「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(328ページ目) - Weblio英語例文検索

A hollow section 20 housing an X/Y movable section 3, an X/Y fixed section 4, a Z movable section 5, and a separator 7 is formed on the surface 2a of the silicon substrate 2 by a first insulating layer 8, the wall 6, the second insulating layer 9, and the cap 10.例文帳に追加

シリコン基板２の表面２ａ上には、第１絶縁層８、壁部６、第２絶縁層９およびキャップ１０により、Ｘ／Ｙ可動部３、Ｘ／Ｙ固定部４、Ｚ可動部５および分離部７を収容する中空部分２０が形成されている。 - 特許庁

In this case, a plurality of stripes of first flat parts 8 spaces apart in parallel with each other and a sawtooth-like first rising parts 12 formed along edges of the parts 8 are formed on the layer 2, and second flat parts are formed on the layer 5.例文帳に追加

第１プラスチックフィルム層２には、互いに離間平行する複数条の第１平坦部分８と第１平坦部分８の縁部に沿った鋸歯状の第１起立部１２が形成され、第２プラスチックフィルム層５には第２平坦部分５８が形成される。 - 特許庁

To provide a single-sided double-layer write-once optical recording medium which has long term preservability improved by suppressing flocculation of Ag alloy used for a semitransmissive reflection film during preservation and by preventing inflow of water vapor in a second recording layer.例文帳に追加

片面２層追記型の光記録媒体において、半透過反射膜に使用するＡｇ合金の保存中における凝集を抑制すると共に第２記録層への水蒸気の流入を阻止し、長期保存性を改善した光記録媒体を提供する。 - 特許庁

A semiconductor memory device includes a bit line diffusion layer 11, a bit line insulating film 12, an ONO insulating film 4, a second gate electrode 6, a contact diffusion layer 13, an interlayer insulating film 9, a contact electrode 8, an ultraviolet-ray blocking film 22, and an ultraviolet-ray blocking film 21.例文帳に追加

半導体記憶装置は、ビット線拡散層１１と、ビット線絶縁膜１２と、ＯＮＯ絶縁膜４と、第２ゲート電極６と、コンタクト拡散層１３と、層間絶縁膜９と、コンタクト電極８と、紫外線遮光膜２２と、紫外線遮光膜２１とを備える。 - 特許庁

A step-up transformer 19 is constituted by winding primary windings 20a, 20b having a plurality of windings electrically connected in parallel and less in the number of turns than the secondary winding 21, on the second outer layer to cover the secondary winding 21 wound in one layer on a bar core.例文帳に追加

昇圧トランス１９は、棒コア上に１層で巻かれた二次巻線２１を覆うように外側２層目に二次巻線２１よりも巻数が少なく電気的に並列接続される複数の巻線を有した一次巻線２０ａ、２０ｂを巻いて構成される。 - 特許庁

In this case, first, first erasure is carried out for the magnetic recording layer in the recessed and projected parts of the recessed and projected pattern 2a, and second erasure is carried out for the magnetic recording layer in only the projected part of the recessed and projected pattern 2a.例文帳に追加

この際、先ず、凹凸パターン２ａの凹部および凸部における磁気記録層に対して第１消去を行い、次いで凹凸パターン２ａの凸部のみにおける磁気記録層に対して第１消去と逆向きの着磁方向での第２消去を行う。 - 特許庁

In addition, in a method of manufacturing a light-emitting device, the first substrate provided with the material layer which is patterned by the above method is irradiated with second light, whereby the material layer can be evaporated onto a third substrate which is a deposition target substrate.例文帳に追加

また、上述した方法によりパターン形成された材料層を有する第１の基板に第２の光を照射することにより、材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させることが可能な発光装置の作製方法である。 - 特許庁

A gate insulation film 52 of a TFT 12 includes a laminate structure of a first insulation film 52A made of silicon nitride (SiN), a first light-absorbing layer 52B made of a material for absorbing light of ≤420 nm wavelength, and a second insulation layer 53B made of silicon dioxide (SiO_2).例文帳に追加

