「surface contaminations」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The substrate is carried in the processing unit after organic contaminations are removed from the surface thereof and is subjected to chemical surface treatment, so that uniform surface treatment can be performed on the entire surface of the substrate.例文帳に追加

表面から有機物汚染が除去された基板が処理ユニットに搬入されて薬液表面処理が行われるため、基板の全面に対して均一な表面処理を行うことができる。 - 特許庁

To suppress adhesion of aluminum particles, generated as contaminations in a processing chamber, to the surface of a substrate, e.g. a silicon wafer.例文帳に追加

処理室内にアルミニウム粒子がコンタミネーションとして発生し、シリコンウエーハなどの基板の表面に付着することを抑制する。 - 特許庁

To provide a displacement detecting apparatus can prevent an effect of contaminations deposited on a surface of a glass substrate for example, and detect a displacement of a surface position of its backside with high accuracy.例文帳に追加

例えばガラス基板の表面に付着した異物の影響を抑えて、その裏面の面位置の変位を高精度に検出することのできる変位検出装置。 - 特許庁

To provide a displacement detecting apparatus can prevent an effect of contaminations deposited on the surface of a glass substrate for example, and detect a displacement of a surface position of the glass substrate with high accuracy.例文帳に追加

例えばガラス基板の表面に付着した異物の影響を抑えて、ガラス基板の面位置の変位を高精度に検出することのできる変位検出装置。 - 特許庁

To provide a surface layer evaluating method for a semiconductor wafer, wherein the method can evaluate distribution of electrically active defects and contaminations in the depth direction of a surface layer of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハの表層の深さ方向における電気的に活性な欠陥や汚染の分布を評価可能な半導体ウェーハの表層評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a detergent composition removing and cleaning contaminations, such as water stain, pitch on a coated surface of an automobile without damaging the coated surface.例文帳に追加

自動車の塗装面に傷を付けることなく、塗装面上の水垢汚れやピッチなどの汚染物を除去し、かつ洗浄を行うことができる洗浄剤組成物を提供する。 - 特許庁

Optical scanning equipment based on a confocal optical system inspects the surface of a wafer to be inspected as a sample, identifies the defects or contaminations on the sample surface detected by the inspection according to its type, outputs and displays the position of the identified defects or contaminations on a wafer screen corresponding to the specimen by a symbol indicative of the type of the defects or contaminations.例文帳に追加

検査対象ウエーハである試料の表面をコンフォーカル光学系による光学的走査装置によって検査し、該検査によって検出された該試料表面上の欠陥や異物をその種類別に識別し、該識別された欠陥や異物の位置を各欠陥や異物の種類別を示す記号によって該試料に対応するウエーハ画面上に出力表示するようにした。 - 特許庁

To decrease the total number of metal contaminations included in a formed film when the deposition is processed on the surface of an object to be treated is treated by deposition.例文帳に追加

被処理体の表面に成膜処理を施すにあたり、成膜される膜中に含まれる金属汚染物の総量を減らすこと。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion film stacked type solid-state imaging device for preventing contaminations from adhering to a light reception surface and preventing the loss of incident light.例文帳に追加

受光面への汚れの付着を防止し、入射光の損失を防止することのできる光電変換膜積層型固体撮像素子を提供すること。 - 特許庁

To perform a temperature evaluation for electromagnetic transduction characteristics of a magnetic head by heating and/or cooling the magnetic head without generating any damages or contaminations on the surface of the magnetic head.例文帳に追加

磁気ヘッド表面に傷や汚染を発生させることなく、磁気ヘッドを加熱及び／又は冷却して磁気ヘッドの電磁変換特性の温度評価を行うこと。 - 特許庁

To provide a method of removing contaminations of a surface having an oxide layer of a component or a system in nuclear power facilities that works effectively and can be executed especially in one process.例文帳に追加

有効に働き、特に１工程で実施することができる、原子力施設の部品または系の酸化物層を有する表面を汚染除去する方法を提供する。 - 特許庁

Further, the cBN superfine particles are purified by subjecting them to an appropriate alkali treatment so as to avoid flocculation and to remove surface contaminations, and used as a sintering raw material.例文帳に追加

更に、前述のcBN超微粒子に適当なアルカリ処理により清浄化処理して一次粒子の凝集、粒子表面の汚染を排除して焼結原料とした。 - 特許庁

The occurrence of the contaminations can be suppressed and the slight error can be remarkably reduced, since the burr part at the end part of the tape is not loaded and the contaminations on the surface of the tape are not directly scattered by air, by adopting a pressurizing suspension system wherein the tape is pressurized by a sponge material having the width narrower than that of the tape.例文帳に追加

テープ幅より狭いスポンジ材でテープを押し付ける加圧サスペンション方式にすることで、テープ端部のバリ部分に負荷をかけず、尚且つエアーによるテープ表面のコンタミネーションを直接的に撒き散らすことが無いため、コンタミネーションの発生を抑制し、軽微なエラーを格段に減少させられる。 - 特許庁

