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processing temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2995件
To provide a plasma processing apparatus in which the top surface of a placing pedestal can be processed readily in a smooth shape and lowering of the temperature of the peripheral portion of a substrate can also be prevented.例文帳に追加
載置台の上面を平滑な形状に容易に加工でき、また、基板周縁部の温度低下も防止できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide, for instance, an application/development apparatus capable of applying resist on the surface of a substrate with the temperature and humidity of the substrate kept very accurately, and improving substrates in processing uniformity.例文帳に追加
例えば塗布、現像装置において、基板の温湿度を高精度に維持した状態で塗布処理を行い、処理の均一性を向上させること。 - 特許庁
Hereby, improvement in the cleaning capacity and in the cleaning accuracy can be realized by controlling the processing time, based on the temperature of the cleaning liquid.例文帳に追加
これにより、洗浄液の温度に基づいて処理時間を制御して、洗浄性能の向上及び洗浄精度の向上を図ることができる。 - 特許庁
To prevent overheat in carrying out burnup type temperature up processing with intermittent addition of fuel or intermittent addition increase in quantity to an exhaust system of an internal combustion engine.例文帳に追加
内燃機関の排気系への燃料の間欠的添加又は間欠的添加増量によりバーンアップ型昇温処理を実行する際の過熱を防止する。 - 特許庁
The data thus read in is then subjected to correction processing for suppressing temperature gradient in the widthwise direction of the ink ribbon on the periphery of the print area (step S3).例文帳に追加
続いて、読み込んだデータに対し、プリント領域周辺でのインクリボンの幅方向における温度勾配を抑制するように補正処理を施す(ステップS3)。 - 特許庁
To provide an alloying furnace of a direct heating type, which has an adequate temperature rising speed, and accordingly is inexpensive despite its large processing capacity.例文帳に追加
十分な昇温速度を有し、したがって大きな処理能力を有しながら設備費が少なくてすむ直火炉方式の合金化炉を提案する。 - 特許庁
To provide an apparatus for processing evaporated gas of liquefied natural gas capable of being compressed down to a liquefied temperature by a less amount of driving power and being liquefied again.例文帳に追加
少ない駆動力で液化温度まで圧縮して再液化することができる液化天然ガスの蒸発ガス処理装置を提供すること。 - 特許庁
Consequently, the weight signal can be properly compensated with respect to variation in temperature of both the load cell 429 and the weight signal processing substrate 427.例文帳に追加
このため、ロードセル429及び計量信号処理基板427の双方の温度変化に対して、計量信号を適正に補償することができる。 - 特許庁
Thereafter, the carrier liquid flows in a line while it maintains the processing temperature by a second heating device 20 and a pressure thereof is reduced when it passes through a pressure regulating valve 48.例文帳に追加
その後、キャリア液は、第二の加温器20により上記処理温度を維持しつつラインを流れ、圧力調節弁48を通過する際に減圧される。 - 特許庁
On the basis of the temperature of the secondary transfer roller obtained in such a way, timing to perform the determining processing of the controlled variable of resist is decided (step S6).例文帳に追加
そして、このようにして求められた2次転写ローラの温度に基づいて、レジスト制御量の制定処理の実行タイミングを決定する(ステップS6)。 - 特許庁
To provide a firm consisting of a liquid crystalline aromatic polyester, having a strength and low temperature processing property sufficient as a packaging material and excellent in gas barrier property.例文帳に追加
包装材料用として十分な強度と低温加工性を有し、ガスバリア性に優れた、液晶性芳香族ポリエステルからなるフィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a high-heat-resistant electronic device in which a junction thermal processing temperature is low and a high melting point can be ensured after solidification, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
接合熱処理温度が低くて済み、凝固後は高い融点を確保し得る高耐熱性の電子デバイス及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
An operation processor is constituted so as to perform operation processing of measured values from the two or more positions for determining the temperature of the heat source under the surface.例文帳に追加
演算処理器は、表面下の熱源の温度を決定するため2つ以上の位置からの測定値を演算処理するように構成されている。 - 特許庁
To provide a high-heat-resistant electronic device in which a junction thermal processing temperature is low and a high melting point can be ensured after solidification, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
接合熱処理温度が低くて済み、凝固後は高い融点を確保し得る高耐熱性の電子デバイス及びその製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a thermal developing processing method for avoiding influence of a temperature in an apparatus for a thermal developing photosensitive film loaded in a plurality of film loading parts.例文帳に追加
複数のフィルム装填部に装填された熱現像感光フィルムに対する装置内温度の影響を回避可能な熱現像処理方法を提供する。 - 特許庁
In the second compensation mode with priority on the processing time required for the compensation, the difference between the measured result and an average value in the record for the corresponding temperature range is derived (#7 to #9).例文帳に追加
