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process temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5102件
The method to repair damaged components of the turbine consists of three processes, the first process to cover the surface of any turbine component including a damaged part with a preliminary molding of solder, the second process to fix the preliminary molding of solder to the surface, and the third process to heat the turbine component to the proper temperature for formation of a brazed joint between the solder and the turbine component.例文帳に追加
本方法は、損傷部分を含むタービン部品の表面にろう材の予備成形体をかぶせる段階と、ろう材の予備成形体を表面に固定する段階と、ろう材とタービン部品との間にろう接継手を形成するのに有効な温度まで該タービン部品を加熱する段階とを含む。 - 特許庁
A process for eliminating the oxide film formed on the surface of the silicon substrate 101, a process for forming the silicon nitride layer 102 on the surface of the silicon substrate 101 in temperature of 200-400°C by using an electronic layer vapor deposition method, and a process for forming the high dielectric film 103 on the silicon nitride layer 102, are also installed.例文帳に追加
また、シリコン基板101の表面に形成された酸化膜を除去する工程と、電子層蒸着法を用い200℃〜400℃の温度においてシリコン基板101の表面にシリコン窒化層102を形成する工程と、シリコン窒化層102の上に高誘電体膜103を形成する工程とを備えている。 - 特許庁
The manufacturing method has a process of cleaning the chlorine waste plastics in a cleaning solvent, a process of heating and fusing the cleaned chlorine waste plastics at a temperature equal to or lower than 190°C, and a process of standing to cool the fused chlorine waste plastics, and solidifying the same into block-like, pellet-like or powder-like material.例文帳に追加
本製造方法は、洗浄液で塩素系廃プラスチックを洗浄する工程と、洗浄した塩素系廃プラスチックを190℃以下の温度で加熱、溶融する工程と、溶融した塩素系廃プラスチックを放冷し、ブロック状、ペレット状又はパウダー状に固形物化する工程とを備えている。 - 特許庁
The resist pattern is formed by using at least a pattern for forming a resist layer 4 on a base material 2 by applying the non-chemical amplification type resist, a process for exposing the resist layer 4, a process for baking the exposed base material 2 at 90-130°C temperature, and a process for developing the baked base material 2.例文帳に追加
非化学増幅型レジストを塗布することによって基材2にレジスト層4を形成する工程と、レジスト層4を露光する工程と、露光を行った基材2を90℃以上130℃以下の温度でベークする工程と、ベークを行った基材2を現像する工程とを少なくとも含んでレジストパターンを形成する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a multilayer substrate, wherein a thin alumina type green sheet is calcinated without bowing, fractures such, as cracks and broken portions will not be easily caused during handling, in a forming process of a conductor film, a lamination process with the green sheet for an LTCC, and a low-temperature calcination process, and the production yield is improved.例文帳に追加
薄いアルミナ系グリーンシートを反りなく焼成し、ハンドリング中や、導体膜の形成工程やLTCC用グリーンシートとの積層工程および低温焼成工程に際して、割れや欠けなどの欠損を生じにくく、製造歩留まりを向上した多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a thin film transistor in which high-temperature treatment is possible and a manufacturing process is simplified, and the thin film transistor manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加
高温処理が可能であり、製造工程が簡略化された薄膜トランジスタの製造方法及び前記製造方法により製造された薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁
To provide a heat-resistant austenitic stainless steel having high-temperature strength and sag-resistance capable of resisting a working environment of ≥550°C as well as being low in cost, and a production process thereof.例文帳に追加
550℃以上の使用環境に耐え得る高温強度と耐へたり性を有し、かつ安価な耐熱オーステナイト系ステンレス鋼及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
In the causticization reaction of a second process, the addition rate of green liquor is adjusted to 0.02-0.4 cc (green liquor)/min/g (a reduced value of quicklime) and the reaction temperature is 25-75°C.例文帳に追加
第2段工程の苛性化反応において、緑液の添加速度を0.02〜0.4cc(緑液)/min/g(生石灰換算値)、反応温度を25〜75℃で行う。 - 特許庁
The buried layer 4 is formed of the material, whose melting point is higher than a processing temperature in a thermal process carried out for the board 1 in which the alignment mark 10 is provided.例文帳に追加
