「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method capable of simplifying a process, improving process tolerance and yield in the manufacturing method of an IC card and an IC tag having excellent durability without impairing a function even at the time of exposure to chemicals and high temperature.例文帳に追加

薬品や高温への曝露時にも機能を損なわない、優れた耐久性を持つＩＣカードおよびＩＣタグの製造方法において、工程の簡素化や加工精度の改善、収率の向上が図れる、製造方法を提供する。 - 特許庁

This method has a first process of supplying a second liquid different in at least either of specific gravity and temperature from a first liquid into the first liquid in a second space K2, or a second process of discharging the second liquid from the second space K2.例文帳に追加

第２空間Ｋ２の第１液体に、第１液体とは比重及び温度の少なくとも一方が異なる第２液体を供給する第１工程と、第２空間Ｋ２から第２液体を排除する第２工程とを有する。 - 特許庁

To provide a process including no thermal decomposition process of an RE123 phase and requiring no high temperature melting for a long time; and to provide a method for manufacturing a superconductive bulk body having a large size, high performance, and excellent mechanical characteristics.例文帳に追加

本発明は、ＲＥ１２３相の熱分解工程を含まず、高温かつ長時間の溶融が不必要なプロセスを開発し、大型でかつ高性能、かつ、機械的特性に優れた超電導バルク体を作製する方法を提供する。 - 特許庁

When cooking rice by a reservation rice cooking menu, this rice cooker finishes the heating of a pot by a heating means at a temperature lower than that of a regular rice cooking where the rice cooking process starts immediately, and finishes the process of the rice cooking.例文帳に追加

予約炊飯メニューによる炊飯を行う場合には、すぐに炊飯の工程を開始する通常炊飯を行う場合よりも低い温度で加熱手段による釜の加熱を終了させて、炊飯の工程を完了させる。 - 特許庁

When the latent image is formed by rotating the grooves or the pits at a constant angular velocity in the exposure process, the temperature of heat treatment to be performed in the first heat treatment process is made to be different according to the distance from the center of the master disk.例文帳に追加

そして、露光工程で溝又はピットを角速度一定で回転させて潜像を形成する場合、第１の熱処理工程で行う熱処理の温度を原盤の中心からの距離によって異なる温度とする。 - 特許庁

To provide a detecting method for a crystalline defect with high measurement sensitivity in which even a microdefect such as a small BMD formed nearby a wafer surface after a low-temperature process as an advanced device process can be measured.例文帳に追加

先端デバイスプロセスである低温プロセス後のウェーハ表面近傍に形成される小さなＢＭＤなど微小な欠陥であっても測定することができる測定感度の高い結晶欠陥の検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic device having the ohmic electrode of Al_xGa_1-xN (0<x≤1)/Al_yGa_1-yN (0<y≤1) heterojunction without the need for an ion implantation process by allowing annealing at a high temperature and in a short period of time in a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程において高温で短時間のアニールを可能にすることにより、イオン注入の工程が不要なＡｌ_ｘＧａ_１−ｘＮ／Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＮヘテロ接合のオーミック電極を備える電子デバイスを提供する。 - 特許庁

After the rolling and joining process, a heat treatment process, wherein the Mg-Ni laminating and mixing plate 32 is held in the temperature range of 200°C-450°C and a Mg_2Ni intermetallic compound is synthesized by counter diffusion between solid phases, is preferably conducted.例文帳に追加

圧延接合工程を行った後，Ｍｇ−Ｎｉ積層混合板３２を２００℃〜４５０℃の温度域に保持し，固相間の相互拡散によってＭｇ_２Ｎｉ金属間化合物を合成する熱処理工程を行うことが好ましい。 - 特許庁

(2) Operation of discharging it for a given period of time at 0.5 C or lower under an environmental temperature of 10 to 70 °C, and, later leaving it for 1 to 48 hours is to be one process, and the process is repeated twice or more, until a discharging potential gets 3.3 V or lower.例文帳に追加

（２）環境温度１０〜７０℃において０．５Ｃ以下で所定時間放電を行い、その後１〜４８時間放置する操作を１工程とし、この工程を放電電位が３．３Ｖ以下になるまで２回以上繰り返す。 - 特許庁

