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process temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5102件
This electric rice cooker includes a pot for putting material to be cooked; a heating means for the material to be cooked; a temperature detecting means for the inside of the pot; and a control device for inputting the output from the temperature detecting means to perform a rice cooking process.例文帳に追加
電気炊飯器は、炊飯物を入れる鍋と、炊飯物の加熱手段と、鍋内の温度検出手段と、温度検出手段からの出力を入力して炊飯工程を実行する制御装置とを備えている。 - 特許庁
The method for storing farm crops comprises the following process: a harvested farm crop 1B is washed and then soaked in water; and then the soaked farm crop is subjected to blanching 3 by magnetron radiation 3A to excite and heat the inner temperature of the farm crops to 70-80°C to effect low-temperature storage.例文帳に追加
収穫した農作物1Bを洗浄のうえ水漬し、而してマグネトロン放射3Aによりその内部温度を70乃至80℃に励起加熱せしめてブランチング3を施し、低温保存する農作物の保存方法。 - 特許庁
The stabilization treatment method of selenium has a solid-liquid contact process of bringing the solid material containing selenium into contact with blast furnace blowing water in the presence of oxygen while managing the temperature of the blast furnace blowing water to be a temperature within a range of 15-80°C.例文帳に追加
セレンを含有する固体物質と、高炉吹製水とを、前記高炉吹製水の温度を15〜80℃の範囲内の温度に管理しながら、酸素存在下で接触させる固液接触工程を有する、セレンの安定化処理方法。 - 特許庁
To improve process quality and yield by suppressing heat radiation from a furnace port in the processing furnace, and improving uniformity of temperature distribution within the substrate surface simultaneously with increase of uniform temperature length in the processing chamber in the substrate processing apparatus.例文帳に追加
基板処理装置に於いて、処理炉に於ける炉口部からの放熱を抑制し、処理室の均熱長を増大させると共に基板面内の温度分布の均一性を向上して、処理品質、歩留りの向上を図る。 - 特許庁
(B) This is the step of transporting a molding precursor to a second heating step (C), and a conveyance step 2 in which each of the surface temperature and the center temperature of the molding precursor in-process satisfies the particular relationship.例文帳に追加
(B)成形品前駆体を第二の加熱工程(C)に搬送する工程であって、かかる工程中における成形品前駆体の表面温度および中心温度のそれぞれが、特定の関係を満たす搬送工程2。 - 特許庁
To provide a substrate treatment system capable of detecting an abnormality of the chip on a substrate in a stage before the inspection process of the substrate is performed in-line by measuring the temperature or temperature distribution of the substrate accompanied by operation or the chip on the substrate during treatment.例文帳に追加
動作を伴う基板や処理中の基板上のチップの温度または温度分布をインラインで計測して、基板の検査工程を行う前の段階で基板上のチップの異常を検出できる基板処理システムを提供する。 - 特許庁
To provide a reliable developing roller, capable of simultaneously suppressing fog in a high-temperature and humidity environment and blotch in a low-temperature and humidity environment, and an electrophotographic process cartridge and an electrophotographic image forming apparatus.例文帳に追加
高温高湿環境下のかぶりの発生と低温低湿環境下のブロッチの発生とを同時に抑制可能な、信頼性の高い現像ローラ並びに電子写真プロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置を提供する。 - 特許庁
When the temperature of the outlet of the drying cooler 15 is elevated at the target temperature 12°C or higher in a recovering and drying process, rotating speed of a blower motor 6 for circulating air is decreased to decrease amount of the air per unit time.例文帳に追加
回収乾燥行程において、乾燥クーラ15の出口温度が目標温度である12℃以上に上昇した場合には、空気を循環させるブロアモータ6の回転速度を落として単位時間当りの風量を減らす。 - 特許庁
To provide a method for producing a silicon single crystal for improving a success rate of forming a neck portion and achieving higher efficiency of the process by appropriately controlling a melt temperature upon forming a neck to a temperature suitable for forming a neck portion.例文帳に追加
