with in the prior art, without needing a substrate polishing process by the CMP method.例文帳に追加

ＣＭＰ法による基板の研磨工程を必要とせず、従来に比べて生産性の向上を図ることのできる半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイスを提供する。 - 特許庁

Accordingly, the fixed contact 4 with the protrusion 12 has a narrow contact area with a high surface pressure, thereby contact reliability is enhanced just as roughening by a shot blast process in the prior art.例文帳に追加

因って、突出部１２を備えた固定接点１２は、接触面積が狭く面圧が高いので、従来からのショットブラスト加工による粗面化と同様に接触信頼性を高くしている。 - 特許庁

(5) In the application of Art. 32 paragraph (2) of the Law, the patent having a process as a subject-matter confers absolute protection relative to any use or offer for use of the patented process, comprising all purposes that can be achieved with the patented process even if they have not been indicated in the patent description.例文帳に追加

(5) 本法第 32条第 2段落の規定の適用上，方法を主題とする特許は，特許方法によって達成することができるすべての目的を含む，特許方法の使用又は使用の申出に関して絶対的保護を与え，それらのものが特許明細書に表示されていない場合も同様とする。 - 特許庁

To provide a method of improving close adhesiveness between a copper patterning layer and a insulated resin layer without a process to form a coarse surface of the copper patterning layer surface through the chemical process using chemicals for a blackening process of the prior art in order to eliminate the problem that reduction of manufacturing period and manufacturing cost is dented.例文帳に追加

従来の技術の黒化処理等の薬品を用いて化学処理による銅パターン層表面の表面粗化を処理せずに、銅パターン層と絶縁樹脂層の密着力を向上させる方法を提供し、工期短縮と製造コストの削減を損なう問題を解消することにある。 - 特許庁

Therefore, for an invention of a process for producing a gene, a vector, a recombinant vector, a transformant, a fused cell, a recombinant protein, a monoclonal antibody, etc., the said process should be explained clearly and the description shall be stated so as to enable a person skilled in the art to produce the product by using the said process. 例文帳に追加

したがって、遺伝子、ベクター、組換えベクター、形質転換体、融合細胞、組換えタンパク質、モノクローナル抗体等の製造方法の発明においては、当該方法について明確に説明するとともに、当業者がその方法により当該物を製造できるように記載することが必要である。 - 特許庁

As explained above using the rolled work, process of the thinner work is realized and moreover the cost of feeder of the related art and apparatus area can be reduced using the sheet type work.例文帳に追加

このように、ロール状ワークを用いることで、薄いワークの加工を可能とし、さらにシート状ワークを用いていた従来における搬送機のコスト及び装置面積を縮小することができる。 - 特許庁

To provide a technology capable of forming a thick active material layer with a high aspect ratio by simpler process and device configuration as compared with prior art, and capable of manufacturing a lithium ion secondary battery having an excellent charge/discharge capacity.例文帳に追加

従来に比べて簡易な工程及び装置構成で、高アスペクト比で厚膜の活物質層を形成でき、充放電容量に優れるリチウムイオン二次電池を製造できる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technique for reducing a process load when a print job (print data) is output from a client computer to a printer side and guaranteeing the order of prints more securely than the prior art.例文帳に追加

クライアントコンピュータからプリンタ側への印刷ジョブ（印刷データ）の出力に際しての処理負荷を軽減しつつ、且つ、印刷順番を従来に比べより確実に保証する仕組みを目的とする。 - 特許庁

To acquire a sufficient heat treatment effect by a smaller heat quantity than in a conventional art, in heat treatment such as a crystallizing process of a semiconductor thin film based on heat plasma jet annealing technology.例文帳に追加

熱プラズマジェットアニール技術による、半導体薄膜の結晶化プロセスをはじめとした熱処理において、従来よりも少ない投入熱量で十分な熱処理効果を得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a device and a process capable of collecting gas used in a semiconductor manufacturing device or the like or generated gases that can not be collected by the prior art method, but discharged as they are.例文帳に追加

半導体製造装置等で使用され、或は生成されるガスのうち、従来の方法では捕捉することができず、そのまま放出されていたガスを捕捉可能な装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cheese-like food product which has not been provided by a conventional art, has a preferable texture and processability not inferior to those of general process cheeses, and has a reduced content of cheese.例文帳に追加

従来技術では提供されることがなかった、一般的なプロセスチーズと遜色の無い、好ましい食感と加工適性を有する、チーズ類の含有率を低減したチーズ様食品を提供すること。 - 特許庁

To provide an overlay mark for overlay inspection having a pattern capable of performing defect inspection with favorable accuracy not obtained in a prior art in a defect inspection apparatus in a manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造過程の欠陥検査装置において従来にはない精度の良い欠陥検査を実現することできるパターンを有するオーバーレイ検査用のオーバーレイマークを提供する。 - 特許庁

To provide an art reducing the damage of hemocyte components in a blood supply process of a blood supply pump in the medical care to a hollow fiber membrane in particular and capable of uniformly supplying the blood to the hollow fiber membrane.例文帳に追加

