「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for preparing phenols in a liquid phase with a high selectivity to phenols without the need of using highly toxic compounds or a high reaction temperature.例文帳に追加

フェノール類への選択率が高く、毒性の高い化合物を使用せず、かつ、高い反応温度を必要としない液相によるフェノール類の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To realize a signal level change detection circuit by which stable edge detection is realized by suppressing the effects of process dependence and of fluctuations in a power supply voltage and temperature or the like.例文帳に追加

プロセス依存性、電源電圧および温度などの変動による影響を抑制でき、安定したエッジ検出を実現可能な信号レベル変化検出回路を実現する。 - 特許庁

To provide a propylene resin type foamed sheet and a container obtained by a process for vacuum molding of the said foamed sheet, in which a container having a beautiful appearance can be produced in a wide range of a processing temperature.例文帳に追加

外観美麗な容器が広い加工温度範囲で得られるプロピレン系樹脂発泡シートおよび該発泡シートを真空成形して得られる容器を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit device that can control a substrate voltage of an MOSFET without causing a drain current to depend upon a temperature or a process variation.例文帳に追加

ドレイン電流が温度依存性、プロセスばらつき依存性がないようにＭＯＳＦＥＴの基板電圧を制御可能な半導体集積回路装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method which forms a high-quality film in a low-temperature process and which can freely control a nature of the film in a sputtering method and a sputtering apparatus.例文帳に追加

スパッタリング方法および装置において、低温プロセスで高品質な膜を形成するとともに、膜の性質を自由に制御可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an oxide semiconductor powder of high electrical conductivity to obtain an inorganic-particle-dispersed type oxide semiconductor film capable of manufacturing by a low temperature process.例文帳に追加

低温プロセスで作製することが可能な、無機粒子分散型の酸化物半導体膜を得るために、導電性の高い酸化物半導体粉末を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a graphene thin film, by which the produced graphene maintains high conductivity while showing no decrease in the electric resistance and the graphene can be produced in a low temperature process.例文帳に追加

作製したグラフェンの電気抵抗が低下せず、高い伝導率が確保されるとともに、低温プロセスで作製可能なグラフェン薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste with good printability, which forms a pattern capable of obtaining good electrical characteristics without using a high temperature process.例文帳に追加

良好な印刷適性を有し、高温プロセスを用いることなく、良好な電気的特性を得ることができるパターンを形成することが可能な導電性ペーストを提供する。 - 特許庁

To provide a black matrix where increase of regular reflectance and diffuse reflectance is suppressed even after a high temperature process and reflectance characteristics is not rapidly changed relative to variance in film thickness.例文帳に追加

高温プロセス後でも正反射率や拡散反射率の増大を抑制し、かつ膜厚バラツキに対して反射率特性が急変しないブラックマトリックスを提供する。 - 特許庁

To provide a device in order to reduce operation temperature of an electrode without enlarging a size of the electrode and without increasing cost of manufacturing process of the electrode.例文帳に追加

電極のサイズを拡大することなく且つ電極製造工程のコストをあまり増すことなく、電極の動作温度を低下させるための装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide an element sealing body having a better gas barrier property compared with that of resin, requiring no heating process such as the sintering or the like of a glass frit, and capable of being sealed at a normal temperature.例文帳に追加

樹脂と比較してガスバリア性に優れ、ガラスフリットの焼結等の加熱工程を必要とせず、常温で封止可能な素子封止体を提供する。 - 特許庁

The temperature of the source-contact electrode 16 when the surface of the source-contact electrode 16 is exposed in an oxygen containing atmosphere, is brought at 100°C or lower after the heat treatment process.例文帳に追加

熱処理する工程の後、ソースコンタクト電極１６の表面を酸素含有雰囲気に曝露するときのソースコンタクト電極１６の温度を１００℃以下にする。 - 特許庁

In the deposition process, upon mixing a poor solvent for the polyphenylene ether and a solution into which the polyphenylene ether of a specific viscosity is dissolved, the solution temperature inside a deposition vessel is controlled to from -80 to 20°C.例文帳に追加

特定粘度のポリフェニレンエーテルを溶解した溶液とポリフェニレンエーテルの貧溶媒を混合するに際し、析出槽の液温をー８０〜２０℃に制御する析出法。 - 特許庁

To provide a method of cooling steel and an apparatus for it by which the quality in TMCP (temperature control rolling process) rolling is improved by preventing the water leakage from a nozzle.例文帳に追加

ノズルの水漏れを防止してＴＭＣＰ（温度制御圧延プロセス）圧延における品質を向上させる鋼材の冷却方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

The dangling bonds of silicon in the interfaces of the substrate 11 are terminated by cyano-ions which are not cut from their bonded dangling bonds of silicon even when the substrate 11 is subjected to a high-temperature process.例文帳に追加

半導体基板１１の界面のシリコンのダングリングボンドが、高温のプロセスを経てもシリコンのダングリングボンドとの結合が切断されないシアノイオンで終端化される。 - 特許庁

