「processing temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

A diving information processing part 22 searches for the depth during diving, a water temperature, a maximum water depth, a diving start time, and a non-decompression diving enabling time based on detection results of the pressure sensor 11 and the temperature sensor 12.例文帳に追加

潜水情報処理部２２は、圧力センサ１１及び温度センサ１２の検出結果に基づいて潜水中の潜水深度、水温，最大水深、潜水開始時間、無減圧潜水可能時間が求められる。 - 特許庁

Constant-temperature water traces a circulation path such as that it is supplied from a built-in tank 21 to a processing part 90 via a temperature regulating part 22, a circulation pump 23, and a pipe 80, and is returned to the built-in tank 21 again via the pipe 80.例文帳に追加

恒温水は内蔵タンク２１から温調部２２、循環ポンプ２３、配管８０を経て処理部９０に送給され、配管８０を経て再び内蔵タンク２１に帰還されるという循環経路を辿る。 - 特許庁

To provide a resin coating magnesium alloy plate excellent in workability, particularly press moldability of deep drawing workability, etc. in a semi-temperature region from room temperature and excellent in the adhesion of a coating resin in a molding material after processing.例文帳に追加

加工性、特に室温から準温間域における深絞り加工性等のプレス成形性に優れ、加工後の成形体における被覆樹脂の密着性が優れた、樹脂被覆マグネシウム合金板を提供する。 - 特許庁

For example, temperature control can be easily carried out by constructing the temperature distribution control member so as to be movable to any position with respect to the coil and adjusting the position according to a processing condition.例文帳に追加

例えば前記温度分布制御部材を、コイルに対して任意の位置に移動することができるように構成し、処理条件に応じてその位置を調整することで容易に温度制御を行うことができる。 - 特許庁

To provide a rapid thermal processing apparatus and method ensuring accurate measurement of substrate temperature and high precision heating of a semiconductor substrate even under a low temperature state of a low translucence semiconductor substrate.例文帳に追加

遮光性の低い半導体基板の温度が低い状態においても正確な基板温度の測定及び半導体基板に対する高い精度の加熱を可能にする急速熱処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which can shorten the etching time by equalizing the temperature of semiconductor wafers to attain uniform etching within a semiconductor wafer plane and by improving the temperature response of an electrostatic attracting electrode.例文帳に追加

半導体ウェハの温度を均一にして、エッチング特性を半導体ウェハ面内で均一にし、また、静電吸着電極の温度レスポンスを向上させて、エッチング時間を短縮できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

If the temperature TGL of the glow plug 24 reaches the target temperature TGT, a mode of fuel injection is changed (S15, S16), and estimation processing of a cetane number on the basis of ignition delay of injected fuel is permitted (S18).例文帳に追加

グロープラグ２４の温度ＴＧＬが目標温度ＴＧＴに達すると、燃料噴射の態様が変更され（Ｓ１５，Ｓ１６）、噴射した燃料の着火遅れに基づくセタン価の推定処理が許可される（Ｓ１８）。 - 特許庁

Therefore, the reference temperature for determining the cooling water temperature to be used for determining a leak diagnosis execution condition of evaporation leak diagnostic processing control, is corrected according to the operation history of the pre-air-conditioning (S124 and S126).例文帳に追加

このためエバポリーク診断処理制御のリーク診断実行条件判定において用いられる冷却水温判定用の基準温度を、プレ空調の作動履歴に応じて補正している（Ｓ１２４，Ｓ１２６）。 - 特許庁

Wireless sensors 314 for detecting temperature and humidity are arranged on a bottom plate 311 of a paper tray 131 and the fixing temperature, fixing speed and nip width of fixing processing which is performed by a fixing unit 126 are controlled on the basis of the temperature or humidity detected by the wireless sensors 314.例文帳に追加

用紙トレー１３１の底板３１１に、温度及び湿度を検知するワイヤレスセンサ３１４を設置し、ワイヤレスセンサ３１４の検知した温度または湿度に基づいて、定着器１２６が行う定着処理の定着温度、定着速度及びニップ幅を調節する。 - 特許庁

