「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(327ページ目) - Weblio英語例文検索

A probe 24 of a friction stir welding tool 20 is buried, while being rotated, in the second workpiece 14 which is the uppermost layer, passing the through hole 18 of the holed workpiece 16 and reaching the upper end face exposed in the through hole 18 in the first workpiece 12 (the lowest layer).例文帳に追加

摩擦撹拌接合用工具２０のプローブ２４は、回転動作しながら最上層である第２ワーク１４に埋没し、有孔ワーク１６の貫通孔１８を通過して第１ワーク１２（最下層）における貫通孔１８に露呈した上端面に到達する。 - 特許庁

The environmentally resistant film structure is a film structure covering a support having a low coefficient of thermal expansion, wherein hafnon (HfSiO_4) is a first layer 2 directly formed on a support 1, and hafnia is formed thereon as a second layer 3.例文帳に追加

更には、低熱膨張係数を有する基材を被覆する皮膜構造体において、ハフノン（HfSiO_4）を基板１上に直接形成される第１層２とし、その上にハフニアを第２層３として皮膜するようにして耐環境性皮膜構造体を構成するようにしている。 - 特許庁

At step (i), a space 105 for etching a substrate surrounded by the second electrode 17 of a resonator body 12, an insulating layer 100 and one surface 11a of a substrate 11 is formed by removing a sacrifice layer 101 by etching through an etching hole 14.例文帳に追加

工程（ｉ）では、エッチングホール１４を介して、犠牲層１０１をエッチングで除去することにより、共振子本体１２の第２電極１７と絶縁層１００と基板１１の一表面１１ａで囲まれる、基板エッチングのためのエッチング空間１０５を形成する。 - 特許庁

The charging roller body of the electrifying roller apparatus 100 makes the load with respect to the first photoreceptor coating layer 221 of the photoreceptor 200 to be less than the load with respect to the second photoreceptor coating layer 222 of the photoreceptor 200, when the body is brought into a pressurized contact with the photoreceptor 200.例文帳に追加

帯電ローラ装置１００の帯電ローラ本体は、感光体２００に圧接したときに、感光体２００の感光体の第１のコート層２２１に対する荷重を、感光体２００の感光体の第２のコート層２２２に対する荷重よりも低減させる。 - 特許庁

The second groove 5 is not completely filled up with the polycrystalline silicon resistor 6 and has a recess in the surface thereof, and an insulating layer 7 is formed in the recess so that the surface of the insulating layer 7 and the surface of the substrate 1 are held at the same level.例文帳に追加

多結晶シリコン抵抗体６は第２の溝５を完全に埋めきらず、表面に凹部を有する形状であり、その凹部内に絶縁層７が形成されており、絶縁層７表面と基板１の表面とはほぼ同じ高さを保った構造となっている。 - 特許庁

The power supply wiring group includes: an interruption power supply line for connecting the power supply switch cell and the power interruption object cell through first layer metal wiring; and a reference potential supply line for connecting the power supply switch cell and the constantly energized cell through second layer metal wiring.例文帳に追加

電源配線群は、第１層メタル配線を介して電源スイッチセルと電源遮断対象セルを接続する遮断用電源供給線と、第２層メタル配線を介して電源スイッチセルと常時通電セルを接続する基準電位供給線とを含む。 - 特許庁

By applying a voltage pulse to the first and second electrodes 111, 112 sandwiching the variable resistance layer 120 in the variable resistance element unit 100, carriers are injected into the variable resistance layer 120, whose resistance increases in response to the carrier injection by three or more orders of magnitude.例文帳に追加

可変抵抗素子部１００では、可変抵抗層１２０を挟む第１電極１１１と第２電極１１２とに、電圧パルスを印加することによって可変抵抗層１２０にキャリアの注入を行い、その抵抗値を３桁以上増大される。 - 特許庁

The transistor 100 includes a substrate 11, a gate electrode 112, a gate insulating film 113, a first semiconductor layer 114, a second semiconductor layer 115, a stopper film 116, ohmic contact layers 117, 118, a drain electrode 119, and a source electrode 120.例文帳に追加

