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second layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 21457件
A portion of the land is covered with the mask layer, and a sidewall of another portion of the land is exposed by the opening, and the circumference of the opening includes a plurality of second group arcs, and a radius of the outermost arc from among the plurality of first group arcs is equal to a radius of the outermost arc from among the plurality of second group arcs.例文帳に追加
ランドの一部分はマスク層によって覆われ、ランドの他部分の側壁は開口によって露出され、開口はその枠に複数の第2群の弧を備え、複数の第1群の弧のうち最外郭弧の半径は、複数の第2群の弧のうち最外郭弧の半径と同じである。 - 特許庁
At least near a gap 4 on one of the surfaces of a magnetic head core 2 formed by laminating first magnetic materials, a second magnetic material layer 5 formed of the second magnetic material of characteristics different from the first magnetic material whose magnetic permeability or magnetic flux density is higher than the first magnetic material for instance is provided.例文帳に追加
第1の磁性材を積層して形成された磁気ヘッドコア2の一方の面の少なくともギャップ4近傍に第1の磁性材とは特性が異なる、例えば第1の磁性材より透磁率又は磁束密度が高い第2の磁性材から形成された第2の磁性材層5を設ける。 - 特許庁
A write head 70 has first and second pole pieces 100, 102 which are connected at a back gap 108 and an insulation stack 110 with a write coil layer 112 embedded therein is located between the first and second pole pieces and between a head surface ABS and the back gap 108.例文帳に追加
書込みヘッド70は、バック・ギャップ108で結合されている第1及び第2磁極片100,102を有しており、書込みコイル層112がその中に埋め込まれた絶縁スタック110が第1及び第2磁極片の間、ヘッド表面ABSとバック・ギャップ108の間に位置している。 - 特許庁
Then, the laser dicing is performed on a region between the first groove 108a and the second groove 108b along the scribe line 120 from the surface where the second protective film is formed to form a cutting groove 100a that reaches at least a predetermined depth of the multi-layer interconnect 104.例文帳に追加
この後、第2の保護膜が形成された面から第1の溝108aと第2の溝108bとの間の領域をスクライブライン120に沿ってレーザダイシングで切断して、多層配線層104の少なくとも所定の深さまで達する切断溝100aを形成する。 - 特許庁
A gap is formed between the inter-layer insulating film 22 and the second dummy gate electrode 26, by selectively removing the dummy side spacer 24, and then by implanting N-type impurity ions into the Si substrate 12 through the gap almost vertically, a second pocket region 27 is formed.例文帳に追加
選択的にダミーサイドスペーサー24を除去することにより層間絶縁膜22と第2ダミーゲート電極26との間隙を形成した後、ほぼ垂直方向からこの間隙を通じてSi基板11内にN型不純物イオンを注入することにより、第2ポケット領域27を形成する。 - 特許庁
The phase-change memory device comprises a first electrode 40 and a second electrode 48 arranged in opposition to each other, a phase-change substance layer 46 interposed between the first electrode and the second electrode and including phase-change nano particles, and a switching device 30 electrically linked with the first electrode.例文帳に追加
相互に対向配置される第1電極40及び第2電極48と、第1電極と第2電極との間に介在されるものであって、相変化ナノ粒子を含む相変化物質層46と、第1電極に電気的に連結されるスイッチング素子30と、を備える相変化メモリ素子である。 - 特許庁
On the n^--type semiconductor substrate 1, an accumulation layer 7 is formed on the side of a second principal surface 1b of the n^--type semiconductor substrate 1, and irregular unevenness 10 is formed in regions of a first principal surface 1a and the second principal surface 1b which are opposed to the pn junction.例文帳に追加
n^−型半導体基板1には、n^−型半導体基板1の第2主面1b側にアキュムレーション層7が形成されていると共に、第1主面1a及び第2主面1bにおける少なくともpn接合に対向する領域に不規則な凹凸10が形成されている。 - 特許庁
An opening 7a for allowing video image light from the luminous function layer 6 to pass through is formed in one portion of the second electrode 7, a first luminous region L1 is formed on the side of the glass substrate 2, and a second luminous region L2 is formed on the side of the sealing member 8.例文帳に追加
第二電極7の一部には発光機能層6からの映像光を通過させる開口7aが形成されており、前記ガラス基板2側において第一発光領域L1 が形成され、封止部材8側において第二発光領域L2 が形成される。 - 特許庁
