「process temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

In the temperature control, food insertion detection and temperature compensation process control by a control circuit, the control circuit detects food insertion via the load insertion detection temperature and the duration of 10 sec when food is put in a cooking container (time t3).例文帳に追加

図１には、制御回路による温度制御、食品投入検知、温度補償行程制御の様子が示されており、てんぷら調理での温度制御時に、制御回路は、調理容器に食品が入れられたとき（時点ｔ３）、負荷投入検知温度と「１０秒」の継続時間により食品投入を検知する。 - 特許庁

An electronic control device executes an increasing process for increasing the quantity of lubricating oil supplied to the engine sliding part by increasing the delivery pressure of the oil pump when the oil temperature THO of lubricating oil in the oil pan detected with an oil temperature sensor is less than prescribed temperature α.例文帳に追加

電子制御装置は、油温センサから検出されるオイルパンの潤滑油の油温ＴＨＯが所定温度α未満であるときに、オイルポンプの吐出圧を増大させることによって、機関摺動部に供給する潤滑油の量を増大させる増大処理を実行する油量増大制御を行う。 - 特許庁

A warm water feed temperature Tjin before circulating a jacket, a discharge temperature Tjout after the circulation, a warm water flow rate Fw for circulating a feed pipe and a temperature Tc in a tank which are parameters necessary for determining cleaning timing are measured in a first heating step of a polymer synthesis process and input to an arithmetic processing part.例文帳に追加

清掃タイミング決定するのに必要なパラメータであるジャケットを循環する前の温水の供給温度Ｔjin、循環後の排出温度Ｔjout、供給管を循環する温水の流量Ｆw、および槽内の温度Ｔcとがポリマー合成過程の第１昇温過程で測定されて演算処理部に入力される。 - 特許庁

The image forming apparatus includes a temperature detecting means 101 detecting temperature in an apparatus, nonvolatile memories 104 to 107 provided in exchange parts 108 to 111 attached to be exchangeable, a control means 120 executing an erasing process by estimating erasing time based on detected temperature by the temperature detecting means 101 when writing data to the nonvolatile memories.例文帳に追加

装置内の温度を検出する温度検出手段１０１と、交換可能に装着される交換部品１０８〜１１１に設けられた不揮発性メモリ１０４〜１０７と、前記不揮発性メモリへのデータ書き込み時に、前記温度検出手段１０１による検出温度に基づいて、イレース時間を推定してイレース処理を実行する制御手段１２０と、を備えている。 - 特許庁

This method further includes a process 106 for determining the clouding limit relative humidity on the basis of the windshield parameter and the temperature difference and a process 108 for determining the possibility of the clouding on the basis of difference between the clouding limit relative humidity and the estimated relative humidity in the cabin.例文帳に追加

この方法はまた、ウインドシールド・パラメーターと温度差に基き曇り限界相対湿度を判定する工程106及び、曇り限界相対湿度と推定された車室相対湿度との差に基き曇り可能性を判定する工程108、を含む。 - 特許庁

To provide such a drying method, in an intermediate drying process at a filling cycle of an active material, that a drying state of a porous sintered substrate is appropriate at finish of the intermediate drying process even if humidity and temperature are fluctuated with time.例文帳に追加

活物質の充填サイクルでの中間乾燥工程において、湿度や温度が経時的に変動しても中間乾燥工程の終了時に多孔性焼結基板の乾燥状態が適切な状態となるような乾燥方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, a high concentration region 16 is formed with higher accuracy because the lattice-to-lattice silicon in the silicon substrate 13 is reduced to control the redistribution of impurity when high temperature heat process is conducted before the process to implant such p-type impurity.例文帳に追加

また、このｐ型不純物を注入する工程の前に高温で熱処理を行うことで、シリコン基板１３内の格子間シリコンが低減して不純物の再分布が抑制されるので、高濃度領域１６が精度良く形成される。 - 特許庁

To provide an enclosure for an image display device less in brightness reduction or life shortening, high in display quality, and sufficient in getter effect, by realizing an adhesion process at a temperature about 400°C or below required at the minimum for a frit adhesion (sealing) process.例文帳に追加

フリット接着（封着）工程に必要な最低およそ４００℃を下回る接着工程を実現し、輝度低下や寿命短縮のより小さい、さらには表示品位が高く、ゲッタ効果も充分な画像形成装置用の外囲器を提供する。 - 特許庁

To provide a production process which enables production of a high- performance, high-density, metal oxide sintered compact target without causing any variation in composition within the produced target, and with a remarkably lower sintering temperature than that used in a conventional similar process, by using a starting material that is homogeneous at a molecular level.例文帳に追加

