「processing temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

A temperature elevation process is provided to make an IC chip itself heated by electric connection, to the inside of the IC chip, different from a usual condition (processing S1).例文帳に追加

ＩＣチップ内部への通常とは異なる電気的接続により前記ＩＣチップ自体を発熱させる昇温工程を経る（処理Ｓ１）。 - 特許庁

When the off-time count finish flag is stored (S12:YES), the rapid temperature rise energization processing to the glow plug is executed (S16).例文帳に追加

また、オフ時間カウント終了フラグが記憶されていた場合には（Ｓ１２：ＹＥＳ）、グロープラグへの急速昇温通電処理（Ｓ１６）を行う。 - 特許庁

To provide a working fluid supply device for a wire saw which can prevent the reverse flow of a processing liquid and control the temperature of the working fluid accurately.例文帳に追加

加工液の逆流を防止して加工液の温度制御を精度良く行うことのできるワイヤソーの加工液供給装置を提供する。 - 特許庁

To provide a force detector for reducing the occurrence of drift of pressure detection values due to high temperature processing such as reflow, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

リフロー等の高温処理による圧力検出値のドリフトが生じるのを低減する力検出器及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The tea processing method comprises heat-treatment of heated tea leaves, with a rotary pot heat-treating apparatus at a high temperature and a high speed, without rolling the tea leaves.例文帳に追加

また、製茶方法としては、回転釜加熱処理装置にて、蒸熱処理後の茶葉を揉まずに高温高速で加熱処理することである。 - 特許庁

The processing lubricant is obtained by freezing a solution at normal temperature and then grinding the frozen solution into a semi-liquid body or liquid body.例文帳に追加

加工用潤滑剤は、常温で溶液を凍らせ、次いで、凍らせた溶液を粉砕し、半液状体または液状体にしたものである。 - 特許庁

After the processing treatment is performed within the temperature range of 600-750°C, the steel wire rod is cooled to 550°C, preferably at a cooling rate of ≤100°C/sec.例文帳に追加

６００〜７５０℃の温度範囲における加工処理終了後、５５０℃までの冷却速度は、１００℃／ｓｅｃ．以下であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a method of crystallization for densely forming crystal grains of large grain sizes allowing requirement for low-temperature processing to be met.例文帳に追加

大粒径の結晶粒をち密に形成することができ、かつ低温処理の要求を満たすことができる結晶化方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of supplying a sulfic acid/hydrogen peroxide mixture solution having a liquid temperature suitable for peeling of a resist to a substrate.例文帳に追加

レジストの剥離に適した液温の硫酸過酸化水素水を基板に供給することができる、基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing method for forming a silicon nitride film having a small etching grade against an HF system solution without raising a film forming temperature.例文帳に追加

ＨＦ系溶液に対するエッチングレートが小さいシリコン窒化膜を、成膜温度を上げることなく形成する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The high-temperature exhaust gas extracted from the ash treatment furnace 8 for processing the incineration ash, is blown into a combustion chamber 3 of the waste incinerator 70.例文帳に追加

廃棄物焼却炉７０の燃焼室３内に、焼却灰の処理を行う灰処理炉８内から抜き出した高温排ガスを吹き込む。 - 特許庁

The resin solution for processing a rubber is prepared by dissolving a novolac phenolic resin having a softening temperature of ≥84°C in an organic solvent.例文帳に追加

軟化点が８４℃以上であるノボラック型フェノール系樹脂を有機溶媒に溶解してなることを特徴とするゴム加工用樹脂溶液。 - 特許庁

A capacitor dielectric film 110 employed for a storage capacitor 1 as a trench capacitor is formed of successive layers subjected to a temperature processing.例文帳に追加

トレンチキャパシタとしてのストレージキャパシタ１に用いられるキャパシタ絶縁膜１１０は、温度処理が施された連続する層から形成される。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of highly precisely controlling the temperature of a surface of a shower head facing a processing space to a setup value.例文帳に追加

処理空間に面するシャワーヘッドの表面の温度を設定温度に精度よく制御することができる成膜装置を提供すること。 - 特許庁

A signal processing section 26 multiplies the gain with the fixed pattern noise at the standard temperature and subtracts the product from an output signal of the CCD 22.例文帳に追加

信号処理部２６は、標準温度の固定パタンノイズに対してゲイン値を乗算し、この積をＣＣＤ２２の出力信号から引き算する。 - 特許庁

To improve convergent performance to the target temperature of indoor air, in an air-conditioning system composed of a latent heat load processing system having an adsorption heat exchanger and mainly processing an indoor latent heat load and a sensible heat load processing system having an air heat exchanger and mainly processing an indoor sensible heat load.例文帳に追加

