「surface formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

In another embodiment, the formation position of each semiconductor element in the wafer surface is determined based on the information so that dislocation and lamination defects are avoided.例文帳に追加

別の態様では、当該情報に基づいて、ウェハ面内における各半導体素子の形成位置を、転位、積層欠陥を避けるように決定する。 - 特許庁

The second metal plate 3 includes a waveguide thickness formation means 11 having a surface 11a opposite to a tip section 9a of the connecting probe 9.例文帳に追加

第２金属板３には、結合プローブ９の先端部９ａに対向する対向面１１ａを有した導波路厚さ形成手段１１が設けられている。 - 特許庁

A first insulating layer 2 is formed and bonded on a circuit formation surface of a semiconductor element 1, on which a first circuit pattern 3 is formed.例文帳に追加

半導体素子１上の回路形成面に、第１の絶縁層２が形成・接着され、その上面に第１の回路パターン３が形成されている。 - 特許庁

A large volume of hydrogen can be efficiently stored by the formation of the microperiodic structure on the surface of the metallic material having the hydrogen-storing function.例文帳に追加

水素吸蔵機能を有する金属材の表面に微細周期構造が形成されることにより、効率的に大量の水素を貯蔵することができる。 - 特許庁

Then, as the formation depth from the first main surface J of the ion implantation layer 4 for peeling becomes small, a dose rate in ion implantation is set small.例文帳に追加

そして、剥離用イオン注入層４の第一主表面Ｊからの形成深さが小さくなるほど、イオン注入のドーズ量を小さく設定する。 - 特許庁

A hologram 12a is formed by the hologram sheet 16 on the surface of the molten resin 12A for hologram formation in a space between the nip roll 32 and the cooling roll 33.例文帳に追加

ニップロール３２と冷却ロール３３間において、ホログラム形成用溶融樹脂１２Ａの表面にホログラムシート１６によりホログラム１２ａを形成する。 - 特許庁

This compound is useful as a surface modifier for polymers in order to improve resistance to fog formation or water and oil repellency.例文帳に追加

この化合物は、曇形成に対する耐性または撥水性および撥油性を改良するためのポリマーのための表面改質剤として有用である。 - 特許庁

In this case, after the formation of the fine pattern, the base surface of the periphery of the pattern is chemically decorated with the hydrophilic molecular ink in an aqueous solution.例文帳に追加

その場合に、前記微細パターンの形成後に、水溶液中で微細パターンの周囲の基板面に前記親水性分子インクで化学修飾を行う。 - 特許庁

A metal silicide layer 7 is irradiated with hydrogen active species (H*) after formation in order to remove oxygen and carbon from the surface and the interior of the metal silicide layer 7.例文帳に追加

金属シリサイド層７形成後、水素活性種（Ｈ^* ）を照射して、金属シリサイド層７表面および内部の酸素および炭素を除去する。 - 特許庁

The top coating 1 contains polysilazane which shows high hardness when a coating film is formed and converts the film surface to a hydrophilic one from an initial stage of coating film formation.例文帳に追加

上塗材１は、塗膜化した際に高硬度になるとともに、塗膜化した初期の段階からその表面が親水化するポリシラザンを含んでいる。 - 特許庁

By a secondary fluid (313) surrounding the material containing gallium, oxide formation on the surface of the droplet (310) of the conductive liquid is inhibited.例文帳に追加

ガリウムを含有する材料を包囲する二次流体（３１３）によって、導電性液体の小滴（３１０）表面における酸化物の形成が阻止される。 - 特許庁

Therefore, the film formation area of the contact layer can be made large, and the aligning precision can be relaxed between the contact layer and the surface electrode.例文帳に追加

そのため、コンタクト層の製膜面積を大きく取ることができ、コンタクト層と表面電極の位置あわせ精度を緩和することが可能となる。 - 特許庁

The four lenses are arranged by making two lenses into one set and arranged so that two lenses in each set become symmetrical about a point on a lens formation surface of the transparent substrate.例文帳に追加