ＴＦＴ１２のゲート絶縁膜５２を、窒化シリコン（ＳｉＮ）よりなる第１絶縁膜５２Ａと、４２０ｎｍ以下の光を吸収する材料よりなる第１光吸収層５２Ｂと、二酸化シリコン（ＳｉＯ_2 ）よりなる第２絶縁膜５３Ｂとの積層構造とする。 - 特許庁

The hose for refrigerant transportation has a five-layer structure, in which the first and second reinforcing layers are individually formed by spirally winding reinforcing threads in opposite directions to each other between the inside, middle and outside layers in a three-layer rubber lamination each of which has a thickness of 0.3 mm or more.例文帳に追加

それぞれ０．３ｍｍ以上の厚さを持つ内側，中央，外側の３層のゴム層の間に、補強糸が互いに逆方向に１層スパイラル巻きされた第１補強層と第２補強層をそれぞれ形成した５層構造の冷媒輸送用ホース。 - 特許庁

The first core layer in a third region A3 disposed on the opposite side from the second region about the first region as a reference and coming into contact with the first region is removed to expose the end surface of the first core layer at a border between the first region and third region.例文帳に追加

第１の領域を基準として第２の領域とは反対側に配置され、第１の領域に接する第３の領域Ａ３内の第１のコア層を除去し、第１の領域と第３の領域との境界に第１のコア層の端面を露出させる。 - 特許庁

The P-type electrode 15 is composed of a first electrode 15a located on the projection end face 13a side of the active layer 13, and a second electrode 15b which is smaller in dimensions than the first electrode 15a in the lengthwise direction and located on the reflection end face 13b side of the active layer 13.例文帳に追加

ｐ側電極１５は、活性層１３における出射端面１３ａ側を第１電極部１５ａと、反射端面１３ｂ側を第１電極部１５ａよりも長手方向の寸法が小さい第２電極部１５ｂとから構成されている。 - 特許庁

In the substrate penetration etching method, a buffer layer 62 and a metal layer 64 are formed on a first surface of the substrate 50, an etching mask pattern is formed on a second surface of the substrate facing the first surface, and the substrate 50 is subjected to the penetration etching with the pattern as the etching mask.例文帳に追加

基板貫通エッチング方法は、基板５０の第1面上にバッファ層６２と金属層６４を形成し、前記第1面と反対となる前記基板の第2面上にエッチングマスクパターンを形成した後、これをエッチングマスクとして前記基板５０を貫通エッチングする。 - 特許庁

A first trench 105b is formed in a semiconductor layer 102 through a base layer 103 and, in addition, is extended in a second direction D2 while the trench 105b is connected to one end section of the first portion P1 o a first trench 105a extended in a first direction D1.例文帳に追加

第２トレンチ１０５ｂは、ベース層１０３を貫通しつつ半導体層１０２内に形成されており、しかも、第１方向Ｄ１に延在する第１トレンチ１０５ａの第１部分Ｐ１の一端部に連結しつつ、第２方向Ｄ２に延在する。 - 特許庁

In addition, a second glass layer 32 is formed between a first talc 26 filled in a main metal fitting 50 and an inner circumferential face 58 of the main metal fitting 50, and a first glass layer 31 is also formed between the first talc 26 and the outer circumferential face 18 of the detection element 10.例文帳に追加

また、主体金具５０内に充填される第１滑石２６と、主体金具５０の内周面５８との間に第２ガラス層３２が形成され、第１滑石２６と検出素子１０の外周面１８との間にも第１ガラス層３１が形成される。 - 特許庁

In addition, as for a gate electrode of a P channel type MOS transistor, a thin oxide film 3 used in the step for forming the field oxide film is used as a gate oxide film, and the first poly-silicon layer 4 and the second poly-silicon layer 8 are laminated and used as the gate electrode 9.例文帳に追加