吸着熱交換器を有し主として屋内の潜熱負荷を処理する潜熱負荷処理システムと、空気熱交換器を有し主として屋内の顕熱負荷を処理する顕熱負荷処理システムとからなる空気調和システムにおいて、屋内の空気の目標温度に対する収束性を向上させる。 - 特許庁

The wafer case housing wafers is set in the processing chamber of the processing device after it is cooled, the pressure of the processing chamber is reduced so that the temperature of the wafer case may be transmitted to the wafer, and the processing chamber is heated in vacuum state.例文帳に追加

冷却が可能で熱源からの光エネルギーを透過するウエハーケースと減圧から加圧まで調整可能な処理室を用意し、ウエハーを収納したウエハーケースを冷却後熱処理装置の処理室にセットし、ウエハーケースの温度がウエハーに伝わらないよう処理室の圧力を下げ真空状態にして加熱する。 - 特許庁

In toast course processing, the temperature of a range baking dish which is installed in a heating chamber and on which a food is placed is detected at starting heating and a preheating time Y:TM for the range baking dish is determined in accordance with the detected temperature (S302).例文帳に追加

トーストコース処理では、加熱開始時に、加熱室内に設置され食品を載置するレンジ焼き皿の温度が検知され、当該検知温度に基づいてレンジ焼き皿の予熱時間Ｙ：ＴＭが決定される（Ｓ３０２）。 - 特許庁

To provide a temperature adjustment controller wherein, related to substrate processing equipment comprising a plurality of process chambers, the temperature adjustment process for all chambers are controlled by one unit, while easily coping with addition of a chamber and specification change.例文帳に追加

複数の処理チャンバをもつ基板処理装置において、全チャンバの温度調節プロセスを１台で制御でき、かつチャンバの増設や仕様変更にも容易に対応できる温度調節コントローラを提供する。 - 特許庁

To provide a white balance control apparatus for applying the linear interpolation of a color temperature by strobe light and a color temperature of external light to pixels imaged at strobe lighting so as to obtain a white balance coefficient by each pixel thereby carrying out proper white balance processing.例文帳に追加

ストロボ発光時に撮像された画素に対して、ストロボ光による色温度と外光の色温度の線形補間を施してホワイトバランス係数を画素毎に求め、適切なホワイトバランス処理を施す。 - 特許庁

The method for roasting the fish includes attaching wheat flour on the surface of the pacific saury as a preparatory processing of a roasting step to form a thin film, baking the gluten of the wheat flower on the surface of the pacific saury, and then roasting at a temperature condition of surrounding temperature of 100 to 130°C for three hours.例文帳に追加

また、魚を長時間低温で焼く方法もあるが、焼く工程で榮養分や水分の流出が起こる問題点がありこれらを改善したサンマの小生方法を提供する。 - 特許庁

In this temperature detection device 10, a temperature detection element 11 is equipped in a casing 110 with a substrate 120, an optical system 130, an InGaAs photodiode 141, an Si photodiode 142 and a signal processing part 150.例文帳に追加

温度検出装置１０は、温度検出素子１１において、筐体１１０内に、基板１２０，光学系１３０，ＩｎＧａＡｓフォトダイオード１４１，Ｓｉフォトダイオード１４２および信号処理部１５０を備える。 - 特許庁

Thus, both temperature compensation control of the oscillator 1 and reception processing of the high frequency receiving device can be performed at the same time, and the oscillator having a high temperature coefficient is adaptable to the high frequency receiving device.例文帳に追加

この構成により、発振器１の温度補償制御と高周波受信装置の受信処理を両立させることができ、温度係数の大きい発振器を高周波受信装置に適応することが可能になった。 - 特許庁

Temperature in a reaction chamber for processing silicon wafer in the furnace is kept at a prescribed film-forming temperature and a gas for forming film is introduced into the reaction chamber and prescribed films, such as Poly-Si film on the wafer are formed.例文帳に追加

炉内部でシリコンウェハを処理する反応室内の温度を所定の成膜温度に維持し、反応室内に成膜用ガスを導入してウェハの上に所定のＰｏｌｙ−Ｓｉ膜などの膜を形成する。 - 特許庁

To provide a low temperature plasma radiation device suitable for surface modification of a body to be processed in various materials and shapes, especially for surface processing for improving hydrophilicity and the like, and to provide a low temperature plasma radiation method.例文帳に追加