分子レベルで均一な出発原料を用いることにより、組成ズレがなく、しかも従来法よりも格段に低い焼結温度で高性能の高密度金属酸化物焼結体ターゲットを得ることのできる製法を提供すること。 - 特許庁

An evaluation process performed during operation includes a process for compensating the temperature or current dependency in the sensor components R1, R2 by using two mutually, linearly, independent measurements and appropriate arithmetic operation in an evaluation unit AE.例文帳に追加

動作中に行われる評価工程は、互いに線形に独立している２つの測定と、評価ユニットＡＥでの適切な算術演算とを用いて、センサ構成要素Ｒ１、Ｒ２の温度または電流依存性を補償する工程を含んでいる。 - 特許庁

To achieve reduction in energy cost for substrate processing and simplification in apparatus configuration by making it possible to process a substrate even in no heating at a low temperature of 100°C or lower and to process the substrate without narrowing a range of material selection.例文帳に追加

１００℃以下の低温で無加熱でも基板を処理できるようにして、基板処理する際のエネルギーコストの低減と装置構成の単純化を実現させると共に基板の材料選択の幅を狭めることなく、基板の処理を行う。 - 特許庁

To prevent the occurrence of the peeling, warping, crack, etc. of thin films due to a temperature change such as heating and cooling in a process of manufacturing a solar panel with a large area having high efficiency in photoelectric conversion and excellent economical properties, and eliminate the occurrence of failure in a production process.例文帳に追加

光電気変換効率が高く経済性に優れ、大面積の太陽電池パネルを製作工程における加熱、冷却などの温度変化による薄膜のはがれ、反り、クラックの発生などを防止し、生産工程での不良の発生を無くす。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a process for assembling a heat exchanger by combining respective components and for performing vacuum brazing in a high-temperature vacuum furnace without using any flux; and a process for washing the inside of a tube and a tank by pure water that is equal or more than 70°C or an ethylene glycol liquid.例文帳に追加

各部品を組み合わせて熱交換器を組立て、フラックを用いることなく高温の真空炉内で真空ろう付けする工程と、チューブおよびタンク内を７０℃以上の純水またはエチレングリコール液で洗浄する工程とを具備する。 - 特許庁

A control device 91, when a temperature difference between the first heat radiation part 14 and the second heat radiation part 24 reaches a predetermined value or more, performs either one of a process for prohibiting warm-up facilitation processing and a process for limiting operation of the second pump 23.例文帳に追加

制御装置９１は、第１の放熱部１４と第２の放熱部２４の温度差が所定値以上となった場合に、暖機促進処理を禁止する処理又は第２のポンプ２３の運転を制限する処理のいずれか一方を実行する。 - 特許庁

This invention also includes embodiments for coating at least one substrate with a carbonitride-containing coating by a MT CVD process which includes maintaining a temperature gradient in the reaction chamber during the introduction of the deposition process gas into the reaction chamber.例文帳に追加

また、本発明は、蒸着処理気体を反応室に導入する間、反応室における温度勾配を維持する中温化学蒸着処理によって、少なくとも１つの基体を浸炭窒化物含有コーティングでコーティングする実施の形態も含む。 - 特許庁

The method for forming an extreme UV mirror includes a first process of fixing a temperature controlling mechanism to a mirror and a second process of creating a form on the reflective face of the mirror.例文帳に追加

前記課題を解決するため、ミラーに温度調整機構を固定する第１の工程と、前記第１の行程の後に、前記ミラーの反射面に形状創生加工を施す第２の工程と、を有することを特徴とする極短紫外線ミラー作成方法。 - 特許庁

In a process before isolation of the gate electrodes 10n, 10p by patterning gate electrode material, thermal treatment of high temperature of at least 700°C is made not to perform, so that the interdiffusion of dopant in a process before gate electrode formation is prevented.例文帳に追加

また、ゲート電極材料をパターニングしてゲート電極１０ｎ、１０ｐを分離する以前の工程では、７００℃以上の高温の熱処理を行わないようにすることで、ゲート電極形成前の工程における不純物の相互拡散を防止する。 - 特許庁

To provide a method of forming film which can eliminate a TiN film forming process by thermal CVD method conventionally used for obtaining enough thickness as a barrier layer by using low-temperature processing tungsten film formation process.例文帳に追加

