「surface formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

A result of the measurement by the electrolytic current detector 150 is taken in a surface state determining device 160, and a formation state of a passive state film on a surface of the work piece 107 is determined.例文帳に追加

電解電流検出装置１５０による計測結果は、表面状態判別装置１６０に取り込まれ、被加工物１０７の表面の不働態膜の形成状態の判別が行われる。 - 特許庁

Next, the image formation surface of the paper sheet 5 is pressed by a pressure roller 13 on the circumferential surface of a region 121 along a paper sheet transporting route 30 included in an endless fixing belt 12 (pressure process).例文帳に追加

次に、無端状の定着ベルト１２に含まれる、用紙搬送経路３０に沿った沿路部位１２１の外周面に、加圧ローラ１３によって用紙５の像形成面を押圧する（ 押圧工程）。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which has an element isolation region by trench isolation, and which can eliminate a step difference between a surface of an element region of a semiconductor substrate and a surface of the element isolation region prior to formation of a gate electrode.例文帳に追加

トレンチ分離による素子分離領域を有する半導体装置において、ゲート電極形成前の半導体基板の素子領域の表面と、素子分離領域の表面との段差を無くす。 - 特許庁

A dielectric film of SiO2 is then deposited on the entire surface of the an n-type contact layer 13 followed by formation of a stripe mask pattern 25 extending in the (1-100) direction on the upper surface of n-type contact layer 13.例文帳に追加

次に、ｎ型コンタクト層１３の上に全面にＳｉＯ_2 からなる誘電体膜を堆積し、ｎ型コンタクト層１３の上面の（１−１００）方向に延びるストライプ状のマスクパターン２５を形成する。 - 特許庁

To provide a multilayer reflector capable of removing a multilayer film without carrying out regrinding processing of the substrate reflective surface along with little surface roughness of a multilayer film without causing problems for image formation performance.例文帳に追加

基板反射面を再研磨加工することなく多層膜の除去が可能となり、なおかつ、多層膜部分の表面粗さが小さく、結像性能に問題を生じない多層膜反射鏡を提供する。 - 特許庁

Since in the irradiation of the laser beam, the pulse laser beam is scarcely absorbed on the surface 3 of the machining object 1, the surface 3 is not melted, caused by the formation of the reforming area.例文帳に追加

このレーザ光の照射において、加工対象物１の表面３ではパルスレーザ光がほとんど吸収されないので、改質領域形成が原因で表面３が溶融することはない。 - 特許庁

Since in the irradiation of the laser beam L, the pulse laser beam L is scarcely absorbed on the surface 3 of the machining object 1, the surface 3 is not melted caused by the formation of the reforming area.例文帳に追加

レーザ光Lの照射において、加工対象物１の表面３ではパルスレーザ光Lがほとんど吸収されないので、改質領域形成が原因で表面３が溶融することはない。 - 特許庁

To enable formation of a fluorescent surface with superior productivity by a transfer printing method, and in particular, to realize a common part with the conventional forming process of the fluorescent surface, that has only one fluorescent substance part.例文帳に追加

転写法により、生産性に優れた蛍光面の形成を可能にし、特に、単一の蛍光体部しか有しない従来の蛍光面の形成工程と、一部共通化を図ることができるようにする。 - 特許庁

Prior to the formation of the cover member, the same paint is used to paint a surface 23 of a flange 20b of the casing 20 and a surface 42a of a sensor body 40a of the ultrasonic sensor 40, at the same time.例文帳に追加

このカバー部材の形成前に、ケーシング２０のフランジ部２０ｂの表面２３及び超音波センサ４０のセンサ本体４０ａの表面４２ａは、同一の塗料により同時に塗装処理される。 - 特許庁

Further, U-shaped groove formation plates 6, 7 are mounted along the outer margin at a predetermined interval on the upper surface of an upper waveguide plate 2 and on the lower surface of the lower waveguide plate 3, to form grooves 8, 9.例文帳に追加