種々の材料・形状を持つ被処理体の表面改質、特に親水性を高めるための表面処理などに好適な低温プラズマ照射装置及び低温プラズマ照射方法を提供する。 - 特許庁

Then, after a lapse of time of a prescribed length tb, the system waits for operation of a operation button (258, 260), and when the operation button is pressed, the current room temperature T0 is substituted into the transmission room temperature T (262) and then the processing returns to the step 254.例文帳に追加

その後、所定時間ｔ_bの経過待ち及び操作ボタンの操作待ちを行ない（258,260）、操作ボタンが操作された場合は送出室温Ｔに現在の室温Ｔ_0を代入した（262）後にステップ254へ戻る。 - 特許庁

A heater 9 of a resistance heating type is provided around the outer periphery of a processing chamber 3 to heat an atmosphere within the chamber 3 and to increase the temperature of the entire semiconductor substrate 1 to a level nearly corresponding to the temperature (HF: 50°C) of the chemical solution.例文帳に追加

処理チャンバー３の外周に抵抗加熱方式のヒーター９を配置し、処理チャンバー３内の雰囲気を熱し、半導体基板１全体を薬液温度（ＨＦ：５０℃）と同じ５０℃相当にまで上昇させる。 - 特許庁

To provide a fuel cell system that prevents a cooling medium whose temperature is equal to or lower than a first predetermined temperature from being sent in a fuel cell during sweeping processing, and also prevents generated water from freezing in the fuel cell.例文帳に追加

掃気処理で第１所定温度以下の冷却媒体が燃料電池に送り込まれるのを防止し、燃料電池の内部で生成水が凍結するのを防止できる燃料電池システムを提供する。 - 特許庁

To provide a laser beam machine that has small processing load on a controller side and that excels in machining shape and machining positional accuracy, even under temperature variation of an fθ lens caused by heat generation of the apparatus itself and change in ambient temperature.例文帳に追加

装置自体の発熱や環境温度変化によりｆθレンズの温度が変化する場合でも、制御装置側の処理負担が小さく、加工形状や加工位置精度に優れるレーザー加工機を提供すること。 - 特許庁

The processing means 51 having the γ correction ROM changes the γ correction table in accordance with a temperature signal 56 to prevent ink from being supplied too much or too little according to the environmental temperature change.例文帳に追加

γ補正ＲＯＭを有する処理手段５１では、温度信号５６に応じてγ補正テーブルの変更を行い、環境温度の変化に伴いインクが過大または過少に供給されることを防止する。 - 特許庁

When the pressure in the chamber 27 is reduced, pure water stored in a processing tank 1 evaporates and since evaporation heat is taken from the pure water and the temperature of pure water falls off, temperature of the substrate W can be lowered.例文帳に追加

チャンバ２７内を減圧すると、処理槽１に貯留している純水が蒸発し、その時に純水から気化熱が奪われて純水の温度が低下するので、基板Ｗの温度を低くさせることができる。 - 特許庁

The heat treatment apparatus has: a hot plate 50 for placing a substrate W and heating it; a lid 60 for covering the substrate W placed on the hot plate 50 and forming a processing chamber 41; and a temperature sensor 100 for measuring the temperature of the lid 60.例文帳に追加

基板Ｗを載置し加熱する熱板５０と、熱板５０上に載置された基板Ｗを覆い処理室４１を形成する蓋体６０と、蓋体６０の温度を計測する温度センサ１００とを有する。 - 特許庁

In processing for temperature measuring position determination, at first, a 3D model for analysis of a machine tool body is created (S21), and when a temperature measurement block is set, a plurality of candidate points are set in every block (S22).例文帳に追加

温度測定位置決定の処理にあたっては、まず工作機械本体の解析用の３Ｄモデルが作成され（Ｓ２１）、温度測定ブロックが設定されると共に各ブロック毎に複数個の候補点が設定される（Ｓ２２）。 - 特許庁

A failure detection means 23 determines whether a physical server which has reached an abnormal temperature is present, a processing execution means 24 moves a virtual machine operated on the physical server with the abnormal temperature to the other physical server.例文帳に追加

障害検出手段２３が、異常温度に達した物理サーバがあるか否かを判定し、処置実行手段２４が、異常温度に達した物理サーバ上で稼動している仮想マシンを他の物理サーバに移動させる。 - 特許庁