To make the reduction of the dropping of contaminations from a cleaning tape itself and the suppression of slight damage which may be a reproduction signal error given to the surface of a magnetic disk compatible with each other.例文帳に追加

クリーニングテープ自身からのコンタミネーション脱落を低減し、且つ磁気ディスク表面に与える再生信号のエラーとなり得る軽微な傷を抑制することを両立させる。 - 特許庁

To provide an optical head device which can prevent deposition of contaminations on the surface of an emission lens and decrease in the output of laser light for exposure, and keep favorable drawing accuracy, resolution or inspection capability.例文帳に追加

出射レンズの表面部に異物が付着することを防止し、露光のためのレーザ光の出力の低下を防ぎ、また、描画精度、解像力、または、検査能力を良好に維持する。 - 特許庁

To provide a cleaning method for a silicon carbide sintered body in which contaminations sticking on a surface of a silicon carbide sintered body can be easily and securely cleaned away in a short time.例文帳に追加

炭化ケイ素焼結体の表面に付着している汚染物を簡易且つ短時間で確実に洗浄除去し得る炭化ケイ素焼結体の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nano filtration device that reduces chemical washing frequencies by safely and efficiently removing contaminations from the surface of a NF film through a simple device and a procedure, thereby suppressing the reduction of the permeation amount of water.例文帳に追加

簡単な装置と操作でＮＦ膜表面から膜汚染物を安全かつ効率良く除去し、これにより透過水量の低下を抑制し、薬品洗浄頻度の低減を図る。 - 特許庁

Accordingly the insulating member has a hydrophobic outer surface 16, 25, 33, 43 to prevent electrically conductive contaminations from forming a superficial and electrically conductive path between two neighboring conductive members.例文帳に追加

本発明によると、絶縁部材は疎水性の外表面１６，２５，３３，４３を有し、電気導電汚染物が隣接する２つの導電部材の間に薄い電気伝導通路が形成されることを防ぐ。 - 特許庁

To provide a method for detecting liquid state, capable of detecting liquid characteristics at excellent precision even if sticking amounts of foreign substances and contaminations against the wall surface of the channel of an objective liquid to be measured increase.例文帳に追加

被測定液体の通路の壁面への異物や汚れの付着量が増大した場合でも、良好な精度で液体性状を検出することができる液体性状検出装置を提供する。 - 特許庁

To form an electrokinetic type electro-acoustic transducer to a configuration capable of being mounted on a surface, and also secure the versatility of the electro-acoustic transducer, and to prevent the entry of contaminations from a back-pressure regulating hole in the electrokinetic type electro-acoustic transducer.例文帳に追加

動電型の電気音響変換器において、これを表面実装可能な構成とした上で、その汎用性を確保し、かつ、背圧調整孔からの異物の侵入を未然に防止する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photoelectric flexible wiring board, a method by which warping is reduced of the photoelectric flexible wiring board during the manufacturing, by which mixing of contaminations on an optical waveguide forming face during the manufacturing is reduced, irregularities on the surface of the flexible wiring board caused by contaminations are reduced, and by which bending resistance, sliding resistance, and quality improvement of optical transmission loss can be achieved.例文帳に追加

光電気フレキシブル配線板の製造工程中のそりの低減が図れると共に、製造工程で光導波路形成面の異物混入や異物によるフレキシブル配線板表面の凹凸が低減され、耐屈曲、耐スライド性や光伝搬損失の品質向上が図れる光電気フレキシブル配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

At least one kind selected from a means 7 for bringing an adhesive roller into contact with a wiring pattern surface, a means 8 for spraying air to the wiring pattern surface or an attraction means 9 by magnetism can be used for removal operation of deposited contaminations.例文帳に追加

付着異物の除去操作のためには、粘着ローラーを配線パターン面に接触させる手段７、エアーを配線パターン面に噴き付ける手段８又は磁力による吸着手段９のうちから選ばれた少なくとも一種を用いることができる。 - 特許庁

To providen improved male connector which suitably operates without any risk of a short circuit, current leak and the degradation of reliability caused by contaminations on the male connector surface, or at least minimizing the risk.例文帳に追加

適切に作動し、かつ雄コネクタ表面の汚染がショート回路、電流漏れ、または信頼性の低いパフォーマンスを生じさせるリスクのない、または少なくともそのリスクを最小限にした改良雄コネクタを提供すること。 - 特許庁

To solve problems that fine adjustment is difficult in a method for directly cutting an electrode by using laser beams after sealing a small vibrator and there is no place where the cut electrode is discharged, so that the occurrence of contaminations such as wastes and dust is worried, and further these contaminations can be stuck to the surface of the vibrator, causing required characteristics of the vibrator to be deteriorated.例文帳に追加