また、上部導波板２の上面及び下部導波板３の下面には、外周縁に沿って馬蹄形状の溝形成板６、７を所定の間隔を保って装着し、溝８、９を形成する。 - 特許庁

To provide a pretreatment method for electroplating, by which cutting oil stuck on the surface of a master metal mold can be completely removed and the formation of cause of a blot on the surface of the metal mold can be prevented.例文帳に追加

マスター金型表面に付着した切削油をきれいに除去することができ、金型表面にしみの原因が発生するのを防止することを可能とする鍍金の前処理方法を提供する。 - 特許庁

In the formation of the hole, when the drill bit 21 firstly employs the first outer shape, the surface to be excavated is excavated by using the drill bit 21 so as to form the hole with a cone-shaped bottom surface (S14).例文帳に追加

そして，穴を形成するにあたり，まず，ドリルビット２１が第１外形をとるときに，ドリルビット２１を用いて，被掘削面を掘削することで，底面が円錐形の穴を形成する（Ｓ１４）。 - 特許庁

A core 30 adhering tightly to a formation surface (upper surface) of the projecting part 22 from an embedded position in a housing 10 to a front position relative to a back end face 12S of a fitting recessed part 12 is attached to the terminal fitting 20.例文帳に追加

端子金具２０には、ハウジング１０内への埋設位置から嵌合凹部１２の奥端面１２Ｓよりも前方の位置に亘って突部２２の形成面（上面）に密着する中子３０を取り付けた。 - 特許庁

Coat formation of an amorphous alloy thin film is executed on the surface of the soft base material, to thereby realize highly corrosion resisting timepiece armoring parts capable of preventing the generation of surface roughness and a flaw or exfoliation during its use.例文帳に追加

軟質基材表面にアモルファス合金薄膜を被覆形成させることにより、表面粗れ、使用中に傷、剥離が発生しない高耐蝕性の時計外装部品が達成される。 - 特許庁

Then, the rear surface of the wafer 2a is ground to singulate the wafer into chips 2b, and then, rear surface processing such as formation of rear electrodes 9a followed by heat treatment is executed without separating the chips 2b from the supporter 5.例文帳に追加

そして、ウエハ２ａの裏面を研削して各チップ２ｂに個片化したあと、チップ２ｂを支持体５から分離せずに、裏面電極９ａ形成などの熱処理を伴う裏面加工を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method, capable of reducing a step structure in film formation obtained on the surface of a semiconductor substrate, reducing the thickness of the film formation required for planalization processing after the film formation, shortening a time required for a planalization processing process, and improving the productivity.例文帳に追加

半導体基板の表面に形成される成膜の段差を減少させ、成膜後の平坦化処理に必要な成膜の厚さを減少させ、平坦化処理工程にかかる時間を短縮し生産性を向上させることができる半導体デバイスの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the piezoelectric layer 24b is formed by a sputtering method in manufacturing, the piezoelectric thin film is heteroepitaxially grown on one surface side of the substrate 20a for element formation while the substrate 20a for element formation is held at a specified temperature of ≥500°C, and then the substrate 20a for element formation is rapidly cooled from the specified temperature.例文帳に追加

製造時、圧電層２４ｂをスパッタ法により形成する際は、素子形成用基板２０ａの温度を５００℃以上の規定温度として素子形成用基板２０ａの一表面側に圧電薄膜をヘテロエピタキシャル成長させた後、素子形成用基板２０ａを規定温度から急速冷却する。 - 特許庁

The image forming device equipped with a function to make image formation on the obverse and rear surfaces of each sheet feeds the sheet from a sheet feed cassette in conformity to the print signal and performs image formation on the obverse surface in its image formation part 114 followed by a fixing process in a fixation part 106.例文帳に追加

シートの表裏面に画像形成を行う機能を備えた画像形成装置は、所定シートの表裏両面への画像形成処理に際し、先ずプリント信号を通じ給紙カセット１０９からシートを給送し、画像形成部１１４においてシート表面への画像形成の後、定着部１０６で定着する。 - 特許庁