The temperature of the heating roller of the post stage is lowered for the easily-drying laundry and the temperature of the heating rollers in a plurality of stages of the post stage is raised in processing the hardly-drying laundry such as two ply sheets.例文帳に追加

乾燥の速い洗濯物については、後段の加熱ローラの温度を低くし、２枚重ねのシーツのような乾きにくい洗濯物を処理するときは、後段の複数段の加熱ローラの温度を高くする。 - 特許庁

To provide a workpiece processing container for suppressing the temperature-lowering in a container body when a container closure is opened with feeding and removing a workpiece and maintaining the temperature-lowering in the container body.例文帳に追加

ワークの除給材に伴う容器蓋の開放時に、容器本体内の温度低下を抑制することができると共に容器本体内の温度低下を一定にすることができるワーク処理容器を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate treatment device and a substrate treatment method which can ensure stable processing uniformity even when a temperature detection means which is disposed inside a treatment chamber and is used for temperature control is attached/detached.例文帳に追加

処理室内に配置され、温度制御に使用される温度検出手段の着脱を行った場合でも、安定した処理均一性を確保することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

When the temperature of a CPU 11 detected by a temperature sensor 14 exceeds a certain threshold, a CPU speed control module 26 performs CPU speed control processing in order to reduce the average operation speed of the CPU 11.例文帳に追加

ＣＰＵ速度制御モジュール２６は、温度センサ１４によって検出されるＣＰＵ１１の温度がある閾値を超えた時、ＣＰＵ１１の平均動作速度を低下させるためにＣＰＵ速度制御処理を実行する。 - 特許庁

The motor driver 34 also has an inner temperature detecting circuit 45 which delivers an HW signal when the inner temperature T exceeds a threshold level Tb (<Ta) just before the thermal shut down processing is actuated.例文帳に追加

また、モータドライバ３４は内部温度検出回路４５を有し、内部温度検出回路４５はサーマルシャットダウン処理が作動する手前で、内部温度Ｔが閾値Ｔｂ（＜Ｔａ）を超える場合にＨＷ信号を出力する。 - 特許庁

When the temperature detected by the temperature detector 4 is low, a frame rate adjustment means 5 in an image processing circuit 2A stepwise thins frames to decrease a frame rate of a moving picture video image imaged by the camera 1.例文帳に追加

温度検出器４で検出した温度が低い場合に、カメラ１で撮像した動画映像について、画像処理回路２Ａ内のフレームレート調整手段５で段階的にフレームを間引いてフレームレートを低下させる。 - 特許庁

To provide thermally expansible microcapsules having a high maximum foaming temperature, excellent in heat resistance without breaking and shrinking in a high temperature region or during forming processing, and a method for producing the thermally expansible microcapsules.例文帳に追加

最大発泡温度が高く、耐熱性に優れ、高温領域や成形加工時においても破裂、収縮することのない熱膨張性マイクロカプセル及び熱膨張性マイクロカプセルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of suppressing the temperature rising in the apparatus when performing a fixing processing and reducing power consumption and to provide a fixing temperature control method therefor.例文帳に追加

本発明は、定着処理時における装置機内の温度上昇を抑制するとともに消費電力を低減することが可能な画像形成装置およびその定着温度制御方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a staple fiber nonwoven fabric having a low processing temperature during thermal bonding, having less deterioration of bonding strength even when used at a high temperature atmosphere and excellent in texture, flexibility, and mechanical characteristics.例文帳に追加

熱接着処理する際の加工温度を低くすることができ、高温雰囲気下で使用した際にも接着強力の低下が少なく、地合や柔軟性、機械的特性にも優れる短繊維不織布を提供する。 - 特許庁

Processing is performed by which the substitute gas is made to flow in a space between the rear surface of the substrate and the radiation temperature sensor for a fixed time by low flow rate, so as to allow a temperature difference between the center and the outer periphery of the substrate to become not larger than a prescribed value.例文帳に追加

前記基板裏面と前記放射温度センサとの間の空間に、前記基板の中央部と外周部との温度差が所定値以下になる低流量で一定時間置換ガスを流す処理をする。 - 特許庁

To provide a putting-fold device, a paper post-processing device, an image forming device, and an image forming system that are not affected by air temperature, humidity, a temperature of paper, water content of the paper, and the like, and put a cease without image peeling.例文帳に追加

気温や湿度、用紙の温度や含水率などの影響をうけずに、画像剥れがない折りを行うことができる筋付け装置、用紙後処理装置、画像形成装置、及び画像形成システムを提供する。 - 特許庁