To assure excellent magnetic characteristic such as residual magnetic flux density and coercive force or the like, control grain growth in the sintering process, and expand the range of sintering temperature.例文帳に追加

残留磁束密度及び保磁力等の磁気特性に優れ、焼結過程における粒成長を抑制することができ、且つ焼結温度幅を拡大することができる。 - 特許庁

To provide a getter composition containing a drying agent having stability in an ordinary temperature/humidity environment, having stability of rheological behavior, and capable of being used for screen process printing.例文帳に追加

通常の温／湿度環境下における安定性を有する乾燥剤を含み、およびレオロジー的挙動安定性を有するスクリーン印刷可能なゲッター組成物の提供。 - 特許庁

The ion exchange resin is compound with a melted matrix polymer at a relatively low temperature for a relatively limited retention time at a latter half process stage and before transferred to a head die for extrusion.例文帳に追加

イオン交換樹脂を、後半のプロセス段階で、押出用ダイヘッドに移送する前に比較的低温及び滞留時間で溶融マトリックスポリマーに配合する。 - 特許庁

The water dispersion composition is produced by the method including a process of dispersing the aromatic oligomer being a solid at room temperature in the presence of a surfactant by a wet pulverizing dispersion method.例文帳に追加

常温で固体である芳香族オリゴマーを界面活性剤の存在下で湿式粉砕・分散法にて分散させる工程を含む製造方法を用いる。 - 特許庁

Thereby the delay control circuit can control the delay time so as to include it within the fixed range even when a condition such as a semiconductor manufacturing process, temperature and voltage is changed.例文帳に追加

従って、遅延調節回路は、半導体製造工程、温度、電圧などの条件が変化しても遅延時間を一定範囲内に入るように調節することができる。 - 特許庁

That is, the piezoelectric element 45 is effectively used by regulating a polarization direction of the piezoelectric substance 46, and polarization is prevented from disappearing even at a temperature during a process.例文帳に追加

つまり、圧電体４６の分極方向を規定することにより、圧電素子４５を効率良く使用し、プロセス中の温度においても分極が消極しないようにする。 - 特許庁

To provide a gasket capable of developing a good sealing property without going through a heating process at high temperature, and to provide a sealing structure using the gasket.例文帳に追加

高温に加熱する工程を経ることなしに、良好なシール性を発現させることができるガスケットと、前記ガスケットを用いた密閉構造体とを提供する。 - 特許庁

The compounds can be utilized as the ultraviolet absorber, and is expected to express good effects when especially used for various plastics, fiber materials and the like requiring a high-temperature working process.例文帳に追加

この化合物は、紫外線吸収剤として利用でき、特に高温作業工程を必要とする各種プラスチック、繊維材料等に使用すれば好結果が期待される。 - 特許庁

During the high temperature heating packaging process, while the glass shell opens upward, the stem assembly unit is inserted into the glass lamp shell, simultaneously rotated in the same direction, and evenly heated.例文帳に追加

高温加熱パッケージングの過程に於いて、ガラス球の開口は上向きで、芯柱ユニットをその中に入れ、同時に同方向に回転させて熱を均一に当てる。 - 特許庁

A stopping part 52a stops a CPU 41 if receiving a temperature abnormality signal under the situation where each CPU performs the same process on a clock signal of a reference frequency.例文帳に追加

停止部５２ａは、各ＣＰＵが基準周波数のクロック信号で同一の処理をしている状況下で温度異常信号を受け付けると、ＣＰＵ４１を停止する。 - 特許庁

The electroless deposition station also includes various fluid delivery devices and substrate temperature controlling devices to perform a contamination-free and uniform electroless deposition process.例文帳に追加

また、無電界堆積ステーションは、汚染のない均一な無電界堆積プロセスを遂行するために種々の流体配送及び基板温度制御装置も備えている。 - 特許庁

To provide a heat treatment method which changes a set temperature, according to the changes in the reflectivity in a process chamber to improve the reproducibility of a heat treatment.例文帳に追加

処理容器内の反射率の変化に対応させて設定温度を変化させることにより、熱処理の再現性を向上させることが可能な熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To fully preheat for securing a printing quality even under a low- temperature environment and to reduce a load at a software process of a CPU.例文帳に追加

低温環境下であっても印字品質の確保のための十分な予熱を与えることができ、併せてＣＰＵのソフトウェア処理における負荷を軽減することができるようにする。 - 特許庁

To provide an adhesive film making the temperature in adhering to the rear side of a wafer sufficiently low and easily detached from a dicing sheet in a pickup process.例文帳に追加

ウェハの裏面に貼り付ける際の温度を十分に低温にできるとともに、ピックアップ工程においてダイシングシートから容易に剥離する接着フィルムを提供すること。 - 特許庁

To greatly improve the reliability of a semiconductor integrated circuit device by reducing the dispersion of detection levels in power source voltage caused by temperature, a manufacturing process and the like.例文帳に追加