To provide a heat treatment system for substrate in which processing gas is prevented from touching a substrate under temperature rise to accelerate generation of a defect in the substrate through heat shock or touching a temperature raised substrate to deteriorate temperature distribution in the plane of the substrate so that uniform heat treatment can be ensured.例文帳に追加

昇温中の基板に処理ガスが触れて熱衝撃により基板に欠陥が発生するのを助長したり昇温後の基板に処理ガスが触れて基板面内における温度分布が悪くなり均一な熱処理を行えなくなることを防止できる装置を提供する。 - 特許庁

Restoration processing is performed where the whole or a part of an area that is hem-worked in the Al-Mg-Si based aluminum alloy plate that is age-hardened at a normal temperature is selectively heated to a temperature of ≥160°C and ≤350°C and is kept for 5 min or shorter, and then cooled to room temperature.例文帳に追加

常温にて時効硬化したＡｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系のアルミニウム合金板のうちヘム加工される領域の全部又は一部を選択的に１６０℃以上３５０℃以下の温度まで加熱して５ｍｉｎ以下保持した後室温まで冷却する復元処理を施す。 - 特許庁

Furthermore, the manufacturing method of the biaxially stretching lamination film for fine processing is characterized in that heat treatment is performed at a temperature of melting endothermic peak temperature Tm1 or more of a resin constituting the molded layer after biaxial stretching and less than melting endothermic peak temperature Tm2 of a resin constituting the support layer.例文帳に追加

また、本微細加工用二軸延伸積層フィルムの製造方法は、二軸延伸後に成形層を構成する樹脂の融解吸熱ピーク温度Ｔｍ１以上で、かつ、支持層を構成する樹脂の融解吸熱ピーク温度Ｔｍ２未満の温度で熱処理することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a thermocouple and a temperature sensor capable of preventing temperature disturbance of a processing object caused by heat conduction through a thermocouple element, securing flexibility of the element, and preventing breakage of the thermocouple element, in the temperature sensor and the thermocouple therefor.例文帳に追加

温度センサー及びそのための熱電対において、熱電対素線を通じての熱伝導による処理対象物の温度の乱れを防止し、素線の可撓性を確保し、さらに熱電対素線の折損を防止することのできる熱電対及び温度センサーを提供する。 - 特許庁

To perform always stable recording and reproducing operation by detecting temperature change in a device without using parts such as a temperature sensor, and by performing processing requiring re-adjustment in accordance with temperature change such as OPC and servo gain automatic adjustment with appropriate timing, in an optical disk device.例文帳に追加

光ディスク装置において、温度センサなどの部品を用いずに装置内の温度変化を検出し、ＯＰＣやサーボゲイン自動調整など温度変化に応じて、再調整が必要となる処理を適切なタイミングで行い、常に安定な記録再生動作を可能とする。 - 特許庁

The method includes a process in which a core 3b, having a softening temperature of Tci, is formed on the lower clad layer 2 having a softening temperature of Ti, and a part or all of the core 3b is embedded in the lower clad layer 2, by thermally processing the core 3b so that the temperature T satisfies Ti<T<Tci.例文帳に追加

軟化温度がＴｉである下部クラッド層２の上に形成した軟化温度がＴｃｉのコア３ｂを、温度ＴがＴｉ＜Ｔ＜Ｔｃｉとなるような温度Ｔで熱処理を行うことにより前記コア３ｂの一部又は全部を下部クラッド層２に沈み込ませる工程を有する。 - 特許庁

To provide a temperature measuring method and a measurement device, capable of precise measuring the surface temperature of an object to be measured and the like and of continuously supervising the measured temperature, concerning the thermometry of an object to be measured, such as a semiconductor wafer under the special environment in a processing chamber.例文帳に追加

処理チャンバ内等の特殊な環境下にある半導体ウェハー等の被測定物の温度測定に関し、被測定物の表面温度等の温度を正確に測定し、その測定温度を連続的に監視できる温度測定方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To avoid occurrence of defects such as pattern collapse in advance by preventing dew condensation from occurring at a substrate even when the temperature of the substrate is below the dew point temperature of the atmosphere as a result of the fact that the low-temperature fluid is supplied for processing of the substrate.例文帳に追加