埋め込み層4は、位置合わせマーク10が設けられた基板1に対して行われる熱工程でのプロセス温度よりも高い融点を有する材料からなる。 - 特許庁
The temperature of a forming solution in a process of forming a formed film on the anode is set over the freezing point of the forming solution but about 40°C or less (more preferably about 25°C or less).例文帳に追加
陽極体に化成皮膜を形成する工程における化成液の温度を、該化成液の凝固点以上、約40℃以下(更に好ましくは約25℃以下)に設定する。 - 特許庁
To provide a lubricant, an image formation apparatus and a process cartridge capable of outputting an image stably for a long period of time, without inducing image blur, under a high temperature-high humidity environment.例文帳に追加
高温高湿環境下、画像ボケを発生することなく、長期間安定して画像を出力できる潤滑剤、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
To provide a conductive paste excellent in adhesion with an ITO film, and capable of obtaining favorable conductivity in a conductive pattern formed by a low-temperature process.例文帳に追加
ITOフィルムとの密着性に優れ、低温プロセスにより形成された導電パターンにおいて、良好な導電性を得ることが可能な導電性ペーストを提供する。 - 特許庁
The preferable peel strength in this case can be obtained by an optimal temperature and an exposure time given to sheath material to be hardened by a controlled precision sintering process.例文帳に追加
この場合の好ましい剥離強度は、制御された精密焼結プロセスによって硬化される鎧装材料に与えられる最適な温度および曝露時間により得られる。 - 特許庁
To prevent a process temperature from being restricted, and at the same time to improve characteristics such as mobility when manufacturing a thin-film transistor as the switching element of a liquid crystal display panel.例文帳に追加
液晶表示パネルのスイッチング素子としての薄膜トランジスタの製造に際し、プロセス温度に制約を受けないようにするとともに、移動度等の特性の向上を図る。 - 特許庁
To suppress transfer failure in subsequent recording cycles by reducing temperature differences that are different in locations of an intermediate transfer medium generated in a heating process.例文帳に追加
加熱プロセスで生じる中間転写体の場所によって異なる温度差を減らすことで、以降の記録サイクルにおいて転写不良が発生することを抑制する。 - 特許庁
In the temperature descending process, the zigzag defect 15c can be efficiently decreased by an interaction of an alignment regulating force with a peripheral normal part of the zigzag defect 15c.例文帳に追加
この降温過程で、ジグザグ欠陥部15cの周辺正常部との配向規制力の相互作用によりジグザグ欠陥部15cを効率良く減少させることができる。 - 特許庁
To provide a wireless device which can optimize performance even when process fluctuation or temperature fluctuation happens without having a separate circuit such as an oscillator for detection.例文帳に追加
検出用の発振器等の回路を別途設けることなく、プロセス変動または温度変動が発生した場合にも性能を最適化しうる無線装置を提供する。 - 特許庁
To provide a thin-film semiconductor capable of forming a low resistance source-drain structure applicable for a miniaturized TFT by a low temperature process, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
微細化TFTに適用が可能な低抵抗のソース・ドレイン構造を低温プロセスで形成可能な薄膜半導体及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
Thus, a preliminary heating time can be shortened and the immersion in the protective paint 5 can be performed during a heating process, thereby attaining extremely easy temperature control and high painting quality.例文帳に追加
これにより予備加熱時間が短縮されるとともに、加熱しながら保護塗料5に浸漬できるため温度管理が非常に簡易で、塗装品質の向上も図れる。 - 特許庁
In a process S107, the growth of a protection layer 27a covering the main face of the well layer 25a is started at the temperature T_W immediately after the completion of growth of the well layer 25a.例文帳に追加
工程S107では、井戸層25aの成長完了の直後に、温度T_Wで、井戸層25aの主面を覆う保護層27aの成長を開始する。 - 特許庁
To provide a refractory heat-insulating material which exhibits excellent heat-insulating properties even in a ≥1,000°C high temperature region and has sufficiently high strength and to provide a production process of the refractory heat-insulating material.例文帳に追加
1000℃以上の高温域においても優れた断熱性を発現するとともに、十分に強度の大きい耐火断熱材とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid level detection device and its manufacturing method capable of suppressing a characteristic change caused by exposure of a magnetoelectric conversion element to a high temperature in a manufacturing process.例文帳に追加