温度、製造プロセスなどによる電源電圧における検出レベルのばらつきを少なくし、半導体集積回路装置の信頼性を大幅に向上させる。 - 特許庁

To enable rigid connection between a valve actuator and a valve stem having contact with high temperature process fluid or vapor.例文帳に追加

バルブアクチュエータと、高温プロセス流体または蒸気と接触しているバルブステムとの間の剛体接続を提供する新規および改良された熱絶縁体を提供する。 - 特許庁

To form a ferroelectric film in a bismuth layer structure by using low temperature crystallization in the MOCVD process.例文帳に追加

ＭＯＣＶＤ法を用いて強誘電体膜を形成する方法において、低温で結晶化することによりビスマス層状構造を有する強誘電体膜を形成する。 - 特許庁

To provide a bandgap reference circuit that reduces variations in a manufacturing process and supplies a constant voltage independent of supply voltage and temperature change.例文帳に追加

製造プロセスでのばらつきの影響が抑えられ、なおかつ、電源電圧、温度の変動に依存しない定電圧を供給できるバンドギャップリファレンス回路を提供する。 - 特許庁

To process a processing object such as incineration ash continuously, properly and in a large amount in slagging it by melting at an elevated temperature followed by chill setting.例文帳に追加

高温加熱によって溶融されその後の冷却固化によりスラグ化する焼却灰などの処理対象物を、連続的に、かつ、多量に、適切にスラグ化する。 - 特許庁

To provide a high-reliability semiconductor device where failure cases such as breaking of tungsten wirings, etc., in making the wiring width fine and even under a high-temperature process condition.例文帳に追加

配線巾の微細化と、高温プロセスの状況においてもタングステン配線の断線などの不良事例が発生しない信頼性が高い半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste capable of forming a conductive pattern which can obtain stable and excellent electrical characteristics without using a high temperature process.例文帳に追加

高温プロセスを用いることなく、安定して良好な電気的特性を得ることができる導電パターンを形成することが可能な導電性ペーストを提供する。 - 特許庁

To provide a fluctuation compensating oscillator capable of precisely compensating the fluctuation of a clock to each fluctuation of a temperature to be a main fluctuation factor, a source voltage, and a process with high precision.例文帳に追加

主要変動要因である温度、電源電圧、プロセスの各変動に対するクロックの変動を高精度に補償できる変動補償型発振器を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a magnetic disk device including a process for detecting and processing a defective sector, in which reproduction failure occurs at low operational temperature, by a simple method.例文帳に追加

簡易な方法で、低い動作環境温度で再生エラーが発生する欠陥セクタを検出して処理する工程を含む磁気ディスク装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of stably maintaining characteristics of an electronic process by controlling humidity and temperature inside the apparatus within a predetermined range.例文帳に追加

装置内部の湿度や温度を所定の範囲内に制御して、電子プロセスの特性を安定に保つことができる画像形成装置の提供を目的としている。 - 特許庁

By using the microorganism, the enzyme and the gene encoding the same, a wide range of aromatic hydroxycarboxylic acids including salicylic acid can be produced by an environmentally compatible process at room temperature and ordinary pressure.例文帳に追加

これらを用いることにより、常温、常圧の環境調和型プロセスによってサリチル酸を初めとする、広範な芳香族ヒドロキシカルボン酸を製造することができる。 - 特許庁

The appropriate temperature distribution along the vertical direction of the liquid container 101 is stably ensured, and the molten metal M1 can be solidified into particles in the cooling process.例文帳に追加

液体容器１０１の上下方向に沿った適正な温度分布が安定的に確保され、冷却過程で適正に溶融金属Ｍ1 を球状に固化させることができる。 - 特許庁

The magnetoresistive structure including a magnetoresistive element having the first antiferromagnetic layer AFM1 is formed, then subjected to a first annealing process under a strong magnetic field at high temperature.例文帳に追加

第１の反強磁性層ＡＦＭ１を有する磁気抵抗素子を含む磁気抵抗構造を形成したのち、強磁界下で高温で第１のアニール工程を行う。 - 特許庁

Further, the processing method of the pressure governor 100 executes a holding process for heating the assembled pressure governor to the preset temperature and holding for a certain period of time.例文帳に追加

また、かかる整圧器１００の処理方法において、整圧器１００を組み立てた状態で設定温度に加熱して一定時間保持する保持工程を実行する。 - 特許庁

The condition to be determined in the determining process includes at least either a relative angle between the substrate and the product to be processed, or the temperature of the substrate.例文帳に追加

前記決定工程において決定される条件は、前記原版と前記被加工物との相対角度、および前記原版の温度の少なくとも一方を含む。 - 特許庁

Hereby, a fuel level gage 1 capable of suppressing the characteristic change caused by exposure of the Hall IC 7 to a high temperature in the manufacturing process can be provided.例文帳に追加

これにより、その製造工程においてホールＩＣ７が高温に曝されその特性が変化することを抑制可能な燃料レベルゲージ１を提供することができる。 - 特許庁