To render harmful exhaust gas harmless by a two-step treatment of a process of treating the harmful exhaust gas etc. at a high temperature and a washing process, the harmful exhaust gas being generated through burning in an apparatus for burning and treating an optional kind of waste.例文帳に追加

任意の種類の廃棄物等を燃焼させて処理する装置において、燃焼により発生する有害ガス等を高温で処理する工程と、水洗工程との２段階で処理して排ガスを無害化して排気する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for ferro-coke attaining effective utilization in a ferro-coke manufacturing process by using low temperature carbonization tar generated in the ferro-coke manufacturing process as a binder of a ferro-coke material molded article.例文帳に追加

フェロコークス製造プロセスにおいて発生する低温乾留タールを、フェロコークス原料成型物のバインダーとして使用することで、フェロコークス製造プロセス内での有効利用を可能とする、フェロコークスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a toner for electrostatic latent image development, maintaining low temperature fixing property from a low to high process speed range, low glossiness and excelling image reproducibility, and to provide an electrostatic latent image developer, a toner cartridge, a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

低速域から高速域まで低温定着性が維持され、光沢度が低く、かつ画像再現性が優れた静電潜像現像用トナー、静電潜像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an adjusting/assembling unit capable detecting a position during a mounting process enabling precisional adjustment at respective positions without thermal fluctuations in the process of fastening high-temperature treated parts such as semiconductor laser chips.例文帳に追加

半導体レーザチップ等の高温処理部品のように高温処理により部品締結を行う際の各々の位置を熱揺らぎなく高精度に調整できるよう実装時の位置検出が可能な調整組立装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polyamide resin composition giving an LED reflector, free from discoloration, maintaining high whiteness, excellent in reflecting property in visible light region after carrying out a heating process at a high temperature imaging a producing process for LED.例文帳に追加

ＬＥＤの製造工程を想定した高温加熱処理を行っても、変色せずに、高い白色度を維持し、可視光領域での反射率特性に優れたＬＥＤ用リフレクタを与えるポリアミド樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The analyzing method of a mixture containing fluorine compound includes a process of heating the mixture and measuring the weight change of the mixture with respect to temperature, and a process of analyzing the gas generated from the heated mixture.例文帳に追加

フッ素系化合物を含有する混合物を分析する方法は、混合物を加熱して、温度に対する該混合物の重量変化を測定する工程と、加熱された混合物から発生したガスを分析する工程を有する。 - 特許庁

To provide a substrate heating and transporting process apparatus for transporting a wafer while heating it and for independently performing pressure control and temperature control on a vacuum chamber, which is formed in combination with each process chamber.例文帳に追加

ウエハーを加熱したまま搬送することができるとともに、各プロセス処理室と組み合わされて形成した真空室を独立して圧力制御及び温度制御するための基板加熱搬送プロセス処理装置を提供する。 - 特許庁

In manufacturing an SIMOX wafer having an oxygen implantation process and a high-temperature annealing process, prior to implantation of oxygen ions; an oxide film is formed on the surface of the wafer, and oxygen ion implantation is executed through the oxide film.例文帳に追加

酸素イオン注入工程および高温アニール工程を有するSIMOXウェーハの製造方法において、 該酸素イオン注入に先立ち、ウェーハの表面に酸化膜を形成し、該酸化膜を通して酸素イオンの注入を行う。 - 特許庁

A process deciding means 14 decides a pre-cooking temperature and pre-cooking time corresponding to the rice amount and the water amount and a control means 4 controls a heating means 3 and executes pre-cooking according to the output of a rice cooking process control means 9.例文帳に追加

プロセス決定手段１４が米量と水量に応じた前炊き温度と前炊き時間を決定し、炊飯工程制御手段９の出力に従って制御手段４が加熱手段３を制御して前炊きを行う。 - 特許庁

To provide optical glass for mold pressing which has an index of refraction (nd) of 1.60 to 1.67, an Abbe's number (νd) of ≥55, is pressed at a low temperature, is hard to undergo devitrification in the process of a pressing process, and has high weather resistance.例文帳に追加