At least one of the first and second optical laminates comprises a combination-type polarizing plate having a first polarizing plate 1 and a second polarizing plate 2 disposed parallel to each other with at least one pair of end faces opposing to each other on the opposite side of the optical compensation layer to the liquid crystal cell.例文帳に追加
第1及び第2の光学積層体のうち少なくとも一方は、少なくとも1組の端面が対向するように、光学補償層の液晶セルと反対側の面に並設された第1の偏光板1及び第2の偏光板2を有する組み合わせ型偏光板とされる。 - 特許庁
As to the playback of the DVD having the maximum frequency in use, the discriminating operation for the drive of the second layer source 46 is performed after the discriminating operation of the drive of the first laser source 45, then this operation can shift to the playback operation keeping the successive driving operation of the second laser source 46 as it is.例文帳に追加
最大使用頻度のDVDの再生にあたっては、第1レーザ源45の駆動の判別用動作の後に、第2レーザ源46の駆動の判別用動作を行い、その第2レーザ源46の駆動を引続き行ったままで、再生動作に移行することができる。 - 特許庁
The lower case part 2 includes a second inner case 2a engaged with and fixed to the first inner case 1a and a lower covering member 2b which is formed of a soft material, covers the second inner case 2a, and constitutes the surface layer portion of the holder section 3a together with the upper covering member 1b.例文帳に追加
下部ケース部2は、第1インナーケース1aに係合固定される第2インナーケース2aと、軟質な材料により形成され、第2インナーケース2aを被覆するとともに上部被覆部材1bと共にホルダー部3aの表層部分を構成する下部被覆部材2bとを備える。 - 特許庁
Then, a second base plate with a second gas flow channel formed in discharge devices 120j, 120k is arranged at a given position on the first base plate to complete manufacturing of the fuel cell with a narrow opening width of the gas flow channel as compared with a particle size of a substance constituting the gas diffusion layer.例文帳に追加
そして、吐出装置120j、120kにおいて第2のガス流路が形成された第2の基板を、第1の基板上の所定の位置に配置してガス拡散層を構成する物質の粒径に比較してガス流路の開口幅が狭い燃料電池の製造を完了する。 - 特許庁
The multilayer ceramic capacitor 10 can be sectioned for convenience into a first layered body 11 and a second layered body 12 wherein a large number of first layered bodies 11 and second layered bodies 12 are laid in layers alternately such that the internal electrodes (13a, 13b) face each other while sandwiching a ceramic layer 14.例文帳に追加
積層セラミックコンデンサ10は、第1積層体11と第2積層体12に便宜上区画でき、第1積層体11と第2積層体12は、共にセラミック層14を挟んで内部電極(内部電極13a、内部電極13b)を対向するよう交互に多数積層させる。 - 特許庁
In the place where the developing roller 17 and second charger 19 are disposed opposite to each other in this state, positively charged toner in liquid developer is moved from the developing roller 17 (the deeper layer side of the liquid developer) toward the second charger 19 (the surface side of the liquid developer).例文帳に追加
この状態では、現像ローラー17と第2帯電器19とが対向する位置において、液体現像剤中に含まれる正帯電性のトナーは、現像ローラー17側(液体現像剤の深層側)から第2帯電器19側(液体現像剤の表層側)へと移動する。 - 特許庁
A display device 51 includes a first substrate 1, a ground electrode 2 formed on a surface of the first substrate 1, a second substrate 3 provided to face the first substrate 1, and a conductive layer 4 formed on a surface of the second substrate 3 that is opposite to the first substrate 1 side.例文帳に追加
表示装置51は、第1基板1と、第1基板の表面上に形成された接地用電極2と、第1基板1と対向して設けられた第2基板3と、第2基板3における第1基板1と反対側の表面上に形成された導電層4とを備える。 - 特許庁
Subsequently, a second resist pattern 31 having openings 31a, 31b on the openings 30a, 30b, respectively, is formed without removing the first resist pattern 30, and second metal layers 26a, 26b to be metal bumps 23, 24 are formed, respectively, by electrolytic plating by using the first metal layer 25 as an electrode.例文帳に追加
続いて、第1レジストパターン30を除去せずに、開口部30a、30b上に開口部31a、31bを有する第2レジストパターン31を形成し、第1金属層25を電極とする電解メッキにより金属バンプ23、24となる第2金属層26a、26bを形成する。 - 特許庁