To provide an image formation method which enables image formation on a regular paper surface not having a coating layer by a preparatory treatment and ink-jet recording ink, and which is thereby excellent in ink image quality (image concentration, chroma saturation, collar bleed, character bleeding, and white dots) and excellent in smear fixing in an image section, and to provide an image formation recorded matter.例文帳に追加

塗工層を持たない普通紙表面へ前処理液による前処理及びインクジェット記録インクによる画像形成することにより、画像品質（画像濃度、彩度、カラーブリード、文字滲み及び白ポチ）に優れ、且つ画像部のスミア定着性に優れた画像形成方法および画像形成記録物を提供すること。 - 特許庁

The region different from the product identification mark formation region AR1, out of the surface region of the sealing body, is defined as the peeling prevention mark formation region AR2, and a plurality of peeling prevention marks EMK are formed in the peeling prevention mark formation region AR2.例文帳に追加

つまり、本願発明では、封止体の表面領域のうち、製品識別用マーク形成領域ＡＲ１と異なる領域を剥離防止用マーク形成領域ＡＲ２と定義し、この剥離防止用マーク形成領域ＡＲ２内に複数の剥離防止用マークＥＭＫを形成している点に特徴がある。 - 特許庁

A film formation method includes a titanium film formation step of forming the titanium film on an interlayer insulation film 520 and a silicon-containing surface 512 on a bottom of a contact hole 530, a nitriding step of nitriding the entire titanium film to form the single titanium nitride film 550, and a tungsten film formation step of forming the tungsten film 560 on the titanium nitride film.例文帳に追加

層間絶縁膜５２０上およびコンタクトホール５３０底部のシリコン含有表面５１２上にチタン膜を形成するチタン膜形成工程と，このチタン膜をすべて窒化し，単一の窒化チタン膜５５０を形成する窒化工程と，窒化チタン膜上にタングステン膜５６０を形成するタングステン膜形成工程とを有する。 - 特許庁

When an etchant is supplied from a center axis nozzle 5 to the center, on the lower surface of the wafer W, the etchant surrounds the peripheral end face of the wafer W, and reaches its upper surface, resulting in the formation on a liquid film in contact with the wafer opposite surface 45.例文帳に追加

中心軸ノズル５から、ウエハＷの下面中央に向けてエッチング液が供給されると、このエッチング液は、ウエハＷの周端面を回り込んで、その上面に至り、ウエハ対向面４５に接触する液膜を形成する。 - 特許庁

A temperature of a temperature-controlled ceramic liner 102 adjacent to a surface of a chamber 100 is set to facilitate reduction of formation of deposits on the surface of the liner 102 and removal of deposits from the surface of the liner 102 during a semiconductor substrate treatment.例文帳に追加

チャンバ１００表面近傍の温度制御付きセラミックのライナ１０２の温度は、半導体の基板処理中にライナ１０２表面上の堆積物形成の低減やライナ１０２表面から堆積物除去の促進を目的に設定される。 - 特許庁

A second side portion 20 positioned opposite to the first side portion 14 is formed with a surface structure forming portion 24 in a region 22 corresponding to the friction surface region 16 by the molding of the metal component intended for the formation of the friction surface region 16.例文帳に追加

前記第一の側部１４とは逆に位置する第二の側部２０に、摩擦面領域１６に対応する領域２２に、摩擦面領域１６の形成のためのメタルコンポーネントの成形によって表面構造形成部２４が形成されている。 - 特許庁

In the surface treatment method of the black matrix, the surface of the black matrix is processed with the aqueous solution for black matrix surface treatment before formation of the color filter after the black matrix containing nickel as a component is formed on a substrate.例文帳に追加

また、基板上にニッケルを構成成分として含むブラックマトリックスを形成した後、カラーフィルターを形成する前に、ブラックマトリックスの表面を、上記ブラックマトリックス表面処理用水溶液で処理するブラックマトリックスの表面処理方法である。 - 特許庁

To provide metal foil with a thermosetting resin composition layer enabling fine wiring and enabling the formation of a fine surface having surface roughness (Rz) below 3 μm in the case of roughening a resin surface, and to provide a metal clad laminated plate and a printed wiring board.例文帳に追加