基体に対して低温の流体を供給して処理した結果、当該基体の温度が雰囲気露点温度を下回ってしまう場合であっても、当該基体に結露が生じるのを防止して、パターン倒れ等の不具合発生を未然に回避できるようにする。 - 特許庁

To provide an exhaust gas post processing system quickly raising the temperature of the catalyst at an early stage of starting so as to induce early activation and cooling an exhaust system when the temperature of the exhaust gas excessively rises due to an operation state of the engine so as to protect the catalyst from the high temperature.例文帳に追加

始動初期には触媒の温度を速かに上昇させて、早期活性を誘導し、エンジンの稼動状態によって排気ガスの温度が過度に上昇する時に、排気系冷却を通じて触媒を高温から保護する排気ガス後処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a thermistor element which ensures high air-tightness between the element body and the ambient air, allows processing at a relatively low temperature, have less reaction between the thermistor element and a coating material, can accurately detect temperatures ranging from a low temperature to a high temperature and have high stability, and to provide a method of manufacturing the thermistor element.例文帳に追加

素体と外気との気密性が高く、比較的低温で処理することができ、サーミスタ素体と被覆材との反応が少なく、低温度から高温にわたり正確な温度検知が可能で、且つ安定性が高いサーミスタ素子とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an internal pressurization type low-temperature air processing equipment allowing to reduce time as the entire plant by automatically optimally evaporating all the times for reducing time of the evaporating process at any temperature state of a low-temperature fluid side such as at the time of 'cold start'.例文帳に追加

「寒冷起動」時等において、低温流体側の温度状態がいかなる場合でも、常に最適な蒸発を自動的に行って蒸発過程の時間短縮を図って、プラント全体として時間短縮を実現する内部昇圧式深冷空気分離装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method by which a syndiotatic 1,2-polybutadiene having a melting temperature suitable for mixing and processing with a rubber without using a solvent such as a halogenated solvent or carbon disulfide, and having the high melting temperature and a high syndiotactivity can be produced within the range of the melt temperature with a high catalyst activity.例文帳に追加

ハロゲン化された溶媒や二硫化炭素のような溶媒を使用せずに、ゴムと混合して加工するのに適した融点を持ちかつその範囲で高い溶融温度と高いシンジオタクティシティを有するシンジオタクチック１，２−ポリブタジエンを高い触媒活性で製造できる方法。 - 特許庁

An air conditioner ECU acquires vehicle speed information showing a vehicle speed from meter ECU (S130), acquires ambient air temperature information showing an ambient air temperature from an ambient temperature sensor (S160), and acquires wind speed information from a wind speed sensor (S180), after carrying out natural air conditioning processing using CPU.例文帳に追加

エアコンＥＣＵは、自然空調処理をＣＰＵにて実行すると、車両速度を表す車速情報をメータＥＣＵから取得し（Ｓ１３０）、外気温を表す外気温情報を外気温センサから取得し（Ｓ１６０）、風速情報を風速センサから取得する（Ｓ１８０）。 - 特許庁

While fixing a correction target temperature that is a temperature in observing the medium, for example, the colorimetric value 1231 is corrected to obtain a colorimetric value 1142 through interpolation processing based on the temperature characteristic LUT 1141, and the calibration LUT is created on the basis of the colorimetric value 1142.例文帳に追加

そして、該メディアを観察する際の温度である補正対象温度を例えば固定として、温度特性ＬＵＴ１１４１に基づく補間処理により、測色値１２３１を補正して測色値１１４２を得、該測色値１１４２に基づいて、キャリブレーション用ＬＵＴを作成する。 - 特許庁

To provide a heat developable imaging material of superior material preservability before heat development (room-temperature photographic performance and high-temperature photographic performance) and in image preservability after heat development and superior in the above photographic performances, even when rapid processing is carried out at a high temperature, and to provide a method of developing the heat developable photographic imaging material.例文帳に追加