トランジスタ１００は、基板１１と、ゲート電極１１２と、ゲート絶縁膜１１３と、第１の半導体層１１４と、第２の半導体層１１５と、ストッパ膜１１６と、オーミックコンタクト層１１７、１１８と、ドレイン電極１１９と、ソース電極１２０と、を備える。 - 特許庁

This invention relates to an organic electroluminescent element which comprises a first conductor, an organic luminous layer that emits light of an intrinsic wavelength of the first conductor, a second conductor on the organic luminous layer, and a transparent or substantially transparent substrate on at least one conductor.例文帳に追加

本発明は、第一の導体と、第一の導体上の固有波長の光を放つ有機発光層と、有機発光層上の第二の導体と、少なくとも一方の導体の上の透明又は実質的に透明な基板とを含む有機発光素子に関する。 - 特許庁

This method comprises forming a first luminescent layer consisting of a luminescent material and the dopant by evaporation, and stopping the evaporation of the dopant while continuing the evaporation of the luminous material to form a second luminescent layer consisting of the luminous material.例文帳に追加

発光性材料およびドーパントからなる第１の発光層を蒸着により成膜し、前記発光性材料の蒸着を続けたまま前記ドーパントの蒸着を止めて前記発光性材料からなる第２の発光層を成膜することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device for improving a strength against the light of a photodetecting layer in the device having a first region including an optical waveguide and a second region including the photodetecting layer for receiving the light from the first region.例文帳に追加

光導波路を有する第１領域と，この第１領域から光を受ける受光層を有する第２領域とを備える半導体装置であって，受光層の光に対する強度向上が図られた半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a substrate for a photovoltaic cell includes a first step of forming a zinc oxide thin film layer doped with a dopant on a transparent substrate, and a second step of controlling a surface structure of the zinc oxide thin film layer by etching using hydrogen plasma.例文帳に追加

本発明は、光電池用基板の製造方法に関し、透明基板にドーパントがドーピングされた酸化亜鉛薄膜層を形成する第１ステップ、及び、水素プラズマによるエッチングを通じて前記酸化亜鉛薄膜層の表面構造を制御する第２ステップを含む。 - 特許庁

A first dielectric region is formed between the first source/drain region and the second source/drain region in the MOS device, and defines the boundary of a trench which extends downward into the semiconductor layer from the upper surface of the semiconductor layer to a first distance.例文帳に追加

第１の誘電領域が、ＭＯＳデバイス内に形成され、半導体層の上面から下方に第１の距離まで半導体層の中へ延在するトレンチの境界を画定し、第１のソース／ドレイン領域と第２のソース／ドレイン領域との間に形成されている。 - 特許庁

The inorganic thin film EL element 10 has suppleness or flexibility, and emits uniform light not only in flat state but also in curved state when an alternating voltage is impressed between the first electrode layer 30 and the second electrode layer 70.例文帳に追加

無機薄膜ＥＬ素子１０は、柔軟性または可撓性を具備し、伸ばした状態のみならず、湾曲した状態であっても、第１の電極層３０と第２の電極層７０との間に交流電圧を印加したときに、均一な発光を放射する。 - 特許庁

Since a dual spacer comprising the silicon oxide film spacer 106 and the silicon nitride film spacer 108 is formed on the side surface of the conductive structure 105, a loading capacitance is reduced between the first conductive layer 102 and the second conductive layer 114.例文帳に追加

導体構造物１０５の側面上にシリコン酸化膜スペーサ１０６およびシリコン窒化膜スペーサ１０８から構成されたデュアルスペーサを形成することにより、第１導電層１０２と第２導電層１１４との間のローディングキャパシタンスを減少させる。 - 特許庁

The back-seamed casing with the casing film comprises a first outer layer 56 which contains a polyamide having a melting point of about 250°-400°F, and a second outer layer 58 which contains a polyamide having a melting point of about 250°-400°F.例文帳に追加