また、Ｐチャネル型ＭＯＳトランジスタのゲート電極については、フィールド酸化膜形成工程で用いた薄い酸化膜３をゲート酸化膜として用い、且つ第１のポリシリコン層４と第２のポリシリコン層８を積層してゲート電極９としている。 - 特許庁

Each of the organic light emitting elements 10R, 10G and 10B is so structured that, for instance, a first electrode 14 as a positive electrode, an insulation film 15, an organic layer 16 including a luminescent layer, and a second electrode 17 as a negative electrode are stacked in that order from the side of a substrate 11.例文帳に追加

有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、例えば、基板１１の側から、陽極としての第１電極１４、絶縁膜１５、発光層を含む有機層１６、および陰極としての第２電極１７がこの順に積層されている。 - 特許庁

A low-reflectivity film 21 containing SiO_2 as a main constituent is formed as a first layer on the frost 19 by applying it by a dipping method and thereafter baking it; and a high-reflectivity film 22 containing Fe_2O_3 as a main constituent is formed as the second layer by applying it by a dipping method and thereafter baking it.例文帳に追加

フロスト１９上に１層目としてＳｉＯ_２を主成分とする低屈折率膜２１を、ディピング方式で塗布後に焼成して形成し、２層目にＦｅ_２Ｏ_３を主成分とする高屈折率膜２２を、ディピング方式で塗布後に焼成して形成する。 - 特許庁

Here, the light-emitting layer 212 represents a first emission spectrum 230 having peaks in both of a region from blue to blue-green and a region from yellow to orange, and the light-emitting layer 222 represents a second emission spectrum 240 having a peak in a region from orange to red.例文帳に追加

ここで、発光層２１２は、青色〜青緑色の領域と黄色〜橙色の領域の両方にピークを有する第１の発光スペクトル２３０を示し、発光層２２２は、橙色〜赤色の領域にピークを有する第２の発光スペクトル２４０を示す構成とする。 - 特許庁

The wiring body connecting structure 1 further comprises a cover member 40 disposed on a surface of the first wiring body 10, and a conductive bonding layer 30 bonding the first end portion 13 and the second end portion 23 in the laminating layer portion 31 while ensuring conductivity.例文帳に追加

配線体接続構造体１は、さらに、第一配線体１０の表面に配置されるカバー部材４０と、積層部３１において第一端部１３と第二端部２３とを導電性を確保しつつ接着する導電接着層３０と、を備える。 - 特許庁

The inspection apparatus 10 is equipped with an illumination light source 11 which projects illumination light L, and a first absorption type linearly polarizing layer 12 and a second absorption type linearly polarizing layer 13 which transmit the illumination light L from the light source 11.例文帳に追加

検査装置１０は、照明光Ｌを投射する照明光源１１と、照明光源１１から投射された照明光Ｌを透過させる第１の吸収型直線偏光層１２及び第２の吸収型直線偏光層１３とを備えている。 - 特許庁

The method for producing a solid pharmaceutical preparation having suppressed odor comprises the formation of the first layer by coating an odorous solid pharmaceutical composition with a cellulosic coating agent and the formation of the second layer by coating the product with a polyvinyl alcohol-based coating agent.例文帳に追加

臭いを有する固形医薬組成物をセルロース系コーティング剤でコーティングして第一層を形成し、次いで、ポリビニルアルコール系コーティング剤でコーティングして第二層を形成する、臭いの防止された固形医薬製剤の製造方法により、上記の課題を解決する。 - 特許庁

The magnetic recording medium is characterized in that a first magnetic layer constituted of a ferromagnetic metal alloy containing cobalt and a non-magnetic metal oxide and a second magnetic layer consisting of a rare earth-transition metal alloy are laminated in this order on at least one surface of a substrate.例文帳に追加

支持体の少なくとも一方の面に、コバルトを含有する強磁性金属合金と非磁性金属酸化物から構成された第一磁性層と希土類遷移金属合金からなる第二磁性層をこの順に積層したことを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁

Furthermore, according to a second aspect, a method of manufacturing the thin-film solar cell comprises a step of etching part of a photoelectric conversion layer by anisotropic etching to create a texture during formation of the photoelectric conversion layer of a silicon thin-film solar cell.例文帳に追加

また、本発明の薄膜太陽電池の製造方法は、第２の局面によれば、シリコン薄膜太陽電池の光電変換層形成時に、異方性エッチングにより光電変換層の一部をエッチングし、テクスチャを作成する工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

In the sensor element 10 of this gas sensor, an active brazing material has not only high wettability to a surface in each of electrode pad parts 118, 119, 232 comprising base metal but also high wettability to surfaces of an insulation layer 51 comprising mainly alumina and the second base layer 123.例文帳に追加

ガスセンサのセンサ素子１０において、活性ロウ材は、卑金属からなる各電極パッド部１１８，１１９および２３２の表面との濡れ性のみならず、アルミナを主体とする絶縁層５１および第２基層１２３の表面との濡れ性も高い。 - 特許庁

A voltage is applied to a pn junction between the second-conductive cladding layer and the current constriction layer, and the leakage current through the pn junction is detected while the voltage is applied to the pn junction.例文帳に追加

そして、第２導電型クラッド層と電流狭窄層との間のｐｎ接合に対し電圧を印加し、ｐｎ接合に対し電圧を印加した状態で、第２導電型クラッド層と電流狭窄層との間のｐｎ接合におけるリーク電流を検出する。 - 特許庁

The organic EL display panel (13) comprises a substrate (7), a first display electrode (8) formed on the substrate (7), an organic function layer (11) formed on the first display electrode (8), and a second display electrode (12) formed on the organic function layer (11).例文帳に追加

有機ＥＬ表示パネル（１３）は、基板（７）と、該基板（７）上に形成されている第１表示電極（８）と、該第１表示電極（８）上に形成されている有機機能層（１１）と、該有機機能層（１１）上に形成されている第２表示電極（１２）と、を含む。 - 特許庁

A three-layer light transparent film constituted of a first silicon oxide film 105, a silicon nitride film 106 and a second silicon oxide film 107 is arranged on the n-type diffusion layers 103, 103 and on the p-type semiconductor layer 102 between the two n-type diffusion layers 103, 103.例文帳に追加

このＮ型拡散層１０３，１０３上と、この２つのＮ型拡散層１０３，１０３の間のＰ型半導体層１０２の上に、第１シリコン酸化膜１０５と、シリコン窒化膜１０６と、第２シリコン酸化膜１０７との３層の光透過性膜を配置する。 - 特許庁

In the display member, each of the first periodic structure layer and the second periodic structure layer, preferably has white turbidity of 50% or less with respect to the reflectance spectrum, the white turbidity being represented by {(base line intensity)/(peak intensity)-(base line intensity)}×100.例文帳に追加

この表示部材においては、前記第１の周期構造体層および前記第２の周期構造体層が、各々、反射スペクトルについて、｛（ベースライン強度）／（ピーク強度）−（ベースライン強度）｝×１００で表される白濁度が５０％以下であることが好ましい。 - 特許庁

In the organic EL apparatus 100 and the method for manufacturing the same, a photocurable resin-buffering film 621 in a lower layer side and a thermosetting resin-buffering film 622 in an upper layer side are layered between a first inorganic sealing film 61 and a second inorganic sealing film 63.例文帳に追加

有機ＥＬ装置１００およびその製造方法では、第１無機封止膜６１と第２無機封止膜６３との間では、下層側の光硬化性樹脂緩衝膜６２１と、上層側の熱硬化性樹脂緩衝膜６２２とが積層されている。 - 特許庁

This organic panel 1 is formed by arranging an organic EL element 3 interposing an organic layer 7 having at least a luminescent layer between a translucent first electrode (a transparent electrode) 5 and a non-translucent second electrode (a back plate) 8 on a translucent supporting substrate 2.例文帳に追加