熱現像前の正保存性（常温写真性能、高温写真性能）及び熱現像後の画像保存性に優れ、高温で迅速処理を行った場合でも上記写真性能が優れている熱現像画像形成材料及び該熱現像写真画像形成材料の現像方法。 - 特許庁

The control device 25 is equipped with a temperature raising means executing temperature processing to raise the temperature of the exhaust gas emitted from the engine 1 to the exhaust passage 26 until a predetermined time lapses after the supply of the additive to the DPNR catalyst 12 is finished by the spraying nozzle 5.例文帳に追加

制御装置２５は、噴射ノズル５によるＤＰＮＲ触媒１２への添加剤供給が終了してから所定期間が経過するまでエンジン１から排気通路２６に排出される排気を昇温させる昇温処理を実行する昇温手段を備える - 特許庁

A signal processing part 44 provided in a main body part 2 controls power supply to a heater H by receiving a temperature detection signal S which is supplied from a temperature detection signal response part 42 built in the electric heating rod 1 and which corresponds to the detected temperature of the rod.例文帳に追加

電熱ロッド１に加熱用のヒータＨと共に内蔵された、温度検出信号応答部４２から応答される、検知した電熱ロッド１の温度に対応する温度検出信号Ｓを受けて、本体部２に設けられた信号処理部４４がヒータＨの通電を制御する。 - 特許庁

This clinical thermometer is equipped with at least an infrared detector 2, probe 1, waveguide 12, temperature measurement element 3 to detect the temperature of the infrared detector 2, a signal processing means to calculate temperature, and a waterproof means 13 so that at least liquid does not infiltrate into the probe 11.例文帳に追加

少なくとも、赤外線検出器2と、プローブ11と、導波管12と、前記赤外線検出器2の温度を検知する測温素子3と、温度を演算する信号処理手段5とを備え、少なくとも前記プローブ11内へ液体が侵入しないように、防水手段13を設けた構成としてある。 - 特許庁

To perform the processing with high accuracy at a low cost even if the temperature profile of a workpiece changes to cause a change of the unit processing shape in a local processing, e.g. a reactive plasma etching, during which a large amount of heat is generated.例文帳に追加

反応性プラズマエッチング加工など加工時に発生する熱量が大きな局所加工において、被加工物の温度プロファイルが変化し、それに依って単位加工形状が変化する場合においても、高精度かつ低コストで加工を行えるようにする。 - 特許庁

The control device 42 decides whether catalyst deterioration suppressing processing for suppressing the temperature rise of a catalyst 32 should be executed or not by prohibiting the fuel cut processing, according to whether the abnormality determining processing has been executed at least once after starting the vehicle.例文帳に追加

そして、制御装置４２は、異常判定処理が車両起動後に少なくとも１回実行済であるか否かに応じて、燃料カット処理を禁止して触媒３２の温度上昇を抑制する触媒劣化抑制処理を実行するか否かを決定する。 - 特許庁

To provide an optical processing apparatus and an optical processing method that prevent or suppress re-sticking of decomposed residues on a surface of an object to be processed, and perform ultrasonic irradiation processing while suppressing a rise in temperature of the object to be processed.例文帳に追加

被処理物の表面に分解残渣が再付着することを防止または抑制することができ、しかも、被処理物の温度上昇を抑制しながら紫外線照射処理を行うことができる光処理装置および光処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a food processing device and a food processing method capable of processing all parts of food such as meat, vegetables, seafood so as to suit long term preservation without damage, while leaving over freshness and flavor components by low temperature steam, and not impairing commercial values.例文帳に追加

低温蒸気によって、新鮮味及び旨み成分を残しつつ、長期保存に適し、傷つけることなく肉、野菜、魚介類等の食品を隅々まで処理することができ、商品価値を損なわない食品処理装置及び食品処理方法を提供する。 - 特許庁

The tools is produced by introducing a cristobalitization accelerating agent to a surface or near the surface of the heat-processing tool, performing heat-processing within a temperature range of 1,000°C to 1,380°C, and subsequently further repeating the introduction of the accelerating agent and the heat-processing.例文帳に追加