低温のプロセス温度によるタングステン膜の形成工程を用いることで、バリヤ層として十分な膜厚を得るために従来行われた熱ＣＶＤによるＴｉＮ膜の形成工程を省略することが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing dried hijiki comprises a freezing process of freezing hydrated hijiki to freeze water content permeating in tissues of the hijiki to be formed into ice, and a drying process of sublimating the frozen ice at ice temperature so as to be dried.例文帳に追加

ひじきが含水している状態で冷凍し組織内に浸透している水分を凍結して氷とする冷凍工程と、前記凍結した氷を氷温下で昇華させることにより乾燥するようにした乾燥工程とを有する。 - 特許庁

A process for forming a sheet-like molding 5 wherein a ceramic slurry containing a ceramic powder, a binder and a solvent is applied onto a carrier film 3 and a process for rolling by heating the sheet-like molding 5 at a temperature of ≤ a softening point of the binder, are provided.例文帳に追加

キャリアフィルム３上に、セラミック粉末、バインダおよび溶媒を含有するセラミックスラリを塗布し、シート状成形体５を形成する工程と、該シート状成形体５を、前記バインダの軟化点以下の温度で加熱圧延する工程とを具備する。 - 特許庁

The brazing and soldering of the ceramic board and the base member, and that of the electrodes can be simultaneously performed by one brazing and soldering work, and a temperature rising process, that is, the brazing and soldering process is performed only once, so that the checking and cracking of the ceramic board can be surely prevented.例文帳に追加

また、１回のろう接でセラミック基板とベース部材とのろう接及び電極同士のろう接が同時に行え、昇温工程、即ちろう接工程を１回にすることができ、セラミック基板の割れやクラックを確実に防止できる。 - 特許庁

The third process is started after the adhesive has burst control viscosity of not causing a burst of an adhesive area by air expansion due to the temperature rise in the third process of a remaining void in the adhesive area by filling the adhesive.例文帳に追加

接着剤の充填による接着エリア内の残存空隙が、第３工程での温度上昇による空気膨張によって前記接着エリアに破裂が発生しない破裂抑制粘度に接着剤がなってから、第３工程を開始する。 - 特許庁

When a series of processes are conducted to a substrate W in the substrate processing equipment, process history data composed of items such as a carrier time, a process time, the temperature of a plate, the number of revolution of a spin motor, the flow rate of a liquid or the like, are gained previously at every substrate W.例文帳に追加

基板処理装置にて基板Ｗに一連の処理を行っているときに、搬送時間、処理時間、プレート温度、スピンモータの回転数、液の流量等の項目からなる処理履歴データを基板Ｗごとに取得しておく。 - 特許庁

To prevent an imprint phenomenon, which makes writing of data opposite to those written before carding process difficult, and a loss of data accompanying a retention characteristic in the carding process accompanied with high temperature treatment of an IC card carrying a ferroelectric memory.例文帳に追加

強誘電体メモリを搭載したＩＣカードの高温処理を伴うカード化工程において、カード化工程前に書き込んだデータと逆のデータを書き込むことが困難になるインプリント現象やリテンション特性に伴うデータの消失が発生する。 - 特許庁

In a method of manufacturing an SIMOX wafer including a process of implanting oxygen ions into the silicon wafer and a process of annealing the silicon wafer into which the oxygen ions have been implanted, the amount of implanted oxygen ions is adjusted in accordance with temperature unevenness of the silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウェーハに酸素イオンを注入する工程と、酸素イオン注入したシリコンウェーハをアニールする工程とを有するＳＩＭＯＸウェーハの製造方法において、酸素イオン注入量を、シリコンウェーハの温度むらに応じて調整する。 - 特許庁

Preferably, the exothermic process is to be performed in multiple stages in order to provided still uniform and/or controllable heat generation and heat exchange as well as to generate uniform and/or controllable temperature profile in the endothermic reaction process.例文帳に追加

好ましくは、発熱プロセスは、更に均一な及び／又は制御可能な熱生成及び熱交換を提供するため、並びに、吸熱反応プロセス内で、均一な及び／又は制御可能な温度プロフィールを生成するため、多段階で実行される。 - 特許庁

To provide a film forming method capable of dispensing with a process of forming a TiN film by a hot CVD method that is usually utilized for obtaining a barrier layer of enough thickness because a tungsten film forming process of low processing temperature is used.例文帳に追加

低温のプロセス温度によるタングステン膜の形成工程を用いることで、バリヤ層として十分な膜厚を得るために従来行われた熱ＣＶＤによるＴｉＮ膜の形成工程を省略することが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

Meanwhile, in the thermal caulking process, by integrating the temperature of the terminal, the calorie input in a coating film wire 3 is obtained, and the process is correctly controlled by monitoring whether or not the integrated value of the calorie reaches the range of the preset value.例文帳に追加