有機ＥＬパネル１は、少なくとも発光層を有する有機層７を透光性の第一電極（透明電極）５と非透光性の第二電極（背面電極）８とで挟持して構成される有機ＥＬ素子３を透光性の支持基板２上に配設する。 - 特許庁

The bead cover tape 21 is formed into a two-layered structure of a first layer of a bead cover tape 23 wound along one direction along the longitudinal direction of the bead core 2, and a second layer of a bead cover tape 24 wound along a direction opposite to the one direction.例文帳に追加

前記ビードカバーテープ２１は、ビードコア２の長手方向に沿った一方向に沿って巻回された１層目のビードカバーテープ２３と、前記一方向の反対方向に沿って巻回された２層目のビードカバーテープ２４とから２層構造に構成されている。 - 特許庁

That is to say, the area of a region covered with a first electrode 13 which is an anode, an organic light-emitting layer 16, and a second electrode 17 which is a cathode is around one-fifth or less of the area of the formation region of the black resin layer 12 excluding the above area.例文帳に追加

即ち、陽極である第１の電極１３、有機発光層１６、及び陰極である第２の電極１７が重畳する領域の面積は、その領域を除いた黒色樹脂層１２の形成領域の面積に対して、約５分の１以下である。 - 特許庁

A first light shielding area that regulates a display area is arranged on a light transmission substrate, a cell thickness adjustment layer is provided on the substrate and a second light shielding area that regulates boundaries of a plurality of pixel areas is arranged on the cell thickness adjustment layer in the display area.例文帳に追加

透光性基板上に表示領域を規定する第１の遮光領域が配置され、表示領域内においては基板上にセル厚調整層が設けられ、その上に複数の画素領域の境界を規定する第２の遮光領域が設けられる。 - 特許庁

To provide the silver halide color photographic sensitive material, first, small in drop of sensitivity of an interimage effect(IIE) giving layer, and giving a desirable IIE to an IIE receiving layer, and second, superior in color reproducibility and high in sensitivity.例文帳に追加

第１にＩＩＥ賦与層の感度低下が少なく、ＩＩＥ受容層に所望の重層効果を与える技術を提供する事に有り、第２に色再現性に優れ、かつ感度の高いハロゲン化銀カラー写真感光材料及びその画像形成方法を提供する事。 - 特許庁

This printed wiring board not only has a second insulator layer at a first circuit conductor formation side of a first insulator layer with a first circuit conductor formed on the surface, but also has an inactive conductor film on the surface of the first conductor.例文帳に追加

表面に第一回路導体が形成された第一絶縁体層の第一回路導体形成面側に第二絶縁体層を有するプリント配線板であって、該第一回路導体の表面に不活性導体皮膜を有することを特徴とするプリント配線板。 - 特許庁

Subsequently, after cleaning and ammonia plasma treatment are performed, the CMP surface of a wafer 1W is exposed to an inorganic silane compound gas, such as mono- silane or the like, so as to subject a microvolume of silicon to a solid solution in the outer layer of the main conductive film 18a in the embedded second layer wirings L2.例文帳に追加

続いて、洗浄処理およびアンモニアプラズマ処理を経た後、ウエハ１ＷのＣＭＰ面をモノシラン等のような無機系シラン化合物ガスに晒すことにより、埋込第２層配線Ｌ２の主導体膜１８ａの表層に微量のシリコンを固溶させる。 - 特許庁

A transmissive optical recording medium 10 includes a first recording layer 12 and a second recording layer 14 made of a recording material such as a photopolymer capable of fixing record of information, stacked with a polarizing plate 16 between the above layers.例文帳に追加

フォトポリマー等の情報の記録を定着できる記録材料により形成された第１の記録層１２と第２の記録層１４とが、それらの間に配置された偏光板１６を介して積層配置され、透過型光記録媒体１０を構成している。 - 特許庁

Concerning an area of a part of the second metal layer M2 on the side of a source 31s overlapping the first metal layer M1 with a gate 31g formed thereon is, as shown in a frame 52, smaller in this invention (B in the right figure) than in the conventional art (A in the left figure).例文帳に追加