製造工程において磁電変換素子が高温に曝され特性が変化することを抑制可能な液面検出装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
The Tr_2 and the Tr_1 have a same kind, size, structure, production process or the like, and is configured such that OFF leak current having the same temperature dependence and the same magnitude flows.例文帳に追加
Tr_2とTr_1とは、種類、サイズ、構造、製造プロセス等を共通とし、同じ温度依存性かつ同じ大きさのオフリーク電流が流れるように構成される。 - 特許庁
In a material supply process of the flow-soldering method of packaging an electronic component on a substrate by the use of a soldering material, a substrate is heated to a higher temperature.例文帳に追加
はんだ材料を用いて電子部品を基板に実装するフローはんだ付け方法のはんだ材料供給工程において、基板温度をより高温にする。 - 特許庁
The cooking oil 7 of high temperature is pooled in the pooling vessel 6, and the fed frozen food materials are thawed with the cooking oil and cooked in frying process.例文帳に追加
貯留槽6内には、高温度の食用油7が貯留され、投入された冷凍食品材料を食用油によって解凍し、油揚げ加工調理する。 - 特許庁
A continuous dual roll type kneading machine is used in the second kneading process and the mixture is diluted and kneaded by the machine at a rather low temperature and high viscosity.例文帳に追加
この第2混練工程では連続式2本ロール型混練機が用いられ、この連続式2本ロール型混練機により、比較的低温かつ高粘度で希釈混練される。 - 特許庁
In a continuous temperature process, first the resin is cured so that the fibrous tissue (14) reaches a state with a dimensional stability and the material in the meltable core is melted out from the core (2).例文帳に追加
連続温度プロセス中に、まず繊維組織(14)が寸法安定性のある状態に到達するように、樹脂が硬化され、次いで可溶コアの材料がコア(2)から溶け出す。 - 特許庁
According to control information received from a control bit terminal 24, the resistance of the output buffer is regulated so as to correct the fluctuation of surrounding temperature, operating voltage and process.例文帳に追加
制御ビット端子24から受信される制御情報によって、出力バッファの抵抗が、周囲温度、動作電圧およびプロセスの変動を補正するように調整される。 - 特許庁
The liquid-phase latent heat accumulating material 5 mixed with the latent heat accumulating material 5 in the solid-phase state is subjected to a phase change from a liquid phase into a solid phase in the process of temperature drop.例文帳に追加
固相状態の潜熱蓄熱材(5)と混在する液相の潜熱蓄熱材(5)は、温度が低下する過程で液相から固相への相変化がなされる。 - 特許庁
Especially, for this protective film 14, it is suitable to use a chemical vapor phase deposition method, and forming conditions (temperature, raw material supply amount) are changed during the process of forming.例文帳に追加
特に、この保護膜14は化学気相堆積法を用いることが好適であり、その際の形成条件(温度、原料供給量)を形成途中で変更する。 - 特許庁
To provide a semiconductor memory device in which a bit line sense enable-signal can be generated to be immune from process changes, voltage fluctuations temperature fluctuations or the like without increasing layout area.例文帳に追加
レイアウト面積を増加させないで、工程、電圧、及び温度等の変化に鈍感にビットラインセンスイネーブル信号を発生しうる半導体メモリ装置を提供する。 - 特許庁
To provide a circuit capable of generating a stable delay signal using an inverter chain regardless of changes in process, voltage and temperature, and memory system including the same.例文帳に追加
インバータチェーンを利用して工程、電圧及び温度変化にかかわらず安定的な遅延信号を生成することができる回路及びそれを含んだメモリシステムを提供する。 - 特許庁
To eliminate the need to take into account PVT worst (worst conditions of process, voltage and temperature) by performing data transfer at a highest rate, matching the arithmetic speed of a redundant combinational logic circuit.例文帳に追加
データ転送が冗長組合せ論理回路の演算速度に合致した最速で行われるようにし、PVTワーストを考慮する必要がないようにする。 - 特許庁
To reduce a variation in rise delay even by a source voltage, a temperature, a process variation, etc., and to reduce the difference between the rise delay and a fall delay.例文帳に追加
電源電圧、温度、プロセス変動等によっても立上り遅延のバラツキが小さくなり、且つ、立上り遅延と立下り遅延の差も小さくなるようにすること。 - 特許庁
To provide a heat processing device for a rod lens, the device subjecting a rod lens to heat process in a short time, wherein the rod lens is less likely to cause a conjugation length change even used in a high temperature environment.例文帳に追加