屈折率（ｎｄ）が１．６０〜１．６７、アッベ数（νｄ）が５５以上で、低温でプレス成形可能であり、成形工程中に失透し難くしかも高い耐候性を兼ね備えたモールドプレス成形用光学ガラスを提供する。 - 特許庁

A heat medium of an intermediate temperature from a radiating portion 4 is supplied and passed to a heat exchanger 22a of the desorption process this time, then allowed to flow to a heat exchanger 22b performing the desorption process in the next time through by a bypass passage 12, and returned.例文帳に追加

放熱部４から中温の熱媒を今回は脱着工程の熱交換器２２ａに供給し、通過後にバイパス通路１２を通して次回に脱着工程を行う熱交換器２２ｂに流した上で戻す。 - 特許庁

To provide a tile, wherein the coefficient of thermal expansion at room temperature to 400°C is smaller than that of the conventional tiles, and warpage is not caused in a cooling process in the later period of a firing process and the rate of hydration expansion is small, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

室温〜４００℃の熱膨張係数が従来品よりも小さく、焼成工程後期の冷却過程において反りが発生することがなく、しかも水和膨張率も小さいタイルとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a panel holder preventing entering vapor or drops of hydrofluoric acid between the panel and a panel cover on washing process with hydrofluoric acid as well as preventing unevenness of dried coating film by improving temperature distribution of the panel on drying process.例文帳に追加

フッ酸洗浄工程でパネルとパネルカバーとの隙間にフッ酸蒸気や液滴が侵入するのを防止し、また、乾燥工程でパネルの温度分布を改善して塗布膜の乾燥むらを防止したパネル保持装置を提供する。 - 特許庁

(1) An operation of charging it for a given period of time at 0.5 C or lower under an environmental temperature of 10 to 70 °C, and later leaving it standing for 1 to 48 hours is to be process 1, and the process is repeated twice or more, until a charging potential gets 4 V or higher.例文帳に追加

（１）環境温度１０〜７０℃において０．５Ｃ以下で所定時間充電を行い、その後１〜４８時間放置する操作を１工程とし、この工程を充電電位が４Ｖ以上になるまで２回以上繰り返す。 - 特許庁

A method for manufacturing the bathtub includes a process of reinforcing the reverse side of the thermoplastic resin formed item with a thermosetting resin to produce a laminate, while the temperature of the surface side of the thermoplastic resin formed item is kept at not higher than 10°C and a process of warming the laminate to 15 to 25°C.例文帳に追加

熱可塑性樹脂成形品の表面側を１０℃以下の温度に保持した状態でその裏面を熱硬化性樹脂で補強して積層体とし、次いでこの積層体を１５〜２５℃の温度にする浴槽の製法。 - 特許庁

In order to process a piece of lumber into a specified three-dimensional shape, a compression process in which the lumber under a state having a water content of the fiber saturation point or higher is compressed under a steam atmosphere having a higher temperature and a higher pressure than the atmospheric air is performed.例文帳に追加

木材を所定の３次元形状に加工するために、繊維飽和点以上の含水率を有する状態にある木材を、大気よりも高温高圧の水蒸気雰囲気中で圧縮する圧縮工程を行う。 - 特許庁

A device to melt-process radioactive waste by a high temperature melting furnace with a method maintaining a state a cooled melting furnace vessel 22 and melt 28 heated in it do not directly contact to melt and process.例文帳に追加

冷却される溶融炉容器２２と、その中で加熱される溶融物２８とが直接接触しない状態を維持しつつ溶融処理する方式の高温溶融炉によって放射性廃棄物を溶融処理する装置である。 - 特許庁

To suppress discharge of an unburnt component to the outside when a warm-up promotion process is performed again after the warm-up promotion process for promoting the temperature rise of the cooling medium of an internal combustion engine is once performed.例文帳に追加

内燃機関の冷却媒体の温度上昇を促進させる暖機促進処理が一旦実行された後、当該暖機促進処理が再度実行されるときに未燃焼成分が外部に排出されるのを抑制する。 - 特許庁

Solid monomers generally dissolving more easily than polymers are capable of using a solvent having low boiling point and a preliminary heating process at high temperature and a long time required in conventional method is not required in the process.例文帳に追加