これらの治具は、クリストバライト化促進剤を熱処理治具の表面または表面近傍に導入し、１０００〜１３８０℃の温度範囲内で熱処理を施した後、更に、前記促進剤の導入および熱処理を繰り返すことにより製作することができる。 - 特許庁

By forming a vessel body and a cover body of a processing plate paper material, when performing incineration processing, this medical waste vessel can suppress a substance undesirable for the environment without processing at a high temperature, and is optimal even for maintenance and management of an incinerator, and can perform waste disposal of taking into consideration the environment.例文帳に追加

加工板紙材で容器本体と蓋体を形成することで、焼却処理する際、高温で処理しなくても、環境に良くない物質を抑止でき、焼却炉の維持・管理にも最適で、環境を配慮した廃棄物処理が可能である。 - 特許庁

In a flame processing method which heat-treats the surface of a work by the flame of a flame burner 104, the temperature distribution of the flame is measured by a temperature distribution means 12 for measuring the temperature distribution, and the state of the flame is regulated, using a regulation means for regulating the state of the flame by the temperature distribution of the flame.例文帳に追加

火炎バーナ１０４の火炎により、被処理物の表面を加熱処理する火炎処理方法において、温度分布を測定する温度分布測定手段１２により、火炎の温度分布を測定する工程と、火炎の温度分布により、火炎の状態を調整する調整手段を用いて火炎の状態を調整する。 - 特許庁

An image forming apparatus is provided with fixing device having a heating member, a temperature detection part detecting the temperature of the fixing device, a heat discharging part discharging heat from the fixing device and a heat discharge processing means controlling the heat discharging effect by the heat discharging member based on the temperature detected by the temperature detecting part when the fixing device is placed in a stop state.例文帳に追加

加熱部材を備えた定着装置と、定着装置の温度を検出する温度検出部と、定着装置を放熱させる放熱部材と、定着装置が停止状態に置かれたときに、温度検出部によって検出された温度に基づいて放熱部材による放熱効果を制御する放熱制御処理手段とを有する。 - 特許庁

The wafer sensing unit is installed in the semiconductor manufacturing apparatus including a processing device which performs a heating process, and includes a module of remotely measuring a temperature of a wafer being transferred by an infrared temperature sensor and a determination module of determining that the wafer is mounted on a transfer mechanism when a measurement result indicates that the temperature is equal to or higher than a first constant temperature.例文帳に追加

ウェハセンシング装置は、加熱処理を行う処理装置を備えた半導体製造装置に装備され、搬送されるウェハの温度を赤外線温度センサーにより遠隔計測する手段と、計測結果が第１の一定温度以上の場合は、ウェハが搬送手段に搭載されていると判定する判定手段とを備える。 - 特許庁

To perform setting of a reasonable period for shifting from a print processing termination time to a power saving mode concerning an image forming apparatus with a power saving mode, especially considering a temporal variation of a caloric value required to return a temperature in a fixing section to a fixing temperature and the caloric value when heating the fixing section from an environmental temperature to the fixing temperature.例文帳に追加

省電力モードを備えた画像形成装置に係り、特に、定着部の温度を定着温度に復帰させるに必要な熱量の時間的変化と、定着部を環境温度から定着温度まで加熱するときの熱量とから、印刷処理終了時から省電力モードへ移行するための合理的な時間の設定を行う。 - 特許庁

To provide a fuel cell power generation system capable of reducing the temperature of a relevant part to become lower than an allowable temperature when the temperature of the relevant part of a fuel cell power generation device reaches the allowable temperature without increasing the capacity, installation space, and the cost of a waste heat processing device.例文帳に追加

燃料電池発電装置の該当部位の温度が許容温度に達した場合、排熱処理設備の設備容量、設置スペース及びコストの増大を招かず且つ燃料電池発電装置の出力を最低出力まで下げず、該当部位の温度を許容温度以下になるようにすることができる燃料電池発電システムを提供する。 - 特許庁