ケーシングフィルムを含むバックシームケーシングで、該ケーシングが、約２５０°〜４００°Ｆの融点を有するポリアミドを含有する第１の外層５６と約２５０°〜４００°Ｆの融点を有するポリアミドを含有する第２の外層５８とを含むことを特徴とするバックシームケーシング。 - 特許庁

The control means apply third and fourth potentials by which the polarity of the electric field generated in the liquid crystal layer is made constant and difference is changed in an in-plane direction of the liquid crystal layer to the first and the second electrodes in such a state that the light source is turned off.例文帳に追加

制御手段は、光源が消灯された状態において、液晶層に生じる電界の符号を一定とし、かつ液晶層の面内方向において差が変化する第３及び第４の電位を第１及び第２の電極にそれぞれ与える。 - 特許庁

To provide a fogged glass excellent in durability such as shock and chemical resistance and having appearance similar to that of frosted glass by firing glass with a coating obtained by stacking a first inner layer and a second outer layer on a glass surface and to provide a method for manufacturing the fogged glass.例文帳に追加

ガラス表面に１層目の内層と２層目の外層を積層した皮膜付きのガラスを焼成することによって、耐衝撃性、耐薬品性等の耐久性にすぐれ、すりガラス様の外観を呈する曇化ガラスとその製造方法を提供する。 - 特許庁

The potential difference between the first magnetic layer 23 and the second magnetic layer 25 is preferably ≤0.1 (V).例文帳に追加

二層の磁性層が絶縁層で分離されている多層膜を用いた磁気抵抗効果型磁気ヘッドにおいて、電極間の印加電圧をV(V)、上記多層膜の磁気抵抗変化率をP、電極間の電気抵抗をR（Ω）とした時に、VP／√Rの値が2.08／10^5 Ω・V以上となるように、VとRを設計する。 - 特許庁

The second resin layer 10b is bonded to the inorganic insulating layer 11 and made of a thermosetting resin composition having a coefficient of thermal expansion of 10 ppm/°C to 50 ppm/°C, a coefficient of elasticity of 0.1 GPa to 10 GPa, and a glass-transition temperature of 170°C or higher.例文帳に追加

第２樹脂層１０ｂは、無機絶縁層１１に接着されており、熱膨張率が１０ｐｐｍ／℃以上５０ｐｐｍ／℃以下、弾性率が０．１ＧＰａ以上１０ＧＰａ以下、ガラス転移温度が１７０℃以上である熱硬化性樹脂組成物からなる。 - 特許庁

In addition, the thread-shaped electrically-conductive rubber extending to the outside in the tire width direction along the extending direction of a slit 18 from the first electrically-conductive rubber layer 21, crossing a grounding end E and reaching a strip rubber 14 before vulcanization molding of the tire to form a second electrically-conductive rubber layer 22.例文帳に追加

また、タイヤ加硫成形前に、第１導電ゴム層２１からスリット１８の延在方向に沿ってタイヤ幅方向外側に延び、接地端Ｅを横切ってストリップゴム１４に達する糸状導電性ゴムを配置して、第２導電ゴム層２２を形成する。 - 特許庁

A pin layer magnetization direction of the SV-GMR elements R1, R3 (first set) is in the direction reverse to the direction where the soft magnetic body gear 1 exists, and a pin layer magnetization direction of the SV-GMR elements R2, R4 (second set) is a direction where the soft magnetic body gear 1 exists.例文帳に追加

ＳＶ−ＧＭＲ素子Ｒ１，Ｒ３（第１組）のピン層磁化方向は軟磁性体歯車１の存在する方向の逆方向であり、ＳＶ−ＧＭＲ素子Ｒ２，Ｒ４（第２組）のピン層磁化方向は軟磁性体歯車１の存在する方向である。 - 特許庁

This composite sheet 10 comprises a first layer 1 which is composed of a short fiber, and a second layer 2 which is composed of a continuous filament 5 oriented in one direction; and both the layers 1 and 2 are partially joined together in many joints 3 so as to be integrated together in a thickness direction.例文帳に追加