モノマーが固体のものにおいても、高分子材料よりも一般に溶解性に優れるため、沸点の低い溶媒を使用することができ、従来法で必要とされた、高温、長時間の加熱前処理工程は不用となる。 - 特許庁

In a process 16, while using the defect distribution which is determined as a function of film thinning quantities in the process 15, TDDB at an arbitrary voltage and an arbitrary temperature are predicted concerning the insulating film of an arbitrary area.例文帳に追加

過程１６は、過程１５で薄膜化量の関数として確定された欠陥分布を用いて、任意の面積の絶縁膜について任意の印加電圧及び任意の温度における経時絶縁破壊特性を予測する。 - 特許庁

A heat medium of low temperature from a cooling portion 5 is supplied and passed to a heat exchanger 23a of the condensation process this time, then allowed to flow to a heat exchanger 23b performing the condensation process in the next through a bypass passage 14, and returned.例文帳に追加

冷却部５から低温の熱媒を今回は凝縮工程の熱交換器２３ａに供給し、通過後にバイパス通路１４を通して次回に凝縮工程を行う熱交換器２３ｂに流した上で戻す。 - 特許庁

To realize energy saving and low temperature heating of thermal treatment equipment and to improve an objective material, by selectively heating the objective material to be heated in the wiring process of a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

本発明は半導体製造工程の配線工程において、加熱すべき対象材料を選択的に加熱することにより熱処理装置の省エネルギ化及び低温加熱を達成し、対象材料を改質することを課題とする。 - 特許庁

Scattering and image disorder of the toner image PT on the photoreceptor drum 31 over an area between the developing process and the transfer process are suppressed by preheating the toner image PT to allow the condensation temperature among toner particles to be properly adjusted.例文帳に追加

感光体ドラム３１上のトナー像ＰＴは、予備加熱されることでトナー粒子間の凝集度が適正に調整されて、現像工程から転写工程に亘る領域でトナー像ＰＴの飛び散り，像乱れが抑制される。 - 特許庁

Preferably the liner coated with the aqueous composition is passed through a drying process between the coating process of the aqueous composition and the flexographic printing and preferably the surface temperature of the liner or corrugated board before flexographic printing is 20-120°C.例文帳に追加

前記水性組成物の塗布工程と前記フレキソ印刷の工程との間で乾燥工程を通過することが好ましく、さらにフレキソ印刷前のライナーまたは段ボールの表面温度が２０〜１２０℃であることがより好ましい。 - 特許庁

The forming method of the solid oxide thin film has a process depositing lanthanum gallate on the anode 3 by RF magnetron sputtering; and a process heat-treating the anode 3 on which lanthanum gallate is deposited at temperature less than 1,200°C.例文帳に追加

固体酸化物薄膜の形成方法は、ＲＦマグネトロンスパッタリングにより、アノード電極３上にランタンガレートを堆積する工程と、前記ランタンガレートを堆積した前記アノード電極３を１２００℃未満で熱処理する工程とを備える。 - 特許庁

The method is characterized in that the cooling speed of the steel tube in the first cooling process is decided according to the thickness of the steel tube so that the recovery heat-quantity of the outer surface temperature of the steel tube in the second cooling process becomes ≤50°C.例文帳に追加

そして、前記第２冷却工程における鋼管の外面温度の復熱量が５０℃以下となるように、前記第１冷却工程における鋼管の冷却速度を鋼管の肉厚に応じて決定することを特徴とする。 - 特許庁

This method for producing the oral liquid substance comprises a process (A) of filtering the liquid substance for eliminating bacteria and a process (B) of sealing the liquid substance in a container and then heating the liquid substance together with the container at 60-100°C liquid temperature for ≥10 min.例文帳に追加

液状物を除菌濾過する工程（Ａ）と、該液状物を容器に密封した後、容器ごと該液状物を液温６０〜１００℃で１０分間以上加熱する工程（Ｂ）とを有する経口用液状物の製造方法。 - 特許庁

To provide a process gas transfer piping capable of uniformly controlling the heating of process gas flowing through the inner part of piping to a prescribed temperature and also capable of easily changing a piping system as well as facilitating maintenance, and a film deposition system.例文帳に追加