高温環境下で使用しても共役長変化が起こりにくいロッドレンズを短時間に熱処理が可能なロッドレンズの熱処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a resin heat exchanger and a method of manufacturing the resin heat exchanger capable of efficiently and accurately carrying out temperature control of a process fluid.例文帳に追加
高効率且つ高精度に、プロセス流体を温度制御できる樹脂製熱交換器及び樹脂製熱交換器の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
Since ignition timing control by a knocking control process is allowed after when a cooling water temperature is ≥60°C before updating of the knocking determination threshold J(i), it can be started at an early stage during warming up.例文帳に追加
ノッキング制御処理による点火時期制御はノック判定閾値J(i)更新前にて冷却水温≧60℃以後に許可されるため暖機中の早期に開始できる。 - 特許庁
To provide a process for producing a large scale of sintered compact or a sintered material having a relatively small dimensional change during the sintering at a relatively low temperature.例文帳に追加
大型の焼結体または焼成時の寸法変化が比較的に少ない焼結材料を、比較的に低温で生産するための新たな方法を提供する。 - 特許庁
The discharging capacity of the nonaqueous electrolyte battery after a second cycle is more increased when heated in a high temperature at a reflow welding process than that when it is not heated.例文帳に追加
本発明の非水系電解液電池は、リフローハンダ付け工程で高温度に加熱されると、加熱されない場合より2サイクル目以降の放電容量が増加する。 - 特許庁
To provide a substrate cooling device capable of providing excellent cooling efficiency, and capable of maintaining in-plane temperature distribution uniformity of a circular substrate in the process of cooling.例文帳に追加
良好な冷却効率が得られ、しかも冷却中の円形基板の面内温度分布均一性を維持することができる基板冷却装置を提供する。 - 特許庁
To reduce influence caused by dispersion in products, and to increase a variation (sensitivity) of a voltage with respect to a temperature, even in production by a CMOS semiconductor production process.例文帳に追加
CMOS半導体製造プロセスによって製造した場合でも、製造のバラツキの影響が小さく、かつ温度に対する電圧の変化量(感度)を大きくする。 - 特許庁
To provide a current correction circuit for a current source circuit, capable of reducing a circuit area and generating a reference current stable against temperature change and process variation.例文帳に追加
回路面積を削減し、かつ温度変化及びプロセスバラツキに対して安定な基準電流を生成できる、電流源回路のための電流補正回路を提供する。 - 特許庁
To provide high-temperature and UV imprint lithography, by applying a process for imprinting a pattern-formed template to a medium that can be imprinted in a state capable flowing.例文帳に追加
パターン形成したテンプレートを流動可能な状態のインプリント可能媒体にインプリントするプロセスを適用した、高温およびUVインプリントリソグラフィを提供する。 - 特許庁
To provide a method capable of providing a silsesquioxane-based insulation film obtainable in a low-temperature process, high in electrical insulation quality, having an excellent surface texture.例文帳に追加
低温プロセスで得ることができ、電気的絶縁性が高く、表面性状が良好なシルセスキオキサン系絶縁膜を得ることを可能とする方法を提供する。 - 特許庁
To suppress remaining of a component on the surface of the substrate and prevent subduction in a high temperature process when the substrate is removed from a support body after the substrate is adhered to the support body.例文帳に追加
基板を支持体に接着させた後、剥離する際に、基板の表面に成分が残存することを抑制し、かつ高温プロセスにおける沈み込みを防止する。 - 特許庁
A technology for weighing raw material particles applied in molding process of a fuel compact including nuclear fuel material among processes for manufacturing fuel for high-temperature gas-cooled reactors is provided.例文帳に追加
高温ガス炉用燃料を製造するための工程のうちの核燃料物質を含む燃料コンパクトの成形工程で実施される原料粒子の秤量技術である。 - 特許庁
In relation to the process temperature, a misty state medium having lubricating and small cooling properties is supplied between the peripheral surface 52, the cutting face 13 and the end cutting face 17.例文帳に追加
加工温度では、周面52とすくい面13及び前切れ面17との間に潤滑性及び小さな冷却性を持つ霧状の媒体を供給した。 - 特許庁
To reduce a manufacturing cost and contrive the reduced scale of the whole body of a device by improving the productivity of the continuously cooling process of high-temperature granular body.例文帳に追加
高温の粉粒体を連続的に冷却するプロセスの生産性を向上させ、製造コストの低減化、装置全体のコンパクト化を図ること等を目的とする。 - 特許庁
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