On a section along the width direction of the wiring section 50, the first writing conductor W1, the first and second reading conductors R1, R2, and the second writing conductor W2 are arranged in three dimensions by changing the heights thereof in the thickness direction of the insulating layer 21.例文帳に追加
配線部50の幅方向に沿う断面において、第1の書込用導体W1と、第1および第2の読取用導体R1,R2と、第2の書込用導体W2とが、それぞれ絶縁層21の厚み方向に高さを変えて立体的に配置されている。 - 特許庁
In an illumination structure, a side to be illuminated of a light emission device 10 has a double layer structure comprising a first housing case 20 and a second housing case 30, and an EL sheet 40 is laminated between both the cases on a surface on a design side of the second housing case 30.例文帳に追加
本発明の照光構造は、発光装置10の照光させたい側を第一筐体ケース20と第二筐体ケース30の二層構造とし、ELシート40を両ケースの間であり第二筐体ケース30の意匠側表面に積層する構造を特徴とする。 - 特許庁
By forming the electroce non-formation sections of the specified width (h) at the ends in the wind-up direction of the first and second electrodes 12, 16, there is no short circuit generated between the first and second electrodes 12, 16 even if a difference in contraction is generated between each layer of the piezoelectric element laminated body when firing the laminated body.例文帳に追加
第1電極12と第2電極16の巻き上げ方向端部に所定幅hの電極非形成部を形成することで、焼成の際に圧電素子積層体の各層間に収縮差が生じても、第1電極12と第2電極16との間で短絡することがない。 - 特許庁
The copper wiring layer 13 includes first terminal portions 13D connected to the electrodes 15A on the semiconductor chip 15, second terminal portions 13E connected to the external wiring members 21, and wiring portions 13C connecting the first terminal portions 13D and the second terminal portions 13E.例文帳に追加
銅配線層13は、半導体チップ15上の電極15Aと接続される第1端子部13Dと、外部配線部材21と接続される第2端子部13Eと、第1端子部13Dと第2端子部13Eとを接続する配線部13Cとを含んでいる。 - 特許庁
Regarding the compound machine determined as the power supply destination, a first fixing heater using the power of the electric double layer capacitor and a second fixing heater using the power of the commercial power source are driven by first and second fixing heater driving circuits, then, the fixing part is heated.例文帳に追加
電力供給先として判定された複合機においては、第1及び第2定着ヒータ駆動回路により、電気二重層キャパシタの電力を用いる第1定着ヒータと、商用電源の電力を用いる第2定着ヒータとが駆動されて定着部の加熱が行われる。 - 特許庁
In the composite machine 31 or the like, the fixing part is heated by switching the driving and non-driving of both a first fixing heater by using the power of the electric double-layer capacitor and a second fixing heater by using the power of the commercial power source by first and second fixing heater drive circuits.例文帳に追加
複合機31等では、第1及び第2定着ヒータ駆動回路により、上記電気二重層キャパシタの電力を用いる第1定着ヒータと、商用電源の電力を用いる第2定着ヒータの両ヒータの駆動非駆動が切り換えられて定着部の加熱が行われる。 - 特許庁
Then, the surface on the side where the first cores 13a are formed, of the first substrate 11 and the surface on the side where the second cores 18a are formed, of the second substrate 16 are opposite to each other and integrated with each other by interposing a third clad layer, to form the optical waveguide.例文帳に追加
次に、第1の基板11の第1のコア13aが形成されている側の面と、第2の基板16の第2のコア18aが形成されている側の面とを対向させ、第3のクラッド層を介在させて一体化させることにより光導波路を形成する。 - 特許庁
Since the second light shielding area such as a black matrix is extremely thin in comparison with the first light shielding area such as the peripheral breaking parts, it is difficult to form the respective layers as thickness as designed values in the case of laminating a plurality of layers and the layer thickness of the second light shielding area tends to become thinner.例文帳に追加
ブラックマトリクスなどの第2の遮光領域は、周辺見切りなどの第1の遮光領域と比べて非常に細いので、複数の層を積層する際に設計値通りの厚さに各層を形成することが困難であり、第2の遮光領域は層厚が薄くなる傾向がある。 - 特許庁
The thermal conduction layer 22 is composed of an insulation board 24, a first joining material 26 including an active element for joining the insulation board 24 on the heat sink material 20, a second joining material 28 formed on the insulation board 24, and an electrode 30 formed on the second joining material 28.例文帳に追加