配管の内部を流れるプロセスガスを所定の温度に均一に加熱制御でき、しかもメンテナンスが容易であるばかりでなく、配管系を容易に変更できるようにしたプロセスガス搬送用配管及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dust collecting device in a thermal cutting process machine which can suction and discharge dust at a high temperature generated upon thermal cutting process while cooling down the dust sufficiently, and which can avoid generation of wind roar at a closed shutter device.例文帳に追加

熱切断加工時に生じた高温の粉塵を充分に冷却して吸引排出することができ、かつ閉じたシャッタ装置に風切り音を発生することのない熱切断加工機における集塵装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for quantitatively estimating a temperature region producing the surface crack of a steel material to specify the same by recognizing a condition for producing the surface crack being the surface flaw of the steel material produced between a continuous casting process and a rolling process.例文帳に追加

連続鋳造から圧延工程の間で発生する鋼材の表面欠陥である表面疵の発生条件を知ることで、鋼材の表面疵の発生温度域を定量的に推定して特定する方法を提供する。 - 特許庁

This method for producing a surface-modified rubber comprises a process of making surface treatment of a discarded cured rubber with a radical generator at such a temperature as to be ≥20°C lower than the temperature at which the half-life of the radical generator comes to one minute.例文帳に追加

ラジカル発生剤の半減期が１分間となる温度より２０℃以上低い温度において、該ラジカル発生剤を用いて廃棄加硫ゴム表面の処理を行う工程を含む表面改質ゴムの製造方法である。 - 特許庁

To provide a device for manufacturing coated fuel particles for a high-temperature gas-cooled reactor equipped with a graphite heater which makes it possible to form a uniform coating layer by holding temperature conditions in a reaction domain constant in a process for forming each coating layer.例文帳に追加

各被覆層形成工程において反応領域における温度条件を一定に保って均一な被覆層形成が可能な黒鉛ヒーターを備えた高温ガス炉用被覆燃料粒子製造装置の提供。 - 特許庁

The film is manufactured in a drying process under the conditions of ≤2.5 Kg/cm^2 tension in the traveling direction of the film and the environment temperature ranging from (Tg-50)°C to (Tg-5)°C, wherein Tg is the glass transition temperature (°C) of the polycarbonate resin.例文帳に追加

フィルムの走行方向の張力を２．５Ｋｇ/平方ｃｍ以下とし、かつ雰囲気温度を（Ｔｇ−５０）℃〜（Ｔｇ−５）℃とする乾燥工程により製造する（ただし、Ｔｇはポリカーボネート樹脂のガラス転移点温度（℃）である）。 - 特許庁

To obtain a semiconductor wafer heat-treating device which can prevent the occurrence of the thickness fluctuation of a film or the depth nonuniformity of a diffusion layer when the film or layer is formed on a semiconductor wafer by controlling the temperature in a process tube so that the temperature may become uniform.例文帳に追加

プロセスチューブ内の温度を均一になるように制御して、ウェハの成膜処理や拡散処理において膜厚のばらつきや拡散層の深さの不均一の発生を防止できる半導体ウェハの熱処理装置を得る。 - 特許庁

This method for producing the methane hydrate is characterized in that the methane is brought into contact with water at a temperature ≥1°C lower than the equilibrium temperature for the formation of the methane hydrate under the production pressure in the production process of the methane hydrate.例文帳に追加

メタン水和物の製造工程において、製造圧力に対するメタン水和物の生成平衡温度より１℃以上低い温度で、メタンと水を接触させることを特徴とするメタン水和物の製造方法。 - 特許庁

To provide a thermoplastic cellulose acetate propionate fiber that shows reduced deterioration of physical properties of the fiber under high-temperature condition, has excellent dimensional stability, high-temperature mechanical characteristics and excellent process step passage, particularly can suitably be used for making clothes.例文帳に追加

高温下での繊維物性の低下が少なく、寸法安定性、高温力学特性および工程通過性に優れ、特に衣料用繊維に好適に用いることができる熱可塑性セルロースアセテートプロピオネート繊維を提供すること。 - 特許庁