微細配線形成可能で、且つ樹脂表面を粗化した際に表面粗さ（Ｒｚ）が３μｍ未満の微細な表面を形成できる、熱硬化性樹脂組成物層付き金属箔、金属張積層板及びプリント配線板を提供する。 - 特許庁

A SAW element 21 is packaged on a ceramic multilayered substrate 10 by Au-Au bonding while confronting its interdigital electrode formation surface 28 to a component packaging surface 11 of the multilayered substrate 10 so as to form a cavity in a gap with the component packaging surface.例文帳に追加

ＳＡＷ素子２１を、櫛型電極形成面２８をセラミック多層基板１０の部品搭載面１１に対向させ、部品搭載面との間に空隙が形成されるようにし、Ａｕ−Ａｕ接合により多層基板１０上に実装する。 - 特許庁

To provide a surface treatment film and a metal surface treatment agent which are not susceptible to peeling of a laminate film or a resin coating film, even if molding is carried out subsequent to lamination of a resin film or formation of the resin coating film on a surface of a metal material.例文帳に追加

金属材料の表面に樹脂フィルムをラミネートし又は樹脂塗膜を形成し、その後に成形加工を施した場合であっても、ラミネートフィルム又は樹脂塗膜が剥離しない表面処理皮膜及び金属表面処理剤を提供する。 - 特許庁

A printed wiring board material P is conveyed by a conveyer 2, without working contact with a circuit formation surface R in a front surface Q and a rear surface F, a treatment liquid S is jetted from a spray nozzle 4, and air E is sprayed from front and rear air blow-off sections 6.例文帳に追加

そしてプリント配線基板材Ｐを、表面Ｑや裏面Ｆの回路形成面Ｒに無接触状態で、コンベヤ２にて搬送しつつ、スプレーノズル４から処理液Ｓを噴射すると共に、前後のエアー吹出部６からエアーＥを吹付ける。 - 特許庁

To provide a surface treatment method wherein poor formation of a resist pattern etc. which occurs when sulfate ion remains on the surface of a workpiece is improved and a clean surface is obtained stably in cleaning treatment at the time of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造時の洗浄処理において、被処理体の表面に硫酸イオンが残留した際に発生するレジストパターンの形成不良等を改善し、安定して清浄な表面を得ることができる表面処理方法を提供する。 - 特許庁

The surface light emitting device 101 has a closed surface having a formation surface of the selfluminous element an inside and provided with an electrode part output port of the element, and the selfluminous element is covered with a thin film 7 for shielding oxygen and water vapor.例文帳に追加

面発光デバイス１０１が自発光素子の形成面を内部とし素子の電極部取り出し口を設けられた閉曲面をなし、自発光素子が酸素及び水蒸気を遮蔽する薄膜７で覆われていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a throwaway tip and a throwaway type rotary cutting tool capable of improving precision of a right angle wall surface to the right angle wall surface in a workpiece to be processed without generating formation of a protruded wall surface due to a part left uncut.例文帳に追加

加工される被削材の直角壁面に対して、削り残しによる突型壁面の形成を生じることなく、直角壁面精度を向上させることのできるスローアウェイチップ及びスローアウェイ式転削工具の提供を課題とする。 - 特許庁

There are used a 4H-SiC substrate 31 where the principal surface is composed of {0001} surfaces in general with off-angle α, and a trench formation device where the standard deviation is set up at σ in the variation of the angle settled by the trench side wall surface and the substrate principal surface in the wafer.例文帳に追加

主面が概ね｛０００１｝面であり、かつオフ角αを有する４Ｈ−ＳｉＣ基板３１と、トレンチ側壁面と基板主面とのなす角度のウェハ面内におけるばらつきの標準偏差がσとなるトレンチ形成装置を用いる。 - 特許庁

To provide a surface processing method for obtaininga substrate having the desired uniform lyophilic property in order to improve formation of a film pattern by the ink jet method, and also provide a surface processing substrate obtained by this surface process and a method of forming a film pattern.例文帳に追加