要処理時間を優先する第2補正モードにおいては,測定結果と,該当する温度帯域の履歴の平均値との差を求める(#7〜#9)。 - 特許庁
A processing method for a heat-developable photosensitive material is characterized in that the above heat-developable photosensitive material is processed at a development temperature of 100-150°C.例文帳に追加
上記熱現像感光材料が100〜150℃の現像温度で処理されることを特徴とする熱現像感光材料の処理方法。 - 特許庁
An image processing part 30 detects a pedestrian on the basis of a thermal image generated by a far infrared light image sensor 20 in the state of a substrate temperature Ta.例文帳に追加
画像処理部30は、基板温度Taの状態で遠赤外線イメージセンサ20により生成された熱画像に基づいて、歩行者を検出する。 - 特許庁
A temperature controller 3 controls a transmission wavelength of an optical fiber grating 2 depending on an identification number of a subscriber side device 12 that applies the subscription processing.例文帳に追加
温度制御装置3は、加入処理する加入者側装置12の識別番号に応じて、光ファイバグレーティング2の透過波長を制御する。 - 特許庁
As a result, when the environmental temperature is changed, no output signal change is generated from a signal processing circuit at the optical range finder sensor 11.例文帳に追加
その結果、雰囲気温度に変動があっても、光学式測距センサ11における信号処理回路からの出力信号に変化は発生しない。 - 特許庁
To provide a new method for producing coated seeds, enabling seeds under coating processing to be kept at low temperatures without raising their temperature.例文帳に追加
被覆加工中の種子の温度を上昇させることなく、低温に維持することが可能となる新たなコーティング種子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a silicon carbide vertical wafer boat, which can improve operativity, prevent raising of much dust and improve the rate of rising and lowering of temperature inside a wafer processing furnace.例文帳に追加
操作性を高めると共に、多量の発塵を防止し、かつ、ウェーハ処理炉内の昇降温速度を向上し得る炭化珪素製縦型ウェーハボートの提供。 - 特許庁
The determining processing of the controlled variable of resist is performed based on the temperature of the secondary transfer roller obtained in such a way (step S5 and step S6).例文帳に追加
そして、このようにして求められた2次転写ローラの温度に基づいてレジスト制御量の制定処理を実行する(ステップS5、ステップS6)。 - 特許庁
To enhance processing speed while ensuring long term stabilization by suppressing temperature rise at the output section of a drive signal for performing ink ejecting operation.例文帳に追加
インク吐出動作を行うための駆動信号の出力部の温度上昇の抑制して長期の安定化を図りつつ処理速度の向上を図る。 - 特許庁
(b) Data pertaining to processing by diffusion bonding of super alloys or titanium alloys, and to the surface treatment, deformation rate, temperature or pressure of processed materials 例文帳に追加
ロ 超合金又はチタン合金の拡散接合による加工に係るものであって、加工材料の表面処理、温度又は圧力に係るもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
To save energy moire by reducing energy consumed in a supply air processing pre-cooling coil, while maintaining a target dew point temperature in a space to be air-conditioned.例文帳に追加
被空調空間での目標露点温度を維持しながら、給気処理用予冷コイルで消費されるエネルギーを削減して、さらなる省エネルギーを図る。 - 特許庁
To obtain a circuit for compensating the difference between gate- source voltages of two MOS transistors of different types, caused by processing or a temperature change.例文帳に追加
本発明は、処理や温度変化により生じた2個の異なる形式のMOSトランジスタのゲート・ソース電圧間の差の補償回路を得ることを目的とする。 - 特許庁
To realize flexible charging in accordance with the operating conditions in the substrate processing system including a heat treatment apparatus provided with temperature setting functions of a plurality of kinds.例文帳に追加
複数種類の温度設定機能を備えた熱処理装置を有する基板の処理システムにおいて,使用状態に応じた柔軟な課金を行う。 - 特許庁
To provide a producing method and its device for low temperature saturated steam, and to provide a steam heating device for heating, such as for food processing, using the saturated steam.例文帳に追加
低温の飽和蒸気の生成方法及びその装置と、その飽和蒸気を用いた加熱用の、例えば、食品加工用等の蒸気加熱装置の提供。 - 特許庁
To provide a liquified gas (liquid) transferring and filling system capable of providing substantially constant processing performance even in the case where outside temperature fluctuates for a year around.例文帳に追加
年間を通じて外気温に変動があってもほぼ一定の処理能力を発揮することができる液化ガス(液)の移充填システムを開示する。 - 特許庁
(2) The photosensitive material processing device has a supporting member for photosensitive material at a position away from and opposed to the coating means and has the temperature control means for the supporting member.例文帳に追加
(2)前記塗布手段に対向し離間する位置に感光材料の支持部材を有し、該支持部材の温調手段を有する感光材料の処理装置。 - 特許庁
The first processing is a process for lowering a target operation frequency of a humidity-conditioning compressor, and lowering a target evaporation temperature in a user side heat exchanger.例文帳に追加
第1処理は、調湿用圧縮機の目標運転周波数を下げ、かつ、利用側熱交換器における目標蒸発温度を下げる処理である。 - 特許庁
To provide a method for improving uniformity of a processing speed for cooling a wafer supporter at a uniform temperature in a capacitively coupled plasma reactor.例文帳に追加
