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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > process temperatureに関連した英語例文

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process temperatureの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 5102



例文

To provide a surface protecting film for a temperature conducting film which is free from the fusion or significant deformation of a base material film, even during a heating process at about 150°C.例文帳に追加

150℃前後の加熱工程時でも、基材フィルムが融解、または、大きく変形することがない透明導電性フィルム用の表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁

Furthermore, for the case of performing the fixing process in a plurality of stages, a control means in provided for controlling the fixing temperature to proper temperatures different from the case where fixing is terminated at a time.例文帳に追加

更には、複数回に分けて定着プロセスを実行する場合、一回で定着を終了する場合と異なる適正温度に制御する制御手段を設ける。 - 特許庁

This method for producing kale dry powder comprises the following process; subjecting kale to blanching after regulating an amount of sodium chloride and sodium bicarbonate each to be added to water, water temperature, throughput of kale, and processing time, drying the thus blanched kale, and pulverizing the resultant dried kale.例文帳に追加

ケールを、水への塩化ナトリウムおよび重曹の添加量、水温、ケールの処理量、および処理時間を規定してブランチング処理し、乾燥、粉末化する。 - 特許庁

To prevent inconvenience to suddenly start a power reduction process from a display state where a usable time remains even in a low-temperature environment or high-power discharge.例文帳に追加

低温環境下や高電力放電時にも、使用可能時間が残っている表示状態から、いきなり減電処理を開始してしまうという不都合を避ける。 - 特許庁

例文

A rapid temperature rise/fall pulse(RTP) method (e.g. 10 to 90 seconds), where no time is alloted to allow fluorine to diffuse during a reflow process, where the FBPSG film 20 is flattened is used.例文帳に追加

FBPSG膜を平坦化するリフロー・プロセス中にフッ素が拡散す時間を与ない、急速昇降温パルス(RTP)法(たとえば10−90秒)を用いる。 - 特許庁


例文

To provide an organic electroluminescent element which can be manufactured inexpensive wet process and is superior in light emission lifetime and high-temperature preservability, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

低コストのウェットプロセスで作製可能であり、かつ発光寿命及び高温保存性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

By a change in output of the bottom sensor 17, the output of the weight sensor 18 and the output of a timing means, the ambient temperature is estimated and a warming process is corrected.例文帳に追加

底センサ17の出力変化と重量センサ18の出力と計時手段の出力により、周囲温度を推定し、保温プロセスを補正するようにする。 - 特許庁

To easily and precisely detect the temperature at which goods, such as foods are exposed during distribution process or the like, and to use them repeatedly many times.例文帳に追加

食品等の商品が流通過程等で曝された温度を簡単且つ正確に検知できると共に、簡単に何度も繰り返して使用できる温度センシング材を提供する。 - 特許庁

To correct the influence of an increase in a stage temperature generated in a measuring process in a dimension measuring apparatus, and to highly precisely and swiftly measure the position of a mark of a measuring object panel.例文帳に追加

寸法測定装置において測定過程に発生するステージ温度上昇の影響を補正し、対象基板のマーク位置を高精度にかつ迅速に測定すること。 - 特許庁

例文

To provide a cheap apparatus simple in removal of evaporated oil and fat and deodorization of a bad odor which are generated at a high-temperature treatment process in a dry-type garbage treatment machine.例文帳に追加

乾燥型生ごみ処理機において、高温処理過程で発生する蒸散油脂分の除去及び臭気の脱臭を簡易で安価な装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a process for producing a vinyl chloride polymer that is reduced in the generation of coarse particles and fine particles of the vinyl chloride polymer, even in the case that a reflux condenser comes into operation when the reactor for the polymerization reaches to the polymerization temperature.例文帳に追加

リフラックスコンデンサーを重合温度到達直するとともに稼動しても粗粒子、微粒子が少ない塩化ビニル系重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive pad having an abrasive layer whose flattening efficiency deteriorates slower than the former one even at a raised temperature caused by friction heat generated in abrasion process.例文帳に追加

研磨工程において発生する摩擦熱による温度上昇が起こった場合でも平坦化特性の低下が従来よりも小さな研磨パッドの研磨層を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon single-crystal wafer which can fully exhibit IG (intrinsic gettering) capability, even in a low-temperature device manufacturing process, and which can be provided relatively easily and at low cost.例文帳に追加