本発明の複合シート１０は、短繊維からなる第１の層１と、一方向に配向した連続フィラメント５からなる第２の層２とを有し、両層１，２は多数の接合部３において部分的に接合されて厚さ方向に一体化されている。 - 特許庁

Then a cover 22 (press member) is closed to press the FPC 30 and then a state of contact between wiring 32 (second conductor layer) of the FPC 30 and wiring 12 (first conductor layer) of a PCB 10 (motherboard) is surely maintained by the elastic force of the folded FPC 30.例文帳に追加

そして、蓋２２（押圧部材）を閉じることにより、ＦＰＣ３０を押圧すると、折り曲げられたＦＰＣ３０の弾性力で、ＦＰＣ３０の配線３２（第２の導体層）と、ＰＣＢ１０（母基板）の配線１２（第１の導体層）との接触状態が確実に維持される。 - 特許庁

A first rubbing density at the time when rubbing treatment is performed to an alignment layer 16 formed on an element substrate 10, and a second rubbing density at the time when rubbing treatment is performed to an alignment layer 22 formed on a counter substrate 20 are made mutually different.例文帳に追加

素子基板１０上に形成された配向膜１６に対するラビング処理時の第１のラビング密度と対向基板２０上に形成された配向膜２２に対するラビング処理時の第２のラビング密度とを、相互に異ならせたことを特徴とする。 - 特許庁

The second semiconductor layer includes at least one kind of oxide particle selected from a group of Al_2O_3, SiO_2, ZrO_2, SrTiO_3, and Nb_2O_5, and the first semiconductor layer does not include oxide particle substantially.例文帳に追加

第二の半導体層には、Ａｌ_2Ｏ_3、ＳｉＯ_2、ＺｒＯ_2、ＳｒＴｉＯ_3、Ｎｂ_2Ｏ_5からなる群から選択される少なくとも１種の酸化物粒子が含有されており、第一の半導体層には酸化物粒子が実質的に含有されていないことを特徴とする。 - 特許庁

The first buffer layer has a cavity 110a provided over the recessed portion of the sapphire substrate, and the first buffer layer has a first region 110e and a second region 110f provided between the first region and the sapphire substrate and having higher carbon concentration than the first region.例文帳に追加

第１バッファ層は、サファイア基板の凹部の上に設けられた空洞１１０ａを有し、第１バッファ層は、第１領域１１０ｅと、第１領域とサファイア基板との間に設けられ第１領域よりも炭素濃度が高い第２領域１１０ｆと、を有する。 - 特許庁

The double-sided pressure-sensitive adhesive sheet 10 includes a transparent conductive base material 11, a first pressure-sensitive adhesive layer 12 provided on one face of the transparent conductive base material 11, and a second pressure-sensitive adhesive layer 13 provided on the other face of the transparent conductive base material 11.例文帳に追加

本発明の両面粘着シート１０は、透明導電基材１１と、透明導電基材１１の一方の面に設けられた第１の粘着剤層１２と、透明導電基材１１の他方の面に設けられた第２の粘着剤層１３とを備える。 - 特許庁

Moreover, as for a portable electronic device equipped with a light source, as well as an electroluminescent light source equipped with the first luminescent layer (L7) and the second luminescent layer (L9), these luminescent layers are constituted so as to emit a light of substantially the same color from the light source.例文帳に追加

本発明はさらに、光源を備える携帯用電子デバイス、及び第１の発光層(Ｌ７)と第２の発光層(Ｌ９)とを備えるエレクトロルミネセント光源に関し、これらの発光層は光源から実質的に同じ色の光を放射するように構成される。 - 特許庁

The retardation plate has a transparent support; a first optical anisotropic layer formed of a crystalline high molecular compound horizontally oriented above the transparent support and a second optical anisotropic layer formed of the crystalline high molecular compound horizontally oriented above the transparent support.例文帳に追加