インクジェット法による膜パターンの形成を改善するため、所望の親液性を均一に有する基板を得るための表面処理方法、この表面処理によって得られた表面処理基板、及び膜パターンの形成方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for a heat-resistant article which can provide a beautiful and strong coated surface by combining the formation of a satin finished surface having a fine unevenness by a sand-blasting process, and a baking finish.例文帳に追加

本発明は、サンドブラスト加工により微小凹凸をもった梨地面の形成と、焼付塗装との組合わせにより、美麗で強固な塗装面を具備できるようにした耐熱性物品の表面処理方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The coverage of the surface of the semiconductor wafer with the very small water layer enables eliminating the effect of oxygen in the atmosphere, which causes the water mark, on the surface of the semiconductor wafer, thus making it possible to inhibit the formation of the water mark on the surface of the substrate.例文帳に追加

微小水分層で半導体ウェーハ表面を覆うことで、ウォーターマークの原因である雰囲気中の酸素の影響を半導体ウェーハ表面から排除でき、基板表面へのウォーターマークの形成を抑制することができる。 - 特許庁

The patterning roller forms a cylindrical base surface as the outer reference surface for pattern formation, a plurality of washer-like projecting rows parallel to the circumference of the reference surface, and circular arc projections partially covering the groove parts interposed between the projecting rows.例文帳に追加

模様付けローラーにあっては、模様形成外囲基準面としての円柱状基面とこの基面への円周方向に平行な複数の座金状凸条と凸条間に挟まれた溝部分を部分的に覆う円弧状突起を形成する。 - 特許庁

The shaft member is enlarged by electromagnetic formation and tightly adhered to the inner peripheral surface of the hole formed in the bumper reinforcement, the inner peripheral surface of the reinforcing member, and the inner peripheral surface of the hole flange 25 formed in the mounting flange member, thereby these are joined with each other.例文帳に追加

軸部材が電磁成形により拡管して、バンパーリインフォースに形成された前記穴の内周面、補強部材の内周面、及び取付用フランジ部材に形成された穴フランジ２５の内周面に密着し、これらが互いに接合される。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for oil-quenching a steel material with which formation of carburized layer on the steel material surface due to the oil-quenching treatment can be prevented.例文帳に追加

油焼入処理により鋼材表面に浸炭層が形成されるのを防止できる鋼材の油焼入方法および装置を提供する。 - 特許庁

The photosensitive element for a diffuse reflecting underlayer formation is made by laminating the resin composition on a rugged surface of a temporal supporter having an irregular shape.例文帳に追加

前記樹脂組成物が凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に積層されている拡散反射下地層形成用感光性エレメント。 - 特許庁

To provide polishing paste and method, restraining sedimentation and separation of abrasive grains for a long time, and polishing the surface of a substrate without formation of a scratch.例文帳に追加

砥粒の沈降と分離を長期間抑制でき、スクラッチを形成せずにサブストレートの表面を研磨できる研磨ペースト及び方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for accurately grinding a thin substrate warped by the formation of resin or the like on its active surface.例文帳に追加

薄い基板、特に能動面に樹脂等が形成されて反りが生じた基板の研削を精度よく行なうことのできる基板の研削方法を提供する。 - 特許庁

The formation of the arc-resistant metal part 19 is limited to a surface layer part of the contact base material 20 so that the arc-resistant metal part 19 covers the tip of the contact base material 20.例文帳に追加

耐弧金属部１９は接点母材２０の先端部分を覆うように、接点母材２０の表層部分に限定して形成されている。 - 特許庁

The method manufactures the material support surface by implementing the "spot formation/reduction process", a "spot transfer/reduction process" and the "material support process".例文帳に追加

「スポット形成縮小工程」、「スポット転写縮小工程」および「物質担持工程」を行うことにより物質が担持された表面を作製する方法。 - 特許庁

To provide a calking structure of a shaft body which prevents formation of a circular arc surface on a rising part of a collar part formed by calking.例文帳に追加

加締めにより形成した鍔部の立上り部分に円弧面が形成されるのを防止するようにした軸体の加締め構造の提供を図る。 - 特許庁