一方、熱かしめプロセスでは、ターミナル温度を積算することで、被膜電線３に投入される熱量を求め、この熱量の積算値が予め設定した設定値の範囲内に達したか否かを監視することで、プロセスを正確に管理する。 - 特許庁

To provide a heat accumulating process including an active heat-dissipation regulating process which stabilizes the heat-dissipation initiation temperature for easy designing of a heat accumulating device using a latent-heat heat accumulator for moderate high temperatures, and a heat accumulating device using this.例文帳に追加

中高温用潜熱蓄熱材を用いる蓄熱装置において、装置設計が容易となるように放熱開始温度を安定化させるための能動的な放熱制御方法を含む蓄熱方法及びそれを用いた蓄熱装置の提供。 - 特許庁

To provide an operation control method for a washing-drying machine wherein the time for the completion of a drying process can be estimated, a fabric damage of laundry can be prevented from occurring by preventing the inside of a tank from becoming a high temperature even when a drying process is advanced, and of which the usability is favorable.例文帳に追加

乾燥行程が終了する時間を予測でき、乾燥行程が進行しても槽内が高温になることを防止して洗濯物の布傷みを防ぐことができ、使い勝手のよい洗濯乾燥機の運転制御方法を得る。 - 特許庁

The combination of a process pressure below about 1 Torr with a hydrogen flow rate up to about 3 standard later for minute (SLM) has been found to remove substantially all oxygen contamination from the surface of the silicon wafer at a process temperature less than about 800°C without the use of a reactive gas.例文帳に追加

約１トール以下の処理圧力と約３ＳＬＭまでの水素流量の組合せによって、反応性ガスを用いずに約８００未満の処理温度でシリコンウエハ表面から酸素汚染を実質的にすべて除去されることが分かった。 - 特許庁

The barrier layers 131, 133 containing the material having the melting point higher than the glass transition temperature of the insulation substrate 101 is formed to cover the metal layers 111, 131, thereby preventing the diffusion in a high-temperature process and preventing deterioration of the metal wiring.例文帳に追加

絶縁基板１０１のガラス転移点より高い融点を有する物質を含む障壁膜１３１、１３３を金属膜１１１、１３１を覆うように形成することで、高温プロセスでの拡散を防止し、金属配線の劣化を防止する。 - 特許庁

The circuit board 11 formed in the thickness of 230 μm that is manufactured using a cyanate system prepreg 12 formed by impregnating a resin composition into a glass cloth is heated, before the reflow process, under the temperature higher than the glass transition temperature after hardening of the resin composition.例文帳に追加

ガラスクロスに樹脂組成物を含浸させたシアネート系のプリプレグ１２を用いて製造された厚さ２３０μｍの回路基板１１を、リフロ処理の前に上記樹脂組成部の硬化後のガラス転移温度より高い温度で加熱する。 - 特許庁

An experiment by the present inventors discloses that when the thick film resistor 6 is burnt at a higher temperature than the glass insulating layer contacting with the resistor 6, a resistance value fluctuation caused by a high temperature process of burning glass insulating layers 2 to 4 thereafter can be reduced.例文帳に追加

本発明者らの実験によれば、厚膜抵抗６をそれに接するガラス絶縁層２よりも高温で焼成すれば、その後のガラス絶縁層２〜４の焼成などの高温工程による抵抗値変動を低減できることがわかった。 - 特許庁

To provide an image heating device capable of starting a heating process on a recording material by applying a large current to a first rotor and raising a temperature to a necessary temperature state in a shorter period than a conventionally required time without causing a power supply line to generate noise.例文帳に追加

電源ラインにノイズを発生させることなく、第一回転体に大きな電流を流して従来よりも短時間で必要な温度状態に昇温させて記録材の加熱処理を開始できる像加熱装置を提供する。 - 特許庁

The melting point of solder of Sn/Pb forming a solder bump 76 has a temperature range from 160 to 200°C, so that solder bump alloy is softened and melted to solder an IC chip 90 when a reflow process is carried out at a temperature of 200 to 220°C.例文帳に追加

半田バンプ７６を構成しているＳｎ／Ｐｂからなる半田の融点は、１６０〜２００℃の間であり、リフロー温度２００〜２２０℃の間で行えば、半田バンプ合金は、軟化、溶解してＩＣチップ９０との接続させることができる。 - 特許庁