４個のレンズは、２個のレンズを１組とし、各組の２個のレンズが透明基板のレンズ形成面上で点対称となるように配置されている。 - 特許庁

The holder member 22 includes a backrest portion 22c which bears the blade member 21 having undergone deflection during sliding on the nozzle formation surface, on a deflecting side.例文帳に追加

ホルダー部材２２は、ノズル形成面上を摺動する際に撓んだブレード部材２１をその撓み方向側において支持する背もたれ部２２ｃを含む。 - 特許庁

To provide a projection optical system capable of securing a sufficient image side working distance while obtaining an image formation region with a sufficient size on an image surface.例文帳に追加

像面上で十分な大きさの結像領域が得られるとともに十分な像側作動距離を確保できるような投影光学系を提供する。 - 特許庁

To accurately and mechanically prepare the workpiece formation surface of a forming die that is conventionally formed by the hand tactility of a craftsman, in a short period of time.例文帳に追加

従来熟練した職人の手感に頼っていた成形型のワーク形成面の製作を、精度よく短期間で機械的に製作できるようにする。 - 特許庁

External terminal formation portions 11-13 on the circuit board 1 are protruded from an outer side surface of a substrate portion 10 and guided to the outside of the case 7 via the intervals 722.例文帳に追加

回路基板１の外部端子形成部１１〜１３は、基体部１０の外側面から突出し、間隔７２２を介してケース７の外部に導かれている。 - 特許庁

To provide a method of carrying out the formation of the concavity and convexity on a silicon substrate surface for use in a solar battery in particular efficiently and with high tact.例文帳に追加

半導体基板、特に太陽電池に用いられるシリコン基板表面の凹凸形成を効率よく、高タクトで行う方法を提供する。 - 特許庁

At the time of the film formation, the gas 9 for preventing deposition is constantly fed to the surface of the non-film forming region 3b in the object 3 to be film-formed.例文帳に追加

成膜の際には、成膜対象物３の非成膜領域３ｂの表面に対して防着用のガス９を絶えず供給し続ける。 - 特許庁

A DLC film 2 of insulating performance is formed on the surface of the substrate 1 by a film formation method of a plasma CVD method, a sputtering method, a PBII method or the like.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法，スパッタリング法，ＰＢＩＩ法等の皮膜形成方法により基体１表面に絶縁性のＤＬＣ皮膜２を形成する。 - 特許庁

Finally, a surface oxide film of the conductive layer 8 is removed by using the metal oxide film sidewall 6 as a mask, thus performing the silicide formation of the conductive layer 8.例文帳に追加

この後、金属酸化膜サイドウォール６をマスクとして、導電層８の表面酸化膜が除去され、導電層８のシリサイド化が行われる。 - 特許庁

More particularly, the method includes a working step for making the thickness distribution of the metallic layer uniform as far as possible after the formation of the thermally sprayed metallic layer on the outside surface.例文帳に追加

特に、外面に対して溶射金属層を形成後、当該金属層の厚さ分布を均一に近づけるための加工ステップを具備することが望ましい。 - 特許庁

To make both of complete depletion operation and reduction of parasitic resistance in a source/drain region compatible, without damage to a channel surface, and with easy formation of a gate electrode.例文帳に追加

チャネル表面にダメージがなく、ゲート電極の形成が容易で、完全空乏動作とソース・ドレイン領域の寄生抵抗の低減との両立を可能にする。 - 特許庁

To provide a switch structure which is pressed in a pattern formation surface direction of a circuit board 1, and hardly broken by strong pressure or dropping impact.例文帳に追加

回路基板１のパターン形成面方向に押されるスイッチ構造であって、強い押圧や落下衝撃に対して、壊れにくいスイッチ構造を提供すること。 - 特許庁

To provide a coating film formation article prepared by forming a water-repellent resin layer having high adhesiveness on the surface of a stainless steel base material as a metal difficult to adhere.例文帳に追加