熱伝導層22は、絶縁基板24と、該絶縁基板24をヒートシンク材20に接合するための活性元素を含む第1の接合材26と、前記絶縁基板24上に形成された第2の接合材28と、該第2の接合材28上に形成された電極30とから構成される。 - 特許庁
The semiconductor device is provided with a second capacitor which is formed by providing an upper electrode 540, on the upper side of a first electrode 520 (surface strap) electrically connecting a source diffused layer S of a MOS transistor and a storage electrode 330 of a deep trench capacitor C_DT, by means of a second insulating film 530.例文帳に追加
MOSトランジスタのソース拡散層SとディープトレンチキャパシタC_DTのストレージ電極330を電気的に接続する第一の電極(サーフェスストラップ)520上部に、第二の絶縁膜530を介して上部電極540を形成し、第二のキャパシタを備える。 - 特許庁
Then, many second linear metal layers 22B, arranged in other directions different from the one direction, are formed on the transparent base 21 through mask vapor deposition, and the mesh-like metal layer 22 is formed of these first linear metal layers 22A and the second linear metal layers 22B.例文帳に追加
次に、透明基材21上に、マスク蒸着により、一方向と異なる方向の他方向に並ぶ直線状の多数の第2直線状金属層22Bを形成し、これら第1直線状金属層22Aと第2直線状金属層22Bとによってメッシュ状金属層22を形成する。 - 特許庁
The second adhesion part 22 has an inner peripheral end 221 exposed to the hollow part 169, with a sharp adhesion angle α formed between an exposed surface 222 of the inner peripheral end 221 and a second surface 172 of the diffusion resistance layer 17 in a cross section in a lamination direction.例文帳に追加
第2接着部22は、その内周端部221を中空部169に露出させていると共に、内周端部221の露出面222と拡散抵抗層17の第2表面172との間に形成される接着角αが積層方向の断面において鋭角である。 - 特許庁
A first and a second magnetic shielding layers 60a, 60b are respectively formed beneath a transistor part 20 on the device-packaging side of an MRAM device 10 and on a bit line 50 of the opposite side of the device-packaging side, and a passivation film 70 is formed on the second magnetic shield layer 60b.例文帳に追加
MRAM素子10の素子実装面側のトランジスタ部20下面および素子実装面側と反対側のビット線50上面に、軟磁性金属を用いて第1,第2の磁気シールド層60a,60bをそれぞれ形成し、第2の磁気シールド層60b上にはパシベーション膜70を形成する。 - 特許庁
The recording medium further includes a thermal deformation suppressing layer formed on the second surface of the resin substrate excluding the inner peripheral area of a predetermined width from the center hole, the recording area, and the outer peripheral side nonrecording area, and having a second thermal expansion factor smaller than the first thermal expansion factor.例文帳に追加
記録媒体は更に、中心穴から所定幅の内周領域、記録領域及び外周側非記録領域を除き、樹脂基板の第2面上に形成された、第1の熱膨張率より小さな第2の熱膨張率を有する熱変形抑制層を含んでいる。 - 特許庁
First and second color layers 33 and 46 are formed, and openings 49 are formed in an etching step, and then, a third color layer 50 is formed so as to cover all of surfaces of the first and the second color layers 33 and 46 and fill the openings 49.例文帳に追加
第1及び第2の着色層33,46を形成し、さらにエッチング工程にて開口部49を形成した後に、第1及び第2の着色層33,46上全体を覆うと共に、開口部49に埋め込むようにして、第3の着色層50を形成する。 - 特許庁
The main surface of the directly under dielectric layer V12 arranged with the second path end pad 20 is covered with a path end side surface conductor 19, and an opening 19a for second path end pad is formed at a position corresponding to a core side pad 18 of the path end side surface conductor 19.例文帳に追加
直下誘電体層V12の第二経路端パッド20が配置されている主表面は、経路端側面導体19にて覆われてなり、該経路端側面導体19のコア側パッド18に対応する位置に第二経路端パッド用開口19aが形成される。 - 特許庁
In this case, since luminance distribution of the first display image 105 can be uniformalized by the diffusion layer 4, an image 121 of B in the second display image 110 can be blurred and thus, the occurrence of a duplicated image in the second display image 110 can be suppressed.例文帳に追加
この場合、拡散層4により第1の表示像105の輝度分布を均一化することができるため、第2の表示像110におけるBの像121をぼかすことができ、よって、第2の表示像110における2重像の発生を抑制することができる。 - 特許庁