A performance determining part 413 continuously executes processing that monitors the temperature difference between the temperature of the heat generation device 21 and the temperature in the housing 11 for a predetermined period from when the temperature difference exceeds a particular threshold TH1, and determines whether or not the performance of the radiation module 20 deteriorates on the basis of the result of the monitoring result.例文帳に追加

性能判定部４１３は、温度差がある特定のしきい値ＴＨ１を超えた時点から所定期間中、発熱デバイス２１の温度と筐体１１内の温度との間の温度差を監視する処理を継続して実行し、この監視処理の結果に基づいて、放熱モジュール２０の性能が低下したか否かを判定する。 - 特許庁

A flow signal analog-digital conversion circuit 30, an adjusting arithmetic circuit 40 and a chip temperature sensor circuit 60 are installed on one semiconductor chip 100 as an integrated circuit, and a chip temperature signal outputted from the chip temperature sensor circuit 60 is inputted into the adjusting arithmetic circuit 40, to thereby perform correction for reducing the temperature depending error in a signal processing system.例文帳に追加

流量信号アナログ・デジタル変換回路３０，調整演算回路４０，チップ温度センサ回路６０を１つの半導体チップ１００上に集積回路化して設置し、チップ温度センサ回路６０から出力するチップ温度信号を調整演算回路４０に入力して信号処理系の温度依存誤差を低減する補正を行なう。 - 特許庁

A control circuit 17 in a signal processing 13 performs temperature protection control, which switches one having the lowest priority out of the power MOSFETs 8-12 in on state to off state when detected the temperature by the temperature sensor 15 exceeds a preset upper limit temperature, and provides a standby state, which suppresses re-execution of the temperature protecting control until expiration of the prescribed time.例文帳に追加

信号処理回路１３内の制御回路１７は、温度センサ１５による検知温度が予め設定された上限温度を越えたときに、オン状態にあるパワーＭＯＳＦＥＴ８〜１２のうち優先順位が最も低いものをオフ状態に切り換えるという温度保護制御を行うと共に、その後に所定時間が経過するまでの期間は上記温度保護制御の再実行を抑止した待機状態を呈する。 - 特許庁

Data value conversion processing of the detection signal of the throttle sensor 16 is performed by the interruption caused by the completion of A/D conversion, and data value conversion processing of the detection signal of the water temperature sensor 14 is performed by the timer interruption.例文帳に追加

そして、Ａ／Ｄ変換完了による割り込みにてスロットルセンサ１６の検出信号のデータ値変換処理を行ない、タイマ割り込みにて水温センサ１４の検出信号のデータ値変換処理を行なう。 - 特許庁

To provide a processing method for wafers wherein such a highly clean silicon wafer can be obtained having a low resistance that a metal impurity contained inside a silicon wafer is captured by the processing method, without performing any high-temperature heat treatment of the silicon wafer after forming a polysilicon film on the silicon wafer.例文帳に追加

ポリシリコン膜を成膜した後に高温熱処理を行うことなく、シリコンウェーハ内部の金属不純物を捕獲し、高清浄低抵抗のシリコンウェーハが得られるシリコンウェーハの加工方法を提供する。 - 特許庁

Although a reference amplifier gain of the transmission and receiving portion in the analog processing portion 20 is previously set in the parameter memory 96 inside in the digital processing portion 20, the reference amplifier gain needs to be corrected because of temperature variations.例文帳に追加

デジタル処理部９内に存在するパラメータメモリ９６には、予めアナログ処理部２０内の送受信部の基準アンプゲインが設定されているが、温度変化により、この基準アンプゲインを補正する必要がある。 - 特許庁

To provide a method of permeating and immobilizing a metal complex stably even in a low temperature processing in a batch processing method of a plating pretreatment which permeates the metal complex into a polymer using a high pressure carbon dioxide.例文帳に追加

高圧二酸化炭素を用いて金属錯体をポリマーに浸透させるメッキ前処理のバッチ処理法において、低温度の処理においても安定に金属錯体をポリマーに浸透、かつ固定化する方法を提供する。 - 特許庁