密着しにくい金属であるステンレス基材の表面に密着性の高い撥水性樹脂層が形成された塗膜形成品を提案する。 - 特許庁

Image forming stations Pa to Pc where toner images of chromatic colors Y, M, and C are formed are arranged on one surface side of an intermediate transfer belt 4 and an image formation station Pd where a black toner image is formed is arranged on the other surface side of the intermediate transfer belt 4 alone at the lowest downstream from all the image formation stations.例文帳に追加

Ｙ・Ｍ・Ｃの有彩色のトナー像を形成する画像形成ステーションＰａ〜Ｐｃを、中間転写ベルト４の一方面側に配設し、黒色のトナー像を形成する画像形成ステーションＰｄを、中間転写ベルト４の他方面側に、単独で、かつ、全ての画像形成ステーションのうち最下流側となるように配設する。 - 特許庁

This belt is manufactured by the manufacturing method having (1) a base material layer formation process where an unvulcanized base material layer is formed by spirally winding an unvulcanized composition and a topping tape around the outer periphery of a cylindrical mold without any gap, (2) a vulcanization process where the unvulcanized base material layer is vulcanized, and (3) a surface layer formation process where the surface layer is formed.例文帳に追加

このベルトは、（１）未加硫ゴム組成物をトッピングテープを円筒状金型の外周に隙間なくらせん状に巻き付けて未加硫基材層を形成する基材層形成工程、（２）前記未加硫基材層を加硫する加硫工程、（３）表面層を形成する表面層形成工程を有する製造方法により製造する。 - 特許庁

In an optical device comprising: an element 409 having variable optical properties; and an image plane 612, the image plane 612 is placed in the range of movement of an image-formation surface associated with the change in the element 409 in order to correct the movement of the image- formation surface of the optical system 614 associated with the change of the element 409.例文帳に追加

光学特性可変素子４０９と、画像面６１２を有す光学装置において、光学特性可変素子４０９の変化に伴う光学系６１４の結像面の動きを補正するために、画像面６１２を、光学特性可変素子４０９の変化に伴う像面の動き変化の範囲の中に置いた光学装置。 - 特許庁

To provide a case hardening member for a rolling part with which variation in the rolling fatigue strength of the part can be reduced without promoting the formation of network coarse carbides on the surface of the part in the process of carburizing, or the formation of a film blocking the carburizing can be prevented, and the concentration of the carbon on the surface thereof can be set to an objective value.例文帳に追加

浸炭中に部品表面に網状粗大炭化物の生成を助長することなく、部品の転動疲労強度のバラツキを低減することのでき、または、浸炭を阻害する皮膜の形成を防止でき、表面炭素濃度を目標値に設定することができる転動部品用肌焼き部材を提供する。 - 特許庁

While forming a sidewall 107 for covering the sidewall of the gate electrode 105 by etching back the insulating film, an almost horizontal engraved surface is formed to the element formation surface in a region for forming the source and drain regions 109 of the side of the sidewall 107 by carrying out the etching removal of the element formation side of the silicon substrate 101.例文帳に追加

絶縁膜をエッチバックしてゲート電極１０５の側壁を覆うサイドウォール１０７を形成するとともに、サイドウォール１０７の側方のソース・ドレイン領域１０９が形成される領域において、シリコン基板１０１の素子形成面をエッチング除去し、素子形成面に略水平な掘り下げ面を形成する。 - 特許庁

In the cap equipped with a visor 2 projecting forward from the lower edge of a crown 1, a cloth 3 for pocket formation, which is semicircular in the plane view, is superposed on the surface of the visor 2, the front end of the visor 2 and the front end of the cloth 3 for pocket formation are mutually sewed to form a pocket P on the upper surface side of the visor 2.例文帳に追加

クラウン１の下縁から前方に突出して庇２を設けた帽子において、平面視半円状のポケット形成用生地３を庇２の上面に重ねて、庇２の先端縁とポケット形成用生地３の先端縁とを互いに縫着して、庇２の上面側にポケットＰを形成する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for a freezing process, which can suppress variations in the line width of a first resist pattern and LWR (line width roughness) which may be caused by freezing treatment applied to the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method, and to provide a resist pattern formation method using the surface treatment agent.例文帳に追加