The IC card is provided with a first base material packaging an electronic circuit and a second base material on a side opposite to the side of the first base material packaging the electronic circuit at least and has a fine porous synthetic resin film as the outer-most side layer of this first and/or second base material.例文帳に追加
ICカードは、電子回路を装着した第1の基材と、該第1の基材の電子回路を装着した面に対向する側に第2の基材とを少なくとも備え、微多孔性合成樹脂フィルムを該第1および/または第2の基材の最表側層として有している。 - 特許庁
Moreover, part of or all of the radio wave absorbing wall 4 has a transparent radio wave absorbing body 5 formed by sequentially laminating a first resin film 7, a first resistance film 10, an air layer 9, a second resistance film 11 and a second resin film 8 from inside 18 where the scanner is arranged toward outside.例文帳に追加
さらに、電波吸収壁4の一部乃至全部は、スキャナが配設される内側18から外側19に向かって第1樹脂層7、第1抵抗膜10、空気層9、第2抵抗膜11、第2樹脂層8を順次積層状に形成された透明の電波吸収体5を有しているものである。 - 特許庁
Rear faces 9, 18 side of the first and second sockets 2, 3 are mutually opposed, and arranged on the same face of motherboard 1, and the motherboard is made as a multilayer structure, and via wiring patterns 27, 29 formed in each layer of motherboard 9, respective terminals 7, 8, 20, 21 of the first and second socket are mutually connected.例文帳に追加
第1及び第2ソケット2,3の背面9,18側を互いに対向させてマザーボード1の同一面に配置し、該マザーボードを多層構造とし、該マザーボードの各層に形成された配線パターン27,29を介して前記第1及び第2ソケットの各端子7,8,20,21同士を接続させる。 - 特許庁
As the shielding film 47 made of a second-layer aluminum film, the first light-shielding film 47a having the same potential as a source electrode 43 on the source electrode 43, and a second light-shielding film 47b having floating potential on the EQR electrode 45 are alienated by specific distance for arranging on a guard ring electrode 44.例文帳に追加
第2層アルミニウム膜からなる遮光膜47として、ソース電極43上にソース電極43と同電位の第1遮光膜47aと、EQR電極45上にフローティング電位の第2遮光膜47bとを、ガードリング電極44上で所定距離離間して配置する。 - 特許庁
The first coat of slurry is applied on a basic layer of carbon 6 and dried to form a first underlayer 7 and the second coat of slurry is applied on the underlayer 7 and dried to form a second underlayer 8 of which surface roughness is 40μm or less at maximum height Rmax, which provides a diffusion electrode 5.例文帳に追加
第1のスラリーを炭素基材層6上に塗布、乾燥し、第1の下地層7を形成し、第2のスラリーを下地層7上に塗布、乾燥して、表面粗さの最大高さRmaxが40μm以下の第2の下地層8を形成し、拡散電極5を形成する。 - 特許庁
The reflective liquid crystal display device is provided with a first polarizing plate 11, a first optical retardation plate 13, a twisted optical retardation plate 12, an STN(supertwisted nematic) liquid crystal element 21 containing a semitransmissive reflection layer 9 inside, a second optical retardation plate 18, a second polarizing plate 17 and a backlight 16.例文帳に追加
第1の偏光板11と、第1の位相差板13と、ねじれ位相差板12と、半透過反射層9を内在したSTN液晶素子21と、第2の位相差板18と第2の偏光板17とバックライト16とを備えるなる反射型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
Since the first and second device layers 20 and 40 are formed separately in manufacturing processes for the first device unit 2 and the second device unit 4, the formation method for a device layer is not limited, whereas it is limited when a plurality of device layers are sequentially laminated.例文帳に追加
第1のデバイス層20および第2のデバイス層40は、第1のデバイスユニット2と第2のデバイスユニット4の製造工程においてそれぞれ個別に形成されるので、複数のデバイス層を順次積層形成する場合のようにデバイス層の形成方法が限定されない。 - 特許庁
A first and second buildup layers 13, 14 made of soft resins each having a modulus of elasticity of 5000 MPa or less are formed on one surface of a hard core substrate 12, and an electrode 30 connected to a via 29 is formed on the outer surface of the second buildup layer 14.例文帳に追加
硬質のコア基板12の一方の面に弾性係数が5000MPa以下の柔軟な樹脂から成る第1ビルドアップ層13および第2ビルドアップ層14を形成し、しかも第2ビルドアップ層14の外表面にビア29と接続された電極30を形成する。 - 特許庁
The liquid crystal display device includes an array substrate 1, a counter-substrate 2, a plurality of first pixel sections, a plurality of second pixel sections, a liquid crystal layer 3, a color filter 4 including a plurality of first color layers and a plurality of second color layers and an undercoat insulation film 11.例文帳に追加