低温デバイス製造プロセスにおいても、IG能力を十分に発揮でき、しかも、比較的簡単かつ安価で提供できるシリコン単結晶ウエーハを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus and method in which more appropriate wafer temperature control for a reduced time is realized particularly in a multi-chamber process.例文帳に追加

特にマルチチャンバプロセスに、より好適でより時間短縮可能な基板温度制御を実現する半導体製造装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The process for regenerating crosslinked polyolefins, comprises the catalytic reaction of the crosslinked polyolefins with an elevated-temperature steam of 300°C or higher, preferably 300°C to 600°C, and more preferably 350°C to 500°C, into noncrosslinked polyolefins.例文帳に追加

架橋ポリオレフィンを温度が300℃以上、好ましくは300℃〜600℃、より好ましくは350℃〜500℃の高温水蒸気と接触反応させて、未架橋のポリオレフィンを生成する。 - 特許庁

(2) The employer shall, when the atmospheric temperature of the indoor workshop in the preceding Article is 10 ºC or lower, ensure that workers are not exposed to an air current of 1 m/sec or more in the process of ventilation. 例文帳に追加

2 事業者は、前条の屋内作業場の気温が十度以下であるときは、換気に際し、労働者を毎秒一メートル以上の気流にさらしてはならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a cleaning blade whose cleanability is maintained over a long period even under a low temperature environment, an image forming apparatus, a process cartridge, and an image forming method.例文帳に追加

低温環境下でも長期にわたってクリーニング性を維持できるクリーニングブレード、画像形成装置、及び、プロセスカートリッジ、並びに、画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To solve a problem of a conventional differential output circuit employing a CMOS circuit that VCM variations with an undesirable magnitude take place due to effects caused by variations in a power supply, temperature and a process or the like.例文帳に追加

CMOS回路を用いた差動出力回路において、電源・温度・プロセス等の変動による影響により、不所望の大きさのVCM変動が発生している。 - 特許庁

To rinse by water at a temperature equal to or higher than one suited for rising throughout a rinsing process and prevent an increase in power consumption and the size of equipment.例文帳に追加

すすぎ工程全体に渡ってすすぎに適した温度以上のすすぎ水ですすぎを実行することができ、しかも、電力の浪費や装置の大型化などを防止する。 - 特許庁

In the under-magnetic-field thermal treatment process, it is effective in terms of improving the coercive force that the thermal treatment conducted in a temperature range of 200 to 1100°C.例文帳に追加

本発明における磁場中熱処理工程において、200〜1100℃の温度範囲で熱処理を施すことが保磁力を向上させる上で有効である。 - 特許庁

To produce an electrophotographic photoreceptor having stabilized characteristics even at a high temperature and high humidity when it is repeatedly used in an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真プロセス内で繰り返し使用するにあたり、高温高湿下に於いても特性が安定化された電子写真感光体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This method for producing the brewed food is characterized by having a process for irradiating the fermented brewed food with UV light preferably at a low temperature.例文帳に追加

保存性および香味の優れた醸造食品の製造方法であって、発酵工程を終えた醸造食品に紫外線を照射する工程を具備する方法。 - 特許庁

To provide a filter circuit which holds a fixed cutoff frequency without depending upon process variation nor temperature/voltage variation, and is suitably made compact and low in current consumption.例文帳に追加

プロセスばらつき、温度・電圧変動に依存することなく一定のカットオフ周波数を保持する、小型化・低消費電流化に適したフィルタ回路を提供する。 - 特許庁

Oxygen partial pressure x (kPa) and an anneal temperature y (°C) in an anneal process are present in a region (including the segment of each expression) surrounded by segments (1-1) to (1-6) in Fig.1.例文帳に追加

アニール工程における酸素分圧x(kPa)とアニール温度y(℃)は、図1の(1−1)〜(1−6)の線分で囲まれる領域(各式の線分を含む)内に存在する。 - 特許庁

To produce a grain oriented silicon steel sheet increased in the content of Si, high in the accumulation degree in the Goss orientation and good in core loss in a process of low temperature slab heating-nitriding treatment.例文帳に追加

低温スラブ加熱−窒化処理プロセスにおいて、高Si化を可能とし、ゴス方位集積度が高く鉄損が良好な一方向性電磁鋼板を製造する。 - 特許庁

To provide a process for producing a polyester latex via a solvent-free emulsification, for forming a resin mixture having a softening point temperature of from about 95°C to about 120°C.例文帳に追加