透明支持体と、その上方に水平配向した液晶性高分子化合物から形成される第１の光学異方性層及び水平配向した液晶性高分子化合物から形成される第２の光学異方性層を有する位相差板である。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process of bonding the layer 12 to be transferred arranged on a first substrate (transfer origin substrate 10) and a second substrate (first transfer destination substrate 20) and a process of peeling the layer 12 to be transferred from the first substrate 10.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、第１基板（転写元基板１０）上に配置された被転写層１２と第２基板（第１転写先基板２０）とを接着する工程と、被転写層１２を第１基板１０から剥離する工程とを含む。 - 特許庁

Since the first current constriction layer 17 principally has a function for confining light and the second current constriction layer 22 principally has a function for constricting a current, the mode and element resistance can be controlled by adjusting each constriction area.例文帳に追加

主として、第１の電流狭窄層１７は光を閉じこめる機能を有し、一方、第２の電流狭窄層２２は電流を狭窄する機能を有するので、それぞれの狭窄面積を調整することにより、モードの制御、および素子抵抗の制御が可能になる。 - 特許庁

A trench is formed on a first conductive substrate that becomes a drift layer (steps S1 and S2), a second conductive epitaxial layer is formed on the trench (step S3), and then each surface structure is formed for the base area, gate-oxide film, gate electrode, emitter area and emitter electrode.例文帳に追加

ドリフト層となる第１導電型基板にトレンチを形成し（ステップＳ１，Ｓ２）、そのトレンチに第２導電型エピタキシャル層を形成した後（ステップＳ３）、ベース領域、ゲート酸化膜、ゲート電極、エミッタ領域、エミッタ電極等の表面構造を形成する。 - 特許庁

The negative photosensitive resin composition is spin-coated and dried on a semiconductor substrate 1 on which a first conductor layer 3, a second conductor layer 7 and an interlayer insulating film 4 have been formed, and light is illuminated through a mask of a pattern for forming a window 6C in a predetermined portion.例文帳に追加

第１導体層３、第２導体層７及び層間絶縁膜４が形成された半導体基板１に、ネガ型感光性樹脂組成物をスピンコートして乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンのマスク上から光を照射する。 - 特許庁

An adhesion layer carries a laminate 30 sandwiched between a first silicon substrate and a second silicon substrate into a vacuum chamber 11 and forms a concavity in the laminate 30 which extends in a laminated direction of the laminate 30 penetrating the first silicon substrate and the adhesion layer.例文帳に追加

接着層が、第１シリコン基板と第２シリコン基板とに挟まれた積層体３０を真空槽１１に搬入し、該積層体３０に対し、第１シリコン基板と接着層とを貫通して積層体３０の積層方向に延びる凹部を形成する。 - 特許庁

First, a first resist layer 21 including a pattern corresponding to an opening 11 is formed on one surface 20A of a metal substrate 20, and a second resist layer 22 including a pattern corresponding to a recessed part 14 defining the outline of the base 12 is formed on the other surface 20B of the metal substrate 20.例文帳に追加

まず金属基板２０の一面２０Ａに、開孔１１に対応するパターンを含む第１のレジスト層２１を設け、金属基板２０の他面２０Ｂに、台座１２の外形を定める凹部１４に対応するパターンを含む第２のレジスト層２２を設ける。 - 特許庁

Accordingly the second light shielding layer 13, coated with the corrosion inhibiting barrier layer 17, is prevented from being corroded even when the common electrode 15 is corroded by an electrochemical reaction due to a strong electric field expressed by an arrow in figure 1 or the like.例文帳に追加

したがって、図１において矢印で示す強電界等に起因する電気化学反応により、共通電極１５が腐食しても、腐食防止用バリア層１７によって覆われた第２の遮光膜１３に腐食が生じないようにすることができる。 - 特許庁

In a circuit module where a mold resin for molding the electronic components mounted on a board is structured in two layers and the resin in the second layer is composed of conductive resin and is connected to ground, a hollowed-out section of this conductive resin layer is formed right above the mounted electronic components.例文帳に追加

基板上に実装した電子部品をモールドするモールド樹脂を２層化し、２層目の樹脂を導電性樹脂として、これをグランドに接続した回路モジュールにおいて、実装された電子部品の直上にこの導電性樹脂層のくり抜き部を形成する。 - 特許庁