液晶表示装置は、アレイ基板1と、対向基板2と、複数の第1画素部および複数の第2画素部と、液晶層3と、複数の第1着色層および複数の第2着色層を有したカラーフィルタ4と、アンダーコート絶縁膜11と、を備えている。 - 特許庁
The belt layer 7 comprises two sheets: a first belt ply 7A arranged inside in the tire radial direction with first steel cords, and a second belt ply 7B arranged outside the first belt ply 7A with second steel cords having strength different from that of the first steel cords.例文帳に追加
ベルト層7は、タイヤ半径方向内側に配されかつ第1のスチールコードを配列した第1のベルトプライ7Aと、第1のベルトプライ7Aの外側に配されかつ前記第1のスチールコードとは強力が異なる第2のスチールコードを配列した第2のベルトプライ7Bとの2枚からなる。 - 特許庁
An inter-layer insulating film 16 between a pixel switching element 102 and signal wiring 202 is formed such that a first thickness D1 formed in a region corresponding to a second source/drain region 102b is larger than a second thickness D2 in a region corresponding to a gate electrode 102g.例文帳に追加
画素スイッチング素子102と信号配線202との間の層間絶縁膜16を、第2のソース・ドレイン領域102bに対応する領域に形成された第1の厚さD1が、ゲート電極102gに対応する領域の第2の厚さD2よりも厚くなるように形成する。 - 特許庁
In an indicator 10, a first electrode 21 and a second electrode 22 are formed by mutually facing a coloring layer 15, the first electrode 21 is fixed on a fixing end 13, and the second electrode 22 is stuck to one side of a high molecular material sheet 14 and is movable.例文帳に追加
インジケータ10は、着色層15上に互いに対向して第一の電極21及び第二の電極22が形成され、第一の電極21は固定端13で固定され、第二の電極22は高分子材料シート14の一辺に接着された可動式である。 - 特許庁
The source and drain regions are at least partially formed by a second material of which an effective lattice constant is smaller than that of the first material, are arranged at both the sides of the channel region in a semiconductor layer, and the second material induces tensile stress to the channel region.例文帳に追加
ソース領域およびドレイン領域は、実効的な格子定数が第1材料よりも小さい第2材料から少なくとも一部が形成され、半導体層内のチャネル領域の両側に配置され、第2材料はチャネル領域に引っ張り応力を誘起する。 - 特許庁
In addition, light incident between the reflective pixel electrodes 9a out of light incident from the side of the second substrate 20 is reflected on an insulation reflective layer 73a, provided in a gap 9s sandwiched by the reflective pixel electrodes 9a and emitted from the second substrate 20 side.例文帳に追加
また第2基板20側から入射した光のうち、反射性画素電極9aの間に入射した光は、反射性画素電極9aによって挟まれた隙間9sに設けられた絶縁性反射層73aによって反射して第2基板20側から出射させる。 - 特許庁
On a second interlayer insulating film 30, a first wiring 33a connected to the control gate electrode 24 and a second wiring 33b connected to the intermediate electrode 22 of the ferrodielectric FET are arranged, thereby forming a wiring layer 33 connected to the gate electrodes 14 of the CMOS.例文帳に追加
第2の層間絶縁膜30の上に、制御ゲート電極24に接続される第1の配線33aと、強誘電体FETの中間電極22に接続される第2の配線33bとを有し、CMOSのゲート電極14に接続される配線層33を形成する。 - 特許庁
At the thermal head A with a strip of heating element 3 of a single dot, while connecting a second electrode 42 making an electric power applied to the heating element 3 nearly throughout both ends of the heating element 3 in the conveying direction, the heating element 3, the second electrode 42 and a protection layer 5 are formed as a thin film.例文帳に追加
単ドットの帯状の発熱体3を有したサーマルヘッドAにおいて、その発熱体3の搬送方向両端部の略全域に亘って発熱体3に電力を印加させる第2電極42を接続すると共に、発熱体3と、第2電極42と、保護層5を薄膜形成する。 - 特許庁
The color filter 22 of the second substrate 20 has at least one opening 22a in the area corresponding to the reflecting area R, and the step of forming the polymer structure 32 is executed by emitting light to the liquid crystal layer 30 from both the first substrate 10 side and the second substrate 20 side.例文帳に追加
第2基板20のカラーフィルタ22は、反射領域Rに対応する領域に少なくとも1つの開口部22aを有し、ポリマー構造物32を形成する工程は、液晶層30に第1基板10側と第2基板20側の両方から光を照射することによって実行される。 - 特許庁
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