ネック形成時の融液温度を、ネック部形成に適した温度となるよう適切に制御することによって、ネック部形成の成功率を向上させ、プロセスの効率化を図ったシリコン単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a means for preventing a temperature sensor from being detached from a wafer in order to accurately measure a temperature resulting from heating the wafer in heat treatment in a process of manufacturing the wafer used as a substrate for a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加
本発明は半導体集積回路の基板とするウェハーの製造工程の加熱処理に際してウェハーの被加熱による温度を正確に測定するため、温度センサがウェハーから離脱することを防止する手段を提案する。 - 特許庁
To provide a catalyst module structure of a high temperature denitrification apparatus which can prevent buckling in the outer plate of a cylindrical unit in the catalyst module due to drastic temperature changes on initiating the process and which can prevent damages in the catalyst.例文帳に追加
起動時等に急激な温度変化に伴って触媒モジュールにおける筒状ユニットの外板が座屈することを回避し得、触媒の破損を防止し得る高温脱硝装置の触媒モジュール構造を提供する。 - 特許庁
In the firing process, degreasing of the ceramic compact is firstly performed, and thereafter, a temperature of the ceramic compact is increased up to "a second temperature at which the metallic wire is softened and the ceramic compact is fired" at a second heating-up rate.例文帳に追加
この焼成工程においては、先ず、セラミック成形体の脱脂を行い、その後、セラミック成形体の温度を「金属ワイヤが軟化し且つセラミック成形体が焼成する第2温度」まで第2昇温速度にて上昇させる。 - 特許庁
The method includes an adjustment process for adjusting an amplification gain G of a sensor circuit, according to heating temperature Th which is determined from the ratio [RR/RH] between the resistance value RH of a heating element and the resistance value RR of a temperature detecting element.例文帳に追加
発熱素子の抵抗値RHと温度検出素子の抵抗値RRとの比率[RR/RH]から求められる発熱温度Thに応じてセンサ回路の増幅利得Gを調整する調整工程を備える。 - 特許庁
The method for producing dried small sardine comprises raising drying temperature during drying time in a production process of the dried small sardine to a high temperature of ≥50°C so as to inhibit proliferation of heat-resistant spore bacteria to obtain a dried small sardine product having ≤300 pieces/g of the general viable bacteria.例文帳に追加
煮干の製造工程において、乾燥時の乾燥温度を50℃以上の高温にすることで、耐熱性芽胞菌の増殖を抑制し、一般生菌数300個/g以下の煮干製品を得ることができるようになる。 - 特許庁
To provide a method for making a body having a film of high density, high compactness, and high adhesiveness, which is formed from fine particles of a brittle material at room temperature, without necessity for heating a substrate at a high temperature and for a heat treatment process.例文帳に追加
高温の基板加熱と熱処理工程を必要とせず、室温で高密度、高緻密性や高密着性をもつ脆性材料微粒子成膜体が形成できる脆性材料微粒子成膜体成形法を提供する - 特許庁
In the charging process, the rubber composition has a surface temperature Ts of ≥30°C and ≤70°C and a central temperature of ≥50°C and ≤90°C, and the difference therebetween (Tc-Ts) is ≥20°C and ≤40°C.例文帳に追加
上記投入工程における、上記ゴム組成物の表面温度Tsが30℃以上70℃以下であり、上記ゴム組成物の中心部温度Tcが50℃以上90℃以下であり、差(Tc−Ts)が20℃以上40℃以下である。 - 特許庁
As an ambient temperature T is decreased, a threshold value Wa relating to an accumulated amount is set to a smaller value, and regeneration process is carried out even when a smaller amount of PM is accumulated as compared with that at a normal temperature, to increase the frequency of the regeneration.例文帳に追加
外気温度Tが低くなるにしたがって、蓄積量に係る閾値Waを低く設定し、標準温度時に比べて少量のPM蓄積量でも再生処理をおこない、再生処理の頻度を増やす。 - 特許庁