To provide a conductive member having a stable conductive characteristic in various kinds of the environment (a high temperature and a high humidity to a low temperature and a low humidity), a process cartridge, and an electrophotography using the conductive member, in the electrophotography of high resolution and high speed.例文帳に追加

高解像度や高速の電子写真装置において、種々の環境（高温高湿から低温低湿）においても安定した導電特性を有する導電性部材、それを用いたプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁

In this inflation process S4, the tire wound body B is preheated to a uniform temperature T0 within a range of 30-50° by sending high temperature operation air X into the tire wound body B before inflated using the operation air X.例文帳に追加

インフレート工程Ｓ４は、前記タイヤ巻回体Ｂ内に、高温の作動気体Ｘを送気することにより、前記タイヤ巻回体Ｂを３０〜５０゜Ｃの範囲で均一温度Ｔ０に予熱加温したのち、該作動気体Ｘを用いてインフレートする。 - 特許庁

In the liquid exchanging process for exchanging the processing liquid stored in the processing tank 10 to the sulfuric acid from the pure water and adjusting the liquid temperature of the sulfuric acid after exchange to the predetermined temperature; the pure water is exhausted first from the processing tank 10 and an external tank 20.例文帳に追加

処理槽１０に貯留される処理液を、純水から硫酸に交換するとともに、交換後の硫酸の液温を所定温度に温調する液交換処理において、まず、処理槽１０および外槽２０から純水を排出する。 - 特許庁

A laser printer 1 connected to a power source at T0 timing is made to be ready mode when fixing temperature becomes standby temperature (T1 timing) or after the printing process (T3, T6 and T9 timing) and a subsidiary fan and a power source fan are driven at a medium rotational speed.例文帳に追加

Ｔ０タイミングに電源が投入されたレーザプリンタ１は、定着温度が待機温度となった場合（Ｔ１タイミング）、または印刷処理後（Ｔ３，Ｔ６，Ｔ９タイミング）にはレディモードとなり、サブファン、電源ファンが中速回転駆動される。 - 特許庁

To provide a CMP polishing liquid which can inhibit aggregation and sedimentation of abrasive grains significantly when compared with prior art, even when it is kept not at low temperature but at about the room temperature, and can accommodate the process or cost reduction flexibly while having high storage convenience.例文帳に追加

低温ではなく室温程度で保管した場合でも、従来よりも砥粒の凝集・沈降を大幅に抑制することができ、保存利便性が高く、プロセスやコスト低減に柔軟に対応できるＣＭＰ研磨液を提供する。 - 特許庁

Concretely, the hot board HB is provided with a temperature rise controlling means to control a temperature rise of the first and the second lead wire drawing-out parts and a melting process is conducted while cooling down the first and the second lead wire drawing-out parts 55, 56.例文帳に追加

具体的には、熱板ＨＢは、第１、第２のリード線引出部５５、５６の温度上昇を抑制する温度上昇抑制手段を具備しており、第１、第２のリード線引出部５５、５６を冷却等しながら、溶融工程が行われる。 - 特許庁

To set time for a cooling process in accordance with the amount of clothing in a rotary drum and cool the temperature of clothing to a right temperature at the time of end of operation in a clothing dryer drying the clothing by supplying hot air to the rotary drum.例文帳に追加

熱風を回転ドラム内に供給して衣類を乾燥する衣類乾燥機において、回転ドラム内の衣類の量に応じて冷却行程の時間設定を行い、運転終了時での衣類の温度を適度な温度まで冷却する。 - 特許庁

In addition, it has a softening temperature lower than that of conventional lead silicate glass, so that the glazing temperature can be lowered to 800-950°C, and oxidation in a central electrode 3 or a terminal metal fitting 13 hardly occurs even when the glazing is carried out simultaneously with a glass sealing process.例文帳に追加

また、従来の鉛ケイ酸塩ガラス系の釉薬よりも軟化温度が低く、釉焼温度を８００〜９５０℃と低温化でき、ガラスシール工程と同時に釉焼を行う場合も、中心電極３や端子金具１３等に酸化が生じにくい。 - 特許庁

The hot water supply system further includes a first sterilizing process control means 34 heating the hot water within the hot water storage tank 10 by the heat pump 9 when a state where the temperature of the hot water within the hot water storage tank 10 is less than a sterilization necessity determination temperature is continued for sterilization necessity determination time or longer.例文帳に追加

貯湯タンク１０の湯水が滅菌要否判定温度未満である状態が滅菌要否判定時間以上継続したとき、ヒートポンプ９で貯湯タンク１０の湯水を加熱する第１の滅菌処理制御手段３４を設ける。 - 特許庁