枠５２に示されるように、ソース３１ｓ側の第２の金属層Ｍ２のうち、ゲート３１ｇを形成している第１の金属層Ｍ１と重なっている部分の面積は、本発明（右図のＢ）の方が従来（左図のＡ）よりも小さくなっている。 - 特許庁

Then, a part formed on the bottom face of at least the recessed part 22 in the insulation layer 28 is etched with a second etchant having the property that at least the insulation layer 28 is etched without forming any residue in the conductive part 30 so that the conductive part 30 can be exposed.例文帳に追加

導電部３０に残留物を形成することなく少なくとも絶縁層２８をエッチングする性質の第２のエッチャントによって、絶縁層２８のうち少なくとも凹部２２の底面に形成された部分をエッチングして導電部３０を露出させる。 - 特許庁

The secondary light 304 is absorbed by a second wavelength converting material layer 208 containing phosphor nano-particles together with a portion of the light 308 that has passed through the first wavelength converting material layer 206 without being converted and converted into tertiary light (visible light) 306.例文帳に追加

第二次光３０４は、変換されずに第１の波長変換材料層２０６を通過した一部の光３０８とともに、燐光体ナノ粒子を含む第二の波長変換材料層２０８に吸収されて第三次光（可視光）３０６に変換される。 - 特許庁

The first interface film 53A has a film thickness with which electrical connection between the lower-layer electrode 51A and the upper-layer electrode 52A is maintained, and the second interface film 53B has a film thickness with which epitaxial growth between the substrate 15 and the diode electrode 52B is inhibited.例文帳に追加

第１の界面膜５３Ａは、下層電極５１Ａと上層電極５２Ａとの電気的接続を維持する膜厚であり、第２の界面膜５３Ｂは、基板１５とダイオード電極５２Ｂとの間におけるエピタキシャル成長を阻害する膜厚である。 - 特許庁

In the EL device 100, a light-emitting element forming base board 18 is formed, in such a way that a first electrode 12 is formed on a base board 10, a light-emitting element layer 16 is formed on the first electrode 12, and a second electrode 14 is formed on the light-emitting element layer 16.例文帳に追加

ＥＬデバイス１００において、発光素子形成基板１８は、基板１０に第１電極１２が形成され、第１電極１２の上に発光素子層１６が形成され、更に発光素子層１６の上に第２電極１４が形成されて成る。 - 特許庁

The other end of the first and the second conductive layer is connected to the contact pad to be connected to an external circuit through the conductor layer 38a which is integrally formed with the upper shield 34, and through the conductor layers 51a, 52a which are simultaneously formed with thin film coils 40, 42.例文帳に追加

第１および第２の導電層の他端は、上部シールド３４と一体に形成される導体層３８ａ並びに薄膜コイル４０，４２と同時に形成される導体層５１ａおよび５２ａを介して外部回路に接続される接点パッドに接続する。 - 特許庁

Then, the second connector section has a discharge suppressing layer 220 which is jointed to the discharge suppressing member and covers the surroundings of the surface of the insulation layer to become the conductive passage and further, has a coming-off stop engaging part 240 which is engaged with the connector part 120 of the first connector section.例文帳に追加

そして、第2コネクタ部は、前記放電抑止部材と接合されると共に、導電経路となる絶縁層表面の周囲を覆う放電抑止層220を有し、さらに第1コネクタ部の接続端子部120と係合される抜け止め係合部240を有する。 - 特許庁

A first metal layer is made to serve as a standard cell GND wiring 1, and a second metal layer is made to serve as a standard cell power supply wiring 2a, that is, two different wiring layers are provided, by which the wiring layers can be laminated easily, and the power supply wiring and the GND wiring can be lessened in dedicated area.例文帳に追加

スタンダードセル用ＧＮＤ配線１を第１メタル層、スタンダードセル用電源配線２ａを第２メタル層というように互いに異なる配線層とすることで、容易に積層化でき、電源及びＧＮＤ配線の占有面積を削減できる。 - 特許庁