A method for manufacturing a semiconductor device comprises a process for heat-treating a silicon substrate at first temperature in atmospheric gas containing nitrogen, and performing heat treatment at second temperature that is higher than the first one, thus forming a silicon nitride film on the silicon substrate.例文帳に追加
シリコン基板を窒素を含む雰囲気ガス中において第1の温度で熱処理し、続いて第1の温度より高い第2の温度で熱処理することにより前記シリコン基板上にシリコン窒化膜を形成する工程を有すること。 - 特許庁
To obtain an epoxy resin composition for sealing a semiconductor which relates to a semiconductor package for mounting an area, gives little warp in a soldering process at a room temperature, is excellent in reliability on soldering resistance or temperature-cycling resistance, and has excellent moldability.例文帳に追加
エリア実装用半導体パッケージに関し、室温及び半田付け工程での反りが少なく、耐半田性や耐温度サイクル性等の信頼性に優れ、かつ成形性にも優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
In this process, the mandrel 70 is not heated, the first die 75 is heated at a temperature of at least the melting point of the sealant layer of the sheet 1a, and the second dye is kept at a temperature which is 90% or below of the melting point of the sealant layer of the sheet 1b.例文帳に追加
この場合、マンドレル70を非加熱、第1の型75をシート1aのシーラント層の融点以上の温度に加熱し、第2の型73をシート1bのシーラント層の融点温度の90%以下の温度にする。 - 特許庁
An operation process part of a control part 30 calculates cylinder inside temperature T0 and cylinder inside pressure P0 at compression top dead center from detection values T1, T2 of cylinder inside temperature T0 and detection values P0 of cylinder inside pressure (step S3).例文帳に追加
制御部30の演算処理部は、筒内温度の検出値T_1,T_2及び筒内圧力の検出値P_1,P_2から圧縮上死点における筒内温度T_0及び筒内圧力P_0を算出する(ステップS3)。 - 特許庁
To provide a ferroelectrics memory wherein repeated recording characteristic in 100°C environment is excellent with a high curie temperature while film-forming is allowed at such low temperature order as 600°C for matching the semiconductor process.例文帳に追加
高いキュリー温度を有することで100℃の環境下での繰り返し記録特性に優れ、なおかつ半導体プロセスと整合性のとれる低い温度600℃台で成膜することができる強誘電体メモリを提供すること。 - 特許庁
To solve problems of a conventional method for manufacturing multilayer carbon nanotubes in which multilayer carbon nanotubes obtained by a vapor phase growth method are subjected to a high temperature heating process over the generation temperature of carbon nanotubes, so as to obtain multilayer carbon nanotubes in a high crystallization degree.例文帳に追加
高結晶化度の多層カーボンナノチューブを得るべく、気相成長法で得た多層カーボンナノチューブに、その生成温度を超える高温加熱処理を施す従来の多層カーボンナノチューブの製造方法の課題を解消する。 - 特許庁
When this endoscope is repeatedly sterilized in the high-temperature high-pressure steam sterilizing process, the flexible tube 17 can be prevented from contracting for a long time because the flexible tube 17 is previously heat-treated at a high temperature and contracted.例文帳に追加
可撓管17は予め高温状態で熱処理を施して縮ませた後のものが組み付けられているため、高温高圧蒸気滅菌処理を繰り返し行っても、長期間可撓管17の縮みを防止できるようにした。 - 特許庁
The optical detection device performs: a first correction process to the fluorescence image detected from the paper sheets by the fluorescence means based on the fluorescence image detected from the fluorescence reference plate and a preset reference value; and a second correction process to the fluorescence image of the paper sheets corrected using the medium temperature correction multiplier stored in the medium temperature property storage means based on the environmental temperature detected by the environmental temperature detection means.例文帳に追加
光検出装置は、蛍光基準板から検出する蛍光画像と、予め設定される基準値とに基づいて蛍光検出手段により紙葉類から検出する蛍光画像に対して第1の補正処理を行い、環境温度検出手段により検出する環境温度に基づいて媒体温度特性記憶手段に記憶されている媒体温度補正乗数を用いて補正した紙葉類の蛍光画像に対して第2の補正処理を行う。 - 特許庁