The substrate with the built-in semiconductor IC includes the semiconductor IC 120, in which a stud bump 121 is formed on a main face 120a, a first resin layer 111 for covering the main face 120a of the semiconductor IC 120, and a second resin layer 112 for covering a rear face 120b of the semiconductor IC 120.例文帳に追加

主面１２０ａにスタッドバンプ１２１が設けられた半導体ＩＣ１２０と、半導体ＩＣ１２０の主面１２０ａを覆う第１の樹脂層１１１と、半導体ＩＣ１２０の裏面１２０ｂを覆う第２の樹脂層１１２とを備える。 - 特許庁

A capacitor element 12 comprises: a pair of conductor layers 14 and 16; a dielectric layer 18 provided between the pair of conductor layers 14 and 16; and a plurality of first electrodes 20 and second electrodes 24 formed in the dielectric layer 18 in directions substantially perpendicular to the conductor layers 14 and 16, respectively.例文帳に追加

コンデンサ素子１２は、一対の導電体層１４，１６間に誘電体層１８が設けられ、該誘電体層１８中に、前記導電体層１４，１６と略直交する方向に第１電極２０，第２電極２４が複数形成されている。 - 特許庁

The display panel is provided with a plurality of sub-pixels, and each of the sub-pixels is provided with any of a red-type first colored layer, a blue-type second colored layer, and third and fourth two kinds of colored layers, selected arbitrarily from among hues of blue to yellow.例文帳に追加

表示パネルには、複数のサブ画素が設けられ、赤系の第１着色層、青系の第２着色層、青から黄までの色相の中で任意に選択された第３及び第４の２種類の色の着色層のいずれかを前記サブ画素に備える。 - 特許庁

Writing into the memory element is executed by the application of a voltage to electrically connect the first conductive layer 110 and the second conductive layer 112 via a conductive portion formed by the fusion of the nano-particles 114 composed of the conductive material.例文帳に追加

記憶素子への書き込みは、電圧の印加により導電性材料よりなるナノ粒子１１４の融着により形成される導電部を介して第１の導電層１１０と第２の導電層１１２とが電気的に接続させることにより行う。 - 特許庁

To provide a neutral-beam-utilizing atomic layer vapor deposition apparatus wherein a workpiece is irradiated with a neutral beam formed by neutralizing a radical flux, i.e., an ion beam, generated by converting a second gas into a plasma, and to provide an atomic layer vapor deposition method utilizing the apparatus.例文帳に追加

第２の反応ガスをプラズマ化して発生されたラジカルのフラックス、すなわち、イオンビームを中性ビーム化して被処理基板に照射するようにした中性ビームを利用した原子層蒸着装置及びこの装置を利用した原子層蒸着方法を提供する。 - 特許庁

Next, the outer channel encoded bit stream is made into inner channel code by using an inner channel code such as a convolution code or a turbo code, for example, designated inside the second network layer such as a physical layer, for example, of the system so that a channel encoded bit stream can be generated.例文帳に追加

次に、外チャネル符号化されたビット流を、システムの第二のネットワーク層、例えば、物理層内で、指定される内チャネル符号、例えば、畳込み符号あるいはターボ符号を用いて内チャネル符号化することで、チャネル符号化ビット流が生成される。 - 特許庁

This polarizing beam splitter 100A has a structure constituted by sandwiching the first parallel flat plate layer 106A having the polarizing separation function, thickness t_106A, and refractive index N_106A and the second parallel flat plate layer 108A having thickness t_108A and refractive index N_108A in between glass prisms 102, 104 having refractive index Np.例文帳に追加

偏光ビームスプリッタ１００Ａは、偏光分離機能を持つ厚みｔ_106A ，屈折率Ｎ_106A の第１平行平板層１０６Ａと、厚みｔ_108A ，屈折率Ｎ_108A の第２平行平板層１０８Ａを、屈折率Ｎｐのガラスプリズム１０２，１０４に挟み込んだ構造にする。 - 特許庁