医療における送液ポンプ、特に中空糸膜に対する送血行程における血球成分の損傷の低減及び、中空糸膜への均一な送血が可能となる技術を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing method and apparatus capable of performing an appropriate vectorizing process matching the kind of image by determining whether or not a clip art image has features such as edges or gradations.例文帳に追加

クリップアート画像に縁やグラデーション等の特徴があるかどうかを判別し、画像の種類に応じた適切なベクトル化処理を行うことができる画像処理方法及び画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which a highly reliable full silicide MOSFET and a silicide MOSFET can be formed on the same substrate easily as compared with prior art.例文帳に追加

信頼性の高いフルシリサイドＭＯＳＦＥＴおよびシリサイドＭＯＳＦＥＴを従来よりも簡単に同一基板上に形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The base station apparatus 10 controls a sending process of an area identifier which is performed by a message sending/receiving part 50 by a sending control part 43 in the prior art, thereby sending each of different area identifiers.例文帳に追加

基地局装置１０は、従来、メッセージ送受信処理部５０が行なうエリア識別子の送信処理を送信制御部４３により制御し、異なるエリア識別子各々が送信されるようにする。 - 特許庁

The process for the production of the optionally hydrogenated nitrile terpolymer having a lower molecular weight, a lower Mooney viscosity and a lower molecular weight distribution than those known in the art.例文帳に追加

本発明は、当技術分野で公知のものよりも低い分子量、低いムーニー粘度、および狭い分子量分布を有する場合により水素化されていてもよいニトリルターポリマーの製造方法に関する。 - 特許庁

To provide a liquid phase diffusion welding method for a steel bar completing an isothermal solidification process in an extremely shorter time than that in the gas pressure welding of a prior art and obtaining a weld joint excellent in bending strength.例文帳に追加

従来のガス圧接よりも極めて短い時間で等温凝固過程を完了し、かつ曲げ強度に優れた接合継手が得られる、棒鋼の液相拡散接合方法を提供する。 - 特許庁

Further, in an invention of a process for creating a plant, how the process or the plant created by the process can be used should be described in the detailed description of the invention, except where it could be understood by a person skilled in the art without such description when taking into account the overall descriptions of the specification (excluding claims), drawings and common general knowledge as of the filing. 例文帳に追加

また、植物の作出方法の発明においては、明細書及び図面の記載並びに出願時の技術常識に基づき当業者がその方法又はその方法により作出された植物を使用できる場合を除き、発明の詳細な説明に、どのように使用ができるかについて記載しなければならない。 - 特許庁

Further, in an invention of a process for creating an animal, how the process or the animal created by the process can be used should be described in the detailed description of the invention, except where it could be understood by a person skilled in the art without such description when taking into account the overall descriptions of the specification (excluding claims), drawings and common general knowledge as of the filing. 例文帳に追加

また、動物の作出方法の発明においては、明細書及び図面の記載並びに出願時の技術常識に基づき当業者がその方法又はその方法により作出された動物を使用できる場合を除き、発明の詳細な説明に、どのように使用できるかについて記載しなければならない。 - 特許庁

To provide a production process for facilitating machining on the surface of a workpiece in following process by planarizing protrusions and recesses on the surface of the workpiece, e.g. a semiconductor substrate or a micromachine, being subjected to micromachining easily with higher planarity as compared with prior art even when the depth of the recesses is different.例文帳に追加

半導体基板やマイクロマシン等の微細な加工を施される加工対象物の表面の凹凸を従来よりも高い平坦度で凹部の深さが異なる場合においても簡易に平坦化し、後工程における当該表面への加工を容易にする製造方法を提供する。 - 特許庁

A cylinder type capacitor can thereby be manufactured in the cell region without generating any level difference between the cell region and the peripheral circuit, and an IMD being formed for the subsequent metallization process can be planarized easily as compared with prior art or the planarization process itself can be eliminated.例文帳に追加

これにより、セル領域と周辺回路間の段差を生ぜずにセル領域にシリンダ型キャパシタを製造でき、後続の金属配線工程のために形成するＩＭＤを従来の技術に比べて易しく平坦化できるか、または平坦化工程自体を省略できる。 - 特許庁

Since the diffusion factor of arsenic (As) is small when compared with that of phosphorus (P), impurity diffusion (profile diffusion) by heat treatment in the manufacturing process is suppressed significantly when compared with a phosphorus-doped substrate by prior art.例文帳に追加

これによって、砒素（Ａｓ）の拡散係数がリン（Ｐ）に比べて小さいことから、従来手法によるリンドープ基板に比べて製造工程における熱処理による不純物拡散（プロファイル拡散）を大幅に抑制する。 - 特許庁

To provide a process allowing long-term, stable production of isocyanates at a high yield without the various problems found in the prior art during production of isocyanates without using phosgene.例文帳に追加

本発明の目的は、ホスゲンを使用せずイソシアネートを製造するに際し、先行技術にみられるような種々の問題点がなく、高収率でイソシアネートを長期間安定に製造できる方法を提供することにある。 - 特許庁