容量結合プラズマリアクタにおいて、ウエハ支持体を均一な温度で冷却する加工速度の均一性向上をすることができる方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus capable of more stably improving image quality of an area including a skin color even when a color temperature of a light source is changed.例文帳に追加
光源の色温度が変化しても肌色を含む領域の画質をより安定的に向上させることが可能となる画像処理装置を提供する。 - 特許庁
When pre-heat processing is started, the Tcave rises to TM, and even if the temperature of a microwave oven tray rises more than it, the Tcave becomes constant.例文帳に追加
予熱処理が開始されると、TcaveはTMまで上昇した後、それ以上レンジ焼き皿の温度が上昇しても、Tcaveで一定となる。 - 特許庁
A bearing device 1 as the rotator device is equipped with an inner ring 2, an outer ring 3, the rolling body 4, a temperature detection part 5, a reception part 6 and a processing device 7.例文帳に追加
回転体装置としての軸受装置1は内輪2と外輪3と転動体4と温度検出部5と受信部6と処理装置7を備えている。 - 特許庁
To enable an air flow flowing toward an exhaust vent to be uniformly formed in a processing chamber so as to make a substrate such as a wafer or the like uniform in heating temperature distribution throughout its surface.例文帳に追加
排気口へと流れる気流が処理室内において均等に形成されるように制御し,ウェハ等の基板面内の加熱温度を均一にする。 - 特許庁
To provide a method for processing peanuts with shells tastily taken by anyone irrespective of age and sex, and preservable for a long period of time at normal temperature.例文帳に追加
老若男女を問わず誰でも美味しく食べることでき、かつ、常温で長期間保存することのできる莢付ピーナツの加工方法を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma processor for adjusting the temperature of a specimen or a specimen table with high precision, and for improving the yield or efficiency of the processing of a specimen.例文帳に追加
高い精度で試料または試料台の温度を調節でき試料の処理の歩留まりや効率を向上させたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a radio communication device, capable of keeping an operator informed of a temperature rise and processing that is carried out for reducing the output.例文帳に追加
無線通信機の使用者に温度上昇が判り、出力低下処理がなされたことが判るようにした無線通信機を提供するものである。 - 特許庁
This processing enables temperature characteristics of a VCO of a transceiver to be adjusted over a wireless LAN, where transmission/reception is continuously executed without stop, or the like.例文帳に追加
この処理により、送受信を止めることなく実行し続ける無線LAN等の送受信器のVCOの温度特性の調整を行うことが可能となる。 - 特許庁
To provide an information processing apparatus capable of detecting the generation of an abnormality caused by a temperature rise while suppressing electrical power consumption in a state of electrical power saving.例文帳に追加
省電力状態での電力消費を抑えつつ高温による異常発生の検出を行うことができる情報処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a processing method which can eliminate the need for high-temperature annealing causing a thermal history to unfavorably influence an impurity distribution in a substrate.例文帳に追加
熱履歴が基板中の不純物の分布に好ましくない影響を与えてしまう高温アニールを必要としない処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a spiral groove processing device for the channel tube of an endoscope capable of shortening a heating time, capable of determining a molding condition and facilitating the control of temperature to reduce the depth irregularity of a spiral groove.例文帳に追加
加熱時間を短縮し、成形条件を決めることができるとともに、温度管理を容易にし、螺旋溝深さのばらつきを小さくする。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus capable of obtaining a high-quality image by correcting the difference of color visibility caused by influence of a color temperature.例文帳に追加
色温度の影響による色の見えの差を補正することにより、高品質な画像を得ることを可能とする画像処理装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a substrate processing device capable of preventing deformation of a rotary shaft of a roller for conveying a substrate when a temperature rises in the roller.例文帳に追加
基板搬送用のローラが温度上昇したときにこのローラの回転軸が変形するのを防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a configuration, capable of sufficiently uniformizing an in-plane temperature of a substrate, related to an electrostatic attraction mechanism to electrostatically attract the substrate for processing.例文帳に追加
基板処理のために基板を静電吸着する静電吸着機構において、基板の面内温度を充分に均一にできる構成を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma processing device which is capable of monitoring and controlling the state of plasma with high accuracy even when the external surface of the device varies in temperature.例文帳に追加
装置外表面の温度が変化した場合でも、高精度にプラズマ状態をモニタして管理することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
When the environment such as air conditioning temperature or the act of moving speed of the user follows the purpose of the protection of the earth environment, the similar processing is executed.例文帳に追加
利用者の空調温度などの環境や移動速度などの行動が地球環境の保護という目的に沿うときにも、同様の処理を実行する。 - 特許庁
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| ※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。 |
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