To collectively perform a tab line connection process for connecting a tab line to a surface electrode and a resin-sealing process for sealing a solar cell with sealing resin at a temperature of a relatively low-temperature resin-sealing process when manufacturing a solar cell module by resin-sealing a solar cell having a surface electrode where a tab line is connected, and to prevent a void from occurring at a thermocompression bonding section.例文帳に追加
タブ線が接続された表面電極を有する太陽電池セルを樹脂封止して太陽電池モジュールを製造する場合に、当該表面電極にタブ線を接続するタブ線接続工程と太陽電池セルを封止用樹脂で封止する樹脂封止工程とを、比較的低温の樹脂封止工程の温度で一括で行えるようにすると共に、熱圧着部位にボイドが発生しないようにする。 - 特許庁
This manufacturing method for the fluorescent display device wherein the element substrate 1 having the electron emission element and the counter substrate 2 are stuck through a sandwiching body 3 has a process for applying heat treatment to the sandwiching body at a temperature not less than a temperature in a sealing process before the process for sticking the element substrate 1 and the counter substrate 2 through the sandwiching body 3 in vacuum for the sealing.例文帳に追加
電子放出素子を有する素子基板1と対向基板2とを挟持体3を介して貼り合わせしてなる蛍光表示装置の製造方法において、前記素子基板1と前記対向基板2とを真空中で前記挟持体3を介して貼り合せて封着する工程の前に、当該封着する工程での温度以上で前記挟持体を加熱処理する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁
The invention provides a method for continuously producing a propylene polymer by a gas-phase polymerization process to remove the reaction heat mainly by the evaporation heat of liquefied propylene, wherein the recycling gas temperature of the evaporated propylene to be supplied to the reactor of the polymerization process is higher than the temperature of liquefied propylene by +3°C and not higher than the polymerization temperature +20°C.例文帳に追加
反応熱を主として液化プロピレンの気化熱により除去する気相法重合プロセスによるプロピレン系重合体を連続的に製造する方法であって、 該重合プロセスの反応器へ供給する気化プロピレンのリサイクルガスの温度は、液化プロピレンの温度より+3℃以上で、且つ重合温度より+20℃以下であることを特徴とするプロピレン系重合体の気相連続製造方法などを提供した。 - 特許庁
To obtain an acrylic fiber yarn for producing a carbon fiber having a connected part of mutually bonded end parts, capable of passing through both processes of a flameproof process having a high heating temperature and a high process tension and a carbonizing process having a high process tension and to provide a method for readily and surely providing the fiber yarn.例文帳に追加
末端部同士の接続した接合部を有する炭素繊維製造用のアクリル系繊維糸条であって、加熱温度及び工程張力の高い耐炎化工程と工程張力の高い炭素化工程との両工程をいずれも問題なく通過し得る炭素繊維製造用のアクリル系繊維糸条、及び該繊維糸条が容易かつ的確に得られる方法を提供すること。 - 特許庁
The method for producing coffee extract comprises the following process: (1) a first process of subjecting coffee powder to drip extraction with heated water so as to obtain first extract; and (2) a second process of subjecting powdered coffee beans having the same kind and roasting temperature as those of the powdered coffee beans used in the first process to drip extraction so as to obtain second extract.例文帳に追加
本発明のコーヒー抽出液の製造方法は、以下の工程1)コーヒー豆粉末を加熱水でドリップ抽出して第一抽出液を得る第1抽出工程、および2)前記コーヒー豆粉末と種類および焙煎度が同じコーヒー豆粉末を前記第一抽出液でドリップ抽出して第二抽出液を得る第2抽出工程、を含むことを特徴とする。 - 特許庁
This magnesium hydroxide particle having a hexagonal disc crystal morphology and a specific shape can be obtained in a process of manufacturing a magnesium hydroxide particle from magnesium chloride or magnesium oxide by adding a specific acid or its salt in its reaction process or hydrothermal treating process, and carrying out the hydrothermal treating process at specific temperature and time.例文帳に追加
塩化マグネシウムあるいは酸化マグネシウムを原料として水酸化マグネシウム粒子を製造する工程において、反応工程または水熱処理工程において、特定の酸もしくはその塩を添加すること、水熱処理工程を一定の温度および時間で行うことによって、目的とする六角盤状の結晶形態を有し特定形状の水酸化マグネシウム粒子を得ることができる。 - 特許庁