小型振動子を封止後レーザを用いて直接電極を削る方法は、微調整が困難であり、その削った電極を排出する場所が無くなることから、ゴミ、ホコリと言ったコンタミネーションの問題を発生することが懸念され、ひいてはこれらのコンタミネーションが振動子の表面に付着し、振動子の所望の特性を悪化させる要因が考えられる。 - 特許庁

To efficiently remove contaminations attaching to the surface of a substance to be cleaned, by generating a shear flow of a constant velocity gradient or more having a controlled range and distribution along the surface of the substance.例文帳に追加

制御された範囲及び分布を有する一定の速度勾配以上の剪断流を被洗浄物表面に沿って発生させることによって、被洗浄物の表面に付着した微細な異物を効率良く除去することが可能な高速剪断流による洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a self-cleaning member which can easily wash off deposits or contaminations having diverse properties attached to a surface only by exposing to a rainfall or flowing water and a coating composition using a manufacture thereof.例文帳に追加

表面に付着した多種多様な性質の堆積物または汚染物を降雨または流水に曝すだけで容易に洗い流すことができる、自己浄化性部材およびその製造に用いられるコーティング組成物が開示される。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in the profile of an isolated pattern and hardly producing contaminations on the resist pattern surface in the process of forming a pattern by irradiation of active rays or radiation, in particular, electron beams, X-rays or EUV light.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光の照射によるパターン形成に関して、孤立パターンプロファイルに優れ、レジストパターン表面上に異物が発生し難いレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide the method of manufacturing a semiconductor device using a silicon carbide single-crystal substrate, wherein initial characteristics, yield rate, and long-period reliability of a silicon carbide semiconductor element are excellent and metal contaminations on a silicon carbide surface are sufficiently removed.例文帳に追加

炭化珪素半導体素子の初期特性や良品率、また、長期信頼性の良好な炭化珪素表面の金属汚染が十分除去された炭化珪素単結晶基板を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since abnormal electric discharges or contaminations are not generated during long-term electric discharge, and the optical performance of the light transmission medium 141 at its edge face will not deteriorate, the surface of the sample W and the state of the plasma can be measured with a high precision and with long-term stability.例文帳に追加

長時間にわたる放電においても、貫通孔１１５Ｂで異常放電や異物を発生することがなく、かつ光伝送体１４１の端面の光学性能が劣化しないので、試料Ｗの表面やプラズマの状態を精度よく長期的に安定して計測できる。 - 特許庁

The cycle of maintenance and replacement of the electrostatic chuck can be extended by optimizing attraction force corresponding to change of the surface condition of the electrostatic chuck, by reducing the number of contaminations sticking to the backside of the workpiece by lowering the attraction force of the workpiece.例文帳に追加

被処理体の吸着力を低下させることによって、被処理体の裏面に付着する異物の数を減少させ、静電チャックの表面状態の変化に対応して吸着力を最適化することによって静電チャックのメンテナンスや交換の周期を延長することが可能となる。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion film stacked type solid-state imaging device capable of preventing contaminations from adhering to the surface of a transparent protective plate, suppressing the reflection of incident light, and preventing the loss of incident light in the photoelectric conversion film stacked type solid-state imaging device having the transparent protective plate.例文帳に追加

透明保護板を有する光電変換膜積層型固体撮像素子において、透明保護板表面への汚れの付着を防止するとともに、入射光の反射を抑制し、入射光の損失を防止することのできる光電変換膜積層型固体撮像素子を提供すること。 - 特許庁

Since the whole becomes too smooth, the possibility of being joined with the silicon wafer is generated and the slips are caused by a prescribed amount of acid etching for removing contaminations by machining, the surface in contact with the wafer is face roughned to 0.3 μm to 100 μm (RMS) by alkali etching, and thus the slips are remarkably reduced.例文帳に追加

機械加工による汚染を除去するために所定量の酸性エッチングを施すことで、全体が滑らかになりすぎてシリコンウエーハと接着する可能性が生じてスリップの発生を招来するため、ウェーハと接触する表面を、アルカリエッチングによる０．３μｍ〜１００μｍ（ＲＭＳ）の表面荒さとなすことで、スリップの発生を著しく低減できる。 - 特許庁

For example, contaminations which are considered to be produced from a carrier box to stick and cannot be removed with the HF solution can be removed, so recombination of the carrier on the silicon surface is more suppressed to measure the recombination lifetime which is close to a bulk lifetime and from which the quality of the silicon wafer is evaluated.例文帳に追加

例えばキャリアボックスから発生して付着したと思われるようなＨＦ溶液による処理によって除去できない有機汚染物も除去できるため、シリコンウェーハ表面でのキャリアの再結合を一層抑制することができ、バルクライフタイムに近く適切にシリコンウェーハの品質評価が行えるような再結合ライフタイムを測定することができる。 - 特許庁