軟化点約95℃から約120℃までを有する樹脂混合物を形成するために、無溶媒エマルジョンによるポリエステルラテックスを製造する方法を提供する。 - 特許庁

A process and braze paste are suitable for filling and closing voids in relatively thin wall sections of high temperature components, such as an impingement plate of a combustor of a gas turbine engine.例文帳に追加

ガスタービンエンジンの燃焼器のインピンジメントプレートのような高温部品の比較的薄肉セクションにおける空隙を充填し閉鎖するのに好適な方法及びろう付けペースト。 - 特許庁

To provide a tire vulcanizer which is capable of stabilizing the quality of tires by preventing the difference in temperature between the upper and lower parts of green tires from occurring in a vulcanizing process.例文帳に追加

加硫工程において生タイヤの上下部間に温度差が生じることを防止することにより、タイヤの品質を安定させるようにしたタイヤ加硫機を提供すること。 - 特許庁

The temperature control achieves a condition clarifying the transistor characteristics of the TFT substrate and increases the intensity of a detection signal, thereby allowing inspection in the array process.例文帳に追加

温度制御により、TFT基板のトランジスタ特性を顕著化させた状態とし、検出信号強度を高めることでアレイ工程での検査を可能とする。 - 特許庁

At the process temperature, the region (70) is deformed to change its outer dimension and to modify its microstructure to a depth of 1 millimeter or more.例文帳に追加

処理温度にある間に、領域(70)が、外側寸法を変化させるように、また、1ミリメートルまたはそれ以上の深さまで微細構造を修正するように、変形される。 - 特許庁

The method for producing the trialkyl gallium is characterized by having a contact process for contacting a composition having gallium and magnesium with a gasified alkyl halide at a temperature of60°C.例文帳に追加

ガリウムとマグネシウムとを有する組成物と、気相状態のハロゲン化アルキルとを、60℃以上の温度下で、接触させる接触工程を有するトリアルキルガリウムの製造方法。 - 特許庁

A method of manufacturing pellets uses a pellet cooling device 4 satisfying the following conditions of (a)-(e), and includes the process of cooling pellets, in which an outlet temperature of the pellet cooling device is 50-120°C.例文帳に追加

(a)〜(e)の条件を満たすペレット冷却機4を用い、ペレット冷却機の出口温度を50〜120℃としてペレットを冷却する工程を有するペレットの製造方法。 - 特許庁

Since the resist can be removed at a normal temperature, damage to the substrate is small, and since this process does not use any chemical; the load onto the environment is reduced markedly.例文帳に追加

この発明は常温でのレジスト除去が可能なため、基板へのダメージが小さく、また薬品を一切使用しないプロセスであるため環境負荷が大幅に低減できる。 - 特許庁

To manufacture a pressure roller capable of moderating excessive temperature rise in a paper non-passing area, when small-sized recording paper is made to pass through an image heating device, using a simplified process.例文帳に追加

像加熱装置に小サイズの記録紙を通紙した際の非通紙領域の過昇温を緩和できる加圧ローラを、簡略化した製法で製造できるようにする。 - 特許庁

When boron doping apparatus is operated using a high-temperature process that typically accelerates boron diffusion, a silicon nitride film inhibits the boron diffusion in the apparatus.例文帳に追加

窒化ケイ素膜は、ホウ素拡散を通例促進する高温処理作業を使用してホウ素ドープ装置を処理するとき、そのような装置におけるホウ素拡散を抑制する。 - 特許庁

This method for manufacturing poly(arylene ether) includes a process of oxidative coupling of a monovalent phenol in a reaction solution at a reaction temperature higher than the cloud point of the reaction solution.例文帳に追加

ポリ(アリーレンエーテル)の製造方法は、反応溶液中で、反応溶液の曇り点温度より高い反応温度で、一価フェノールを酸化的カップリングする工程を含む。 - 特許庁

To provide an internal combustion engine capable of executing regeneration process of a catalyst while stabilizing combustion in a cylinder even if back pressure is increased for raising exhaust gas temperature.例文帳に追加

排気ガス温度の上昇のため背圧を高めた場合でも、筒内の安定燃焼を図りながら触媒の再生処理を行える内燃機関を提供する。 - 特許庁

To provide a hygienic safe epoxy resin composition for low to ordinary temperature curing type prepreg without trouble, the prepreg and its curing process.例文帳に追加