The waste treatment method has a hydrothermal reaction process for liquefying organic waste X held to a high-pressure/high-temperature state to obtain a treated liquid Y and a pressure reducing process for reducing the pressure of the treated liquid Y and also has a cooling process for directly mixing a cooling medium Z with the treated liquid Y before the pressure reducing process to cool the treated liquid Y.例文帳に追加
高圧・高温下状態の有機廃棄物Xを液状化して処理済液Yとする水熱反応工程と、上記処理済液Yを減圧する減圧工程とを有する廃棄物処理方法であって、上記減圧工程前に冷却媒体Zを直接上記処理済液Yと混合させることによって、上記処理済液Yを冷却する冷却工程を有する。 - 特許庁
To provide a lubricant for metal forming process which excels in adhesion when coated on a high-temperature article to be coated, excels in lubricity and seizure-prevention performance at high temperatures in performing metal forming process, prevents breakage, buckling, and a surface flaw in its forming, and can be easily removed after the forming process, a metal forming material coated therewith, and a metal forming process.例文帳に追加
高温の被塗物への塗装を行う際の付着性に優れ、金属成形加工を行う際に高温での潤滑性及び焼付き防止性能に優れ、加工時の破断、座屈、及び表面の疵を防ぐと共に、成形加工後は容易に除去することができる金属成形加工用潤滑剤、それを塗布した金属加工材、及び金属成形加工方法を提供する。 - 特許庁
The accuracy of boiling start temperature detection in a boiling process after addition of potassium permanganate adopted as a method for oxidizing and decomposing the organic material in the sample water such as drinking water is heightened, and a sample taking process at the start of analysis on an analytical stage of start and a cleaning process at the end of the analysis are distributed on the same stage, to thereby divide the boiling process.例文帳に追加
飲料水等の試料水中の有機性物質を酸化分解するための方法として採用されている過マンガン酸カリウム添加後の煮沸工程を煮沸開始温度検知の精度を上げたこと、また、開始の分析ステージにおいての分析はじめの試料取り込み工程と分析最後の洗浄工程を同一ステージに配分することで煮沸工程の分割を行った。 - 特許庁
This method for producing the chelate fibers comprises a process for preparing fibers formed from a polymer material and a medium for immersing the fibers, a process for charging a chelating agent into the medium, a process for charging the fibers into the medium, and a process for heating the medium containing the chelating agent charged thereinto and the fibers at a prescribed temperature and simultaneously pressuring the mixture at a prescribed pressure.例文帳に追加
高分子材料から形成された繊維と、この繊維を浸す媒体とを準備する工程と、前記媒体中にキレート剤を投入する工程と、前記媒体に前記繊維を投入する工程と、前記キレート剤を投入した前記媒体を、前記繊維とともに所定温度で加熱しつつ所定圧力で加圧する工程とを有する方法である。 - 特許庁
As a method for selectively heating the prescribed area of the semiconductor thin film in a heating treatment process to be executed for improving the electric characteristics of the semiconductor thin film produced at a low temperature, a process for injecting energy in the manner of pulse with the time width of ≤10 ms and a following energy injection stop process are executed as a process to be alternately repeated.例文帳に追加
低温で作製された半導体薄膜の電気的特性を向上する目的で実施する加熱処理工程を、半導体薄膜の所定の領域に対して、選択的に加熱をする手法として、時間幅を10ミリ秒以下として、パルス的にエネルギーを投入する過程と、それに続く、エネルギー投入休止過程とを、交互に繰り返し行う工程として実施する。 - 特許庁
A display device is manufactured with a manufacturing method including a process of piling plural fibers 4 with alternately crossing, a process of applying pressure on the piled fibers 4 in the piling direction, and a process of heating the piled fibers 4 up to a temperature at which at least a surface of the fiber 4 melts.例文帳に追加
複数のファイバ4を交互に交差させて積層する工程と、積層された上記ファイバ4に対して積層方向に圧力を加える工程と、積層されたファイバ4に対して少なくとも上記ファイバの表面が融解する温度まで加熱する工程とを含む製造方法により表示装置を製造する。 - 特許庁