ダブルパターニング法において、第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理及び第二のレジストパターンの形成による、第一のレジストパターンの線幅並びにＬＷＲの変動を抑制することができるフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polyurethane foam that permits satisfactory formation of a coating film by directly applying a solvent-based coating on the surface without causing trouble by swelling and permits formation of a surface resin layer by directly applying the solvent-based layer on the elastic layer without requiring a solvent-shielding layer.例文帳に追加

表面に直接溶剤系塗料を塗布して、膨潤による不都合を生じることなく、良好に塗膜形成を行うことができ、かつ溶剤遮蔽層を必要とせず、直接弾性層上に溶剤系塗料を塗工して表面樹脂層を形成することができるポリウレタン発泡体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of forming contact plug of a semiconductor element which can suppress formation of voids in a metal layer forming process subsequent to a contact plug forming process by selectively etching a subsequent interlayer insulation film formation of a contact plug so that the surface of the uppermost portion of the contact plug is higher than the surface of the uppermost portion of the interlayer insulation film.例文帳に追加

コンタクトプラグの形成後、コンタクトプラグの最上部の表面が層間絶縁膜の最上部の表面より高くなるように層間絶縁膜を選択的にエッチングすることにより、後続の金属層形成工程の際にボイドの生成を抑制する、半導体素子のコンタクトプラグ形成方法を提供すること。 - 特許庁

The production method of the electrophotographic photosensitive body 2 includes a code formation step for forming the individual identification code 20b at the faucet part 20a on the inner circumferential surface of the tubular substrate 20, and a step for forming the photosensitive layer 211 on the outer circumferential surface of the substrate 20 that has gone through the code formation step.例文帳に追加

本発明に係る電子写真感光体２の製造方法は、筒状の基体２０の内周面におけるインロー部２０ａに個体識別コード２０ｂを形成するコード形成工程と、コード形成工程を経た基体２０の外周面上に感光層２１１を形成する感光層形成工程と、を含む。 - 特許庁

Furthermore, the present invention relates to a micro-optical element manufacturing method characterized in including a surface light emission laser production step of producing a surface light emission layer by performing step formation processing to form the plurality of steps on the substrate, and a lens formation step of integrally forming the lens over all the top face of each of the steps.例文帳に追加

また、基板上に複数の段差部を形成する段差部形成処理を行い、面発光レーザを作製する面発光レーザ作製工程と、それぞれの前記段差部の頂上面の全面にレンズを一体的に形成するレンズ形成工程とを含むことを特徴とする微小光学素子の製造方法である。 - 特許庁

An IC card reader 1 is provided with an optical detection sensor 15 which detects whether the IC card 2 is mounted on an antenna formation surface, and a CPU 11 starts the transmission of a radio wave signal from an antenna 13 to the IC card 2 once the optical detection sensor 15 detects the IC card 2 being mounted on the antenna formation surface.例文帳に追加

ＩＣカードリーダ１は、ＩＣカード２がアンテナ形成面上に載置されたか否かを検出する光検出センサ１５を設け、ＩＣカード２のアンテナ形成面上への載置が光検出センサ１５により検出されると、ＣＰＵ１１はアンテナ１３からＩＣカード２への電波信号の送出を開始させる。 - 特許庁

An inkjet printer 11 as the liquid jet device has a recording head 19 which injects a plurality of different kinds of inks each containing a moisture retaining component from a plurality of nozzle trains 20a to 20h installed on a nozzle formation surface 19a, and a cap 24 which forms a closed space by sealing the nozzle formation surface 19a.例文帳に追加

液体噴射装置としてのインクジェット式プリンタ１１は、それぞれ保湿成分を含む複数種類のインクをノズル形成面１９ａに設けられた複数のノズル列２０ａ〜２０ｈからそれぞれ噴射する記録ヘッド１９と、ノズル形成面１９ａを封止して密閉空間を形成するキャップ２４とを備えている。 - 特許庁