安全衛生上や煩わしさを解消できる常温/低温硬化型プリプレグ用エポキシ樹脂組成物およびプリプレグ並びにその硬化方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent the diffusion of unwanted arsenic ion, and to omit ion injecting process by forming a thin film, including arsenic ion in a low temperature, and reducing thermal history.例文帳に追加

低い温度でヒ素イオンを含む薄膜を形成し、熱履歴を減少させることで、不必要なヒ素イオンの拡散を防止し、かつイオン注入工程を省略可能とする。 - 特許庁

To provide a sulfur trioxide decomposition catalyst, particularly, a sulfur trioxide decomposition catalyst capable of lowering the temperature required when producing hydrogen by an I-S cycle process.例文帳に追加

三酸化硫黄分解触媒、特にI−Sサイクル法で水素を生成する際に必要とされる温度を低下させることができる三酸化硫黄分解触媒を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage device of high reliability and proper characteristics, capable of including a ferroelectric capacitor and a thermal process at a required temperature, after wiring formation.例文帳に追加

強誘電体キャパシタ及び配線形成後に必要な温度での熱処理工程を入れることが可能な高信頼性の高特性の半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, appropriate fuel injection quantity can be injected according to temperature change of the inside of the combustion chamber without the various sensors and the complicated process circuit.例文帳に追加

これにより、各種センサ複雑な処理回路を用いることなく、燃焼室内部の温度変化に応じて、適切な燃料噴射量を噴射することができる。 - 特許庁

To provide a method for improving performances of a crystal growth program based on the temperature gradient at the crystal growth front (crystal-melt interface) in the Czochralski process.例文帳に追加

チョクラルスキー法において、結晶成長フロント(結晶−融液界面)での温度勾配にもとづいた結晶成長プログラムの性能改善方法を提供する。 - 特許庁

The liquid temperature control and the gas pressure adjustment in the production process can be simplified and the produced carbonated beverage generates fine bubbles and stably keeps the bubbles when poured into a glass.例文帳に追加

製造工程での液温管理やガス圧調整の簡便を図ることができるとともに、製品の炭酸水も、これをグラスに注ぐと、気泡が細かく泡持ちがよい。 - 特許庁

The method for synthesizing taurine comprises a process in which a protein-containing biological material is made to react in subcritical high-temperature high-pressure water.例文帳に追加

本発明は、タンパク質を含む生物学的物質を亜臨界高温高圧水の中で反応させる工程を具備したことを特徴とするタウリンの合成方法を提供する。 - 特許庁

For reducing solidification and deposition of process gas in a pipeline of the pump device, bearing electromagnets of the magnetic bearings are heated to hold a high temperature of the pipeline.例文帳に追加

ポンプ装置の管路でプロセスガスが凝固して堆積するのを低減するために、磁気軸受の軸受電磁石を発熱させて、管路の温度を高温に保温する。 - 特許庁

First and second processes are performed which specify a burning temperature and a holding time to raw materials containing the organic materials in the preparing process of the MoV-based catalyst.例文帳に追加

MoV系触媒の製造過程で、有機物を含む原料に対し、焼成温度と保持時間が特定された第1工程と第2工程の焼成を行う。 - 特許庁

In a reflowing process, the PH_3 gas is supplied onto the Si wafer W while the Si wafer where the BPSG film is formed is heated in the chamber 4 at specific temperature.例文帳に追加

リフロー工程においては、BPSG膜が成膜されたSiウェハWをチャンバ4内にて所定温度に加熱すと同時に、PH_3ガスをSiウェハW上に供給する。 - 特許庁

To provide a toner which is favorably used in a magnetic brush development system and maintains excellent printing quality for a long time in various temperature/humidity environments, and a process for toner preparation.例文帳に追加

磁気ブラシ現像システムに有利に用いられ、多岐にわたる温度・湿度環境の下で長時間優れた印刷品質のトナー及びトナー調整プロセスを提供する。 - 特許庁

例文

A material of the fitting part socket 15 attached on the nut runner device 11 is chrome molybdenum steel, and a process for thermal processing is made by carbonitriding quenching and nitriding annealing (high temperature tempering) after carburizing.例文帳に追加

ナットランナ装置11に装着された嵌合部ソケット15の、 材質をクロムモリブデン鋼とし、 熱処理の工程を、浸炭後、浸炭窒化焼入れ、窒化焼戻し(高温戻し)とする。 - 特許庁




  
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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
  
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