As the nickel smelting process using the high-temperature high-pressure acid leaching process in which nickel is leached out by a sulfuric-acid solution, a nickel smelting process in which leaching is performed by adding either or both of sulfur and a carbon compound to slurry to be subjected to leaching to control the oxidation/reduction potential (vs Ag/AgCl) of a leachate to 400 to 600 mV is used.例文帳に追加
本発明の硫酸溶液によりニッケルを浸出する高温加圧酸浸出法を用いたニッケル製錬方法は、被浸出スラリーに硫黄および炭素化合物のうちの1つ以上を添加して、浸出液の酸化還元電位(vs Ag/AgCl)を400〜600mVに制御して浸出を行うニッケル製錬方法を用いる。 - 特許庁
The method of manufacturing the hydrogen separation membrane-electrolytic membrane junction (100) includes a hydrogen transmission treatment process in which a hydrogen separation membrane base material (10) is subjected to hydrogen transmission treatment at a specified temperature, and an electrolytic membrane forming process in which an electrolytic membrane (20) is formed on the hydrogen separation membrane base material after the hydrogen transmission treatment process.例文帳に追加
水素分離膜−電解質膜接合体(100)の製造方法は、水素分離膜基材(10)に所定の温度で水素透過処理を行う水素透過処理工程と、水素透過処理工程後に水素分離膜基材上に電解質膜(20)を成膜する電解質膜成膜工程とを含む。 - 特許庁
To provide a connecting process and a connecting structure, capable of making a solid connection at a low temperature with a low load and maintaining the shape of a connecting portion even if the connecting portion is heated in a laminating process and a subsequent mounting process, in order to provide a highly functional and highly reliable semiconductor device capable of high-speed transmission by laminating thin chips and boards.例文帳に追加
薄いチップ、基板を積層し、高機能で高速伝送が可能な高信頼半導体装置を実現するために、低温、低荷重で確実に接続可能で、積層プロセス、その後の実装プロセスなどで加熱されても接続部が形状を保つことが可能な接続プロセス、接続構造を提供する。 - 特許庁
To provide a method for recovering heat in a manufacturing method of sulfuric acid, which is performed by effectively utilizing the heat generated in a SO2 gas drying process or an air drying process and a sulfur trioxide absorption process to elevate the temperature of boiler feed water in the method for manufacturing sulfuric acid in which the heat is wasted conventionally because of the difficulty of effectively utilizing the heat.例文帳に追加
従来、有効利用が困難であるため廃棄されていた、硫酸製造設備のSO_2 ガス乾燥工程または空気乾燥工程および三酸化硫黄吸収工程で発生する熱を、有効に利用してボイラー給水を昇温する、硫酸製造設備における熱回収方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the high hardness diamond crystal includes a process for forming a synthetic diamond crystal having a nitrogen content of ≤3 ppm, a process for irradiating the synthetic diamond crystal with neutron, and a process for heat-treating the synthetic diamond crystal at a temperature of 800-2,000°C within 1 h after irradiation with neutron.例文帳に追加
窒素含有量が3ppm以下の合成ダイヤモンド結晶を形成する工程と、合成ダイヤモンド結晶に中性子を照射する工程と、中性子の照射後に合成ダイヤモンド結晶を800℃以上2000℃以下の温度で1時間以下熱処理する工程とを含む高硬度ダイヤモンド結晶の製造方法である。 - 特許庁
This vegetable organic substance grinding method has: a chipping process 2 for forming the vegetable organic substance into a chip state; a grinding drying process (3, 4, 5) for stir-grinding the chip-like vegetable organic substance while evaporating moisture under a prescribed temperature to form the dried minute powder; and a collection process 6 for collecting the dried minute powder.例文帳に追加
植物性有機物をチップ状に成形するチップ化工程2と、チップ状の植物性有機物を所定の温度下で水分を蒸発しながら攪拌粉砕して乾燥した微細粉を形成する粉砕乾燥工程(3、4、5)と、乾燥した微細粉を回収する回収工程6とを備える。 - 特許庁