The manufacturing method for a semiconductor device of thin thickness by cutting a semiconductor substrate 1 comprises a film formation process for forming a film 2 in a side surface 1a of a semiconductor substrate which intersects one principal surface 1b of the semiconductor substrate 1, and a cutting process for cutting the semiconductor substrate 1 thinly after the film formation process.例文帳に追加

半導体基板１を削ることによって薄厚の半導体装置を製造する方法であって、 前記半導体基板１の一つの主面１ｂに対して交差する半導体基板の側面１ａに膜２を設ける成膜工程と、 前記成膜工程の後で半導体基板１を薄く削る削工程とを具備する。 - 特許庁

The apparatus for forming the stacked type gas flow conduit has a sheet 1 including a sheet like membrane member 2, a first flow conduit formation part 3 for forming a first gas flow conduit 31 facing one surface of the membrane member 2 and a second flow conduit formation part 4 for forming a second gas flow conduit 41 facing another surface of the membrane member 2.例文帳に追加

積層型ガス流路形成装置は、シート状をなす膜部材２と、膜部材２の一方の表面に対面する第１ガス流路３１を形成する第１流路形成部３と、膜部材２の他方の表面に対面する第２ガス流路４１を形成する第２流路形成部４とを備えるシート１を有している。 - 特許庁

The metal-surface film formation method is characterized in that the film formation is carried out on the metal surface by a wet process using a solution containing a thiol compound or a triazine thiol derivative represented by a specific chemical formula (formula 1, 2, or 3), and next, a fluorine-containing organic compound is film-formed by a dry method.例文帳に追加

金属表面に特定の化学式（化１、化２、又は化３）で示されるトリアジンチオール誘導体もしくはチオール化合物を含む溶液を用いた湿式法によって成膜し、その次に含フッ素有機化合物を乾式法によって成膜することを特徴とする金属表面被膜形成方法である。 - 特許庁

To provide a display body formation pattern for paved surfaces, for easily forming a display body, such as free letters and patterns at a low cost, further, for forming the fine display body free from burrs on the paved surface, and to provide a method of forming the display body on the paved surface using the display body formation pattern for paved surfaces.例文帳に追加

自由な文字や図柄等の表示体を低コストで且つ容易に形成することができ、更に、舗装面に対しバリのないきれいな表示体を形成することができる舗装面用表示体形成型、当該舗装面用表示体形成型を用いた舗装面に対する表示体形成方法を提供する。 - 特許庁

The mark formation method of an optical glass member includes preparation of a glass preform, formation of a coating film including glass particles on the surface of the glass preform, formation of a fused film by fusing glass particles on the surface of the glass preform by irradiating laser light to a predetermined area of the coating film, and pressing of the glass preform with the fused film formed thereon.例文帳に追加

光学ガラス部材のマーク形成方法であって、ガラスプリフォームを用意することと、ガラス粒子を含む被膜を前記ガラスプリフォームの表面に形成することと、被膜の所定の領域にレーザ光を照射することで、ガラス粒子をガラスプリフォームの表面に融着させて融着膜を形成することと、融着膜が形成されたガラスプリフォームをプレスすることを含む光学ガラス部材のマーク形成方法が提供される。 - 特許庁

To provide an integrated circuit chip that has a conductive function film on nearly an entire formation surface, can securely detect failure in the formation of the function film even if circuit characteristics are excellent when checking electric characteristics, and can prevent erroneous judgment.例文帳に追加

導電性の機能膜を形成面の略全体に有するもので、電気特性チェックの際に回路特性が良好であっても機能膜形成不良を確実に検出でき、誤判断をする虞のない集積回路チップを提供する。 - 特許庁

To provide a high functional bonding wires that excel in wire surface properties, linearity of a loop, stability of a loop height, and stability of a wire junction shape and being adaptable to semiconductor mounting techniques such as thinning, narrow pitch formation, long span formation, and three-dimensional mounting.例文帳に追加

ワイヤの表面性状、ループの直線性、ループ高さの安定性、ワイヤの接合形状の安定化に優れている、細線化、狭ピッチ化、ロングスパン化、三次元実装等の半導体実装技術にも適応する、高機能のボンディングワイヤを提供する。 - 特許庁