A manufacturing method for semiconductor device comprises a process for forming a cobalt layer 11 on the surface of a silicon layer 4, a process for heat-treating silicon layer and cobalt layer 11 at temperature range of 150°C to 300°C, and a process for heat treating the silicon and the cobalt layer 11 at 500°C to 800°C to be carried out in this order.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、シリコン層4の表面にコバルト層11を形成する工程と、150℃〜300℃の温度下でシリコン層及びコバルト層11を熱処理する工程と、500℃〜800℃の温度下でシリコン層及びコバルト層11を熱処理する工程とをこの順に含んでいる。 - 特許庁
The method for forming the copper wiring film is taken such that a process in which the first cooper film is heated within a temperature range of 200-500°C is set between the first copper-film forming process by the CVD method, and a process in which the second copper film is formed by the plating method using the first copper film as the electrode.例文帳に追加
CVD法による第一の銅膜形成工程と、当該第一の銅膜を電極としたメッキ法により第二の銅膜を形成する工程の間に、第一の銅膜を200〜500℃の温度範囲にて加熱する工程が設けられていることを特徴とする銅配線膜形成方法によって課題を解決した。 - 特許庁
To provide the manufacture of a glass enclosure which enables lower- temperature of shorter-time getter activation by making smaller the damage that a non-vaporizable type getter has at the time of sealing and which preferably allows a vacuum baking process, essential for a manufacturing process for a glass enclosure wherein a vacuum is maintained inside, to serve also as a getter activating process.例文帳に追加
非蒸発型ゲッタが封着時に受けるダメージを、より小さくして、より低温、または、より短時間のゲッタ活性化を可能とし、更に好ましくは、内部を真空維持するガラス外囲器の製造工程に不可欠な、真空ベーキング工程がゲッタ活性化工程を兼ねることができるガラス外囲器の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dish washer, decreasing the convection of washing water to efficiently raise the water temperature in a washing process, eliminating unevenness in steaming by steam before it enters the washing process and adhesion of mist to dishes in the mist process to improve steaming to the dishes and adhesion of mist, thereby heightening the washing efficiency.例文帳に追加
洗浄行程での洗浄水の対流を少なくし効率良く水温を上げることができるとともに、洗浄工程に入る前の蒸気での蒸らし、ミスト工程でのミストの食器への付着のバラツキなくし、食器に対する蒸らし、ミストの付着を良くし、洗浄効率をよくした食器洗い機を実現する。 - 特許庁
To obtain a chip-in-glass fluorescent display tube in which the IC chip and wiring of fluorescent display tube is securely connected even in the high temperature process of 300-500°C that is a manufacturing process of fluorescent display tube after mounting the semiconductor element, and which has a high reliability of connection, reduced sizes and can shorten the process time.例文帳に追加
半導体素子搭載後の蛍光表示管の製造工程である摂氏300〜500度の高温工程においても、ICチップと蛍光表示管の配線を確実に接続し、かつ接続信頼性の高い、小型化可能な、工程時間を短縮化できるチップイングラス蛍光表示管を得る。 - 特許庁
In a reclaiming process for crosslinked polyethylene resin by means of a kneader, the reclaiming process for crosslinked polyethylene resin features comprising a plasticizing process where pressurizing force of ≥1.0 MPa and a shear rate of ≥1,000 s-1 are applied at a reclaiming temperature of 120-400°C to the crosslinked polyethylene resin to obtain reclaimed polyethylene.例文帳に追加
混練機を用いた架橋ポリエチレン樹脂の再生方法であって、前記架橋ポリエチレン樹脂に対して120〜400℃の再生温度で1.0MPa以上の加圧力及び1000s^-1以上のせん断速度を加え再生ポリエチレン樹脂を得る可塑化工程を含むことを特徴とする架橋ポリエチレン樹脂の再生方法。 - 特許庁
The apparatus 10 for producing the film is provided with: a supplying process section 14 for supplying a molten resin containing a thermoplastic resin; a film forming process section 15 for forming the molten resin into a film shape by continuously pinching the molten resin in a pinching section A; and a film temperature adjusting process section 16 for cooling the formed resin film 12.例文帳に追加
フィルム製造装置10は、熱可塑性樹脂を含有する溶融樹脂を供給する供給工程部14と、溶融樹脂を挟圧部Aにおいて連続的に挟圧して、フィルム状に成形する成膜工程部15と、成形された樹脂フィルム12を冷却するフィルム温度調節工程部